「w-buffer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A divided frequency circuit W is located at the previous stage of an output buffer circuit Z in the IC chip 8.例文帳に追加

そして、ＩＣチップ８内に出力バッファ回路部Ｚの前段に分周回路部Ｗを配置した。 - 特許庁

The water-soluble preparation for a prefilled syringe or an infusion bag comprises 0.006-0.3 w/w% 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 0.001-2 w/w% sodium bisulfite and 0.001-0.1 w/w% disodium edetate as active ingredients and 1-50 mM citrate buffer solution.例文帳に追加

有効成分として３−メチル−１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン０．００６〜０．３Ｗ／Ｗ％、亜硫酸水素ナトリウム０．００１〜２Ｗ／Ｗ％及びエデト酸２ナトリウム０．００１〜０．１Ｗ／Ｗ％、１〜５０ｍＭクエン酸緩衝液を含有することを特徴とするプレフィルドシリンジ用又は輸液バッグ用の水溶性製剤。 - 特許庁

When the work W is delivered to the buffer device 30 from the conveyance device 12, the buffer device 30 is positioned at a specified position, and when the work W is delivered to the working device, the buffer device is positioned at a specified position by a positioning device in relation to the working device.例文帳に追加

バッファ装置は、搬送装置との間でワークを受け渡す際、位置決め機構により搬送装置に対して所定位置に位置決めされ、加工装置との間でワークを受け渡す際、位置決め機構により加工装置に対して所定位置に位置決めされる。 - 特許庁

The wafer unloader 10 is composed of a case 11 for accommodating the wafer W while the buffer sheet S is being interposed, a transfer arm 13 for successively unloading the wafer W and buffer sheet S from an upper open section 11A of the case 11, and a spray means 14 for separating the buffer sheet S that adheres to the wafer W from the wafer W.例文帳に追加

緩衝シートＳを介在した状態でウエハＷを収納するケース１１と、このケース１１の上部開放部１１ＡからウエハＷ及び緩衝シートＳを順次取り出す移載アーム１３と、ウエハＷに緩衝シートＳが付随したときの当該緩衝シートＳを分離する吹付手段１４とを備えてウエハ取出装置１０が構成されている。 - 特許庁

The processing gas introduced from a processing gas supply part 50 into the buffer space B meanders in the buffer space B and then is discharged toward a surface of a substrate W.例文帳に追加

処理ガス供給部５０からバッファ空間Ｂ内に導入された処理ガスは、バッファ空間Ｂ内を蛇行した上で基板Ｗ表面に向けて吐出される。 - 特許庁

When processing a substrate W, a large amount of micro bubbles are generated in the buffer bath 63 and the micro bubbles are supplied to a process bath 10 from the buffer bath 63.例文帳に追加

そして、基板Ｗの処理を行うときには、バッファ槽６３内に多量のマイクロバブルを生成しておき、そのマイクロバブルをバッファ槽６３から処理槽１０へ供給する。 - 特許庁

In this case, buffer part gradient w, y on the sub-profile 11b side of the cam is formed so as to be larger than buffer part gradient x, z on the main profile 11a side.例文帳に追加

ここでは、同カムのサブプロフィール１１ｂ側の緩衝部勾配ｗ、ｙがメインプロフィール１１ａ側の緩衝部勾配ｘ、ｚよりも大きく形成される。 - 特許庁

In this dry etching method, the primary rear surface of a silicon wafer W is covered with a thermal buffer film 20, and the primary front surface of the silicon wafer W is etched while the thermal buffer film 20 is cooled by blowing a cooling gas or the like.例文帳に追加

本発明のドライエッチング方法においては、シリコンウェーハＷの主裏面側を熱緩衝膜２０で覆い、その熱緩衝膜２０に冷却ガスを吹き付けるなどして冷却しつつシリコンウェーハＷの主表面をエッチングする。 - 特許庁

To effectively use the upper part of a roller conveyor 20 for warehousing as a temporary stocking (buffer stock) space for a commodity W.例文帳に追加

入庫用のローラーコンベア２０の上方を物品Ｗの一時保存（バッファーストック）のスペースとして有効使用する。 - 特許庁

To provide a switch technology without requiring a complicated scheduler for all input output ports required for an input buffer type switch, causing increase in internal processing due to an increase in the number of accommodated ports such as an output buffer type switch and a shared buffer type switch, nor a remarkable increase in the H/W scale.例文帳に追加

本発明は、入力バッファ型スイッチに必要な全入出力ポートを対象にした、複雑なスケジューラがなく、出力バッファ型スイッチや共有バッファ型スイッチのような収容ポート数増加に伴う内部処理速度の高速化を伴わず、また、H/W規模が大幅に増加しないスイッチ技術を提供することにある。 - 特許庁

An input control part 71 takes in serial data DIi (i=0 to 511) from an input buffer 60 and supplies DIAi to a W amplifier 72A and DIBi to a W amplifier 72B.例文帳に追加

入力制御部７１は、入力バッファ６０からのシリアルデータＤＩｉ（ｉ＝０〜５１１）を取り込んで、ＤＩＡｉをＷアンプ７２Ａに、ＤＩＢｉをＷアンプ７２Ｂに供給する。 - 特許庁

The buffer material 31 reduces the pressuring force acting on the work piece W by the electrode member 11, for reducing an impact load.例文帳に追加

緩衝材３１は電極部材１１によって被加工物Ｗに作用する加圧力を緩衝し、衝撃荷重を低減する。 - 特許庁

In the housing part 400, the wafers W and buffer sheets P2 are alternately housed in a box 13B of a carrier case by a transfer arm 401.例文帳に追加

収納部４００では、搬送アーム４０１によってキャリアケースのボックス１３ＢにウェハＷと緩衝シートＰ２とを交互に収納する。 - 特許庁

Therefore, the W/L ratio of transistors composing a DRN drive buffer 140 is made suitable and a control resistor 146 or a current source is inserted between the DRN drive buffer 140 and GND to make an operation current for driving suitable.例文帳に追加

このため、ＤＲＮ駆動バッファ１４０を構成するトランジスタのＷ／Ｌ比の適正化を図る、また制御抵抗１４６や電流源をＧＮＤとの間に挿入して、駆動時の動作電流の適正化を図る。 - 特許庁

This single-sided polishing device is equipped with a movable working machine 2 for polishing a wafer W held by carriers 20-1 and 20-2 by a lower surface plate 1, and a buffer 3 having four pans 31-34 for housing the wafer W.例文帳に追加

片面ポリッシング装置は、キャリア２０−１，２０−２で保持したウエハＷを下定盤１でポリッシングする可動加工機２と、ウエハＷを収納する４つの受け皿３１〜３４を有したバッファ３とを具備している。 - 特許庁

The pitch of a pair of chuck portions 12-1 of a robot 1 is set equal to that of two adjacent magnetic disks W stored in a buffer 101, so that two magnetic disks W are simultaneously transferred to a loader 2 side.例文帳に追加

ロボット１の一対のチャック部１２−１のピッチをバッファ１０１内に収納された隣り合う２枚の磁気ディスクＷのピッチに一致させ、２枚の磁気ディスクＷを同時にローダ２側に搬送する。 - 特許庁

An abutting position between a buffer member 75 of the rod 7 and the stopper surface is set in the range of interval W of the guide surface 421, when viewed in the reciprocating direction X.例文帳に追加

往復動方向Ｘから見たとき、ガイド面４２１の間隔Ｗの範囲内に、ロッド７の緩衝部材７５とストッパ面との当接位置を設定する。 - 特許庁

A panoramic image stored in the internal buffer is scrolled in the right or left direction only by the width w of the slit image prepared in the preceding step (steps 304, 306).例文帳に追加

前段階で作成されたスリット画像の幅ｗだけ内部バッファに貯えられているパノラマ画像を右方向または左方向へスクロールする（ステップ３０４，３０６）。 - 特許庁

A transmission part 26 transmits responses to an R/W 2 by reading and transmitting the responses currently held in a transmission buffer 27 in an order of the addresses at a predetermined timing.例文帳に追加

送信部２６は、所定のタイミングで送信バッファ２７に保持しているレスポンスをアドレス順に読み出して送信することにより、レスポンスをR/W２に対して送信する。 - 特許庁

The thermal buffer film 20 is integrally formed with the silicon wafer W, and a silicon oxide film having a smaller heat conductivity than that of a single crystal or a silicon nitride film is adopted.例文帳に追加

熱緩衝膜２０は、シリコンウェーハＷと一体に形成され、シリコン単結晶よりも熱伝導率の小さいシリコン酸化膜またはシリコン窒化膜が採用される。 - 特許庁

A buffer layer 6 which has a width W wider than the width w of this progressive wave type electrode 3 and is at least partly embedded in the surface layer part of the substrate 1 is formed only in the lower part of the progressive wave type electrode 3.例文帳に追加

そして、進行波型信号電極３の下部のみに、この進行波型信号電極３の幅ωよりも広い幅Ｗを有するとともに、少なくとも一部が基板１の表層部分に埋設したバッファ層６を形成する。 - 特許庁

At the opening end face at the impeller side in the discharge port 24, a diminution part 24a whose opening width W reduces gradually along the rotating direction of the impeller; and a buffer part 24b whose opening width W is almost constant along the rotating direction of the impeller; are provided.例文帳に追加

吐出口２４におけるインペラ側の開口端面に、開口幅Ｗがインペラの回転方向に沿って漸減する漸減部２４ａと、開口幅Ｗがインペラの回転方向に沿ってほぼ一定をなす緩衝部２４ｂを設ける。 - 特許庁

Since a musical sound waveform Out is generated based on a waveform output W which is read through a first waveform buffer 102 small in buffer size in a low speed arithmetic cycle within a fixed period from key-on time, the sound output response is prevented from being degraded at the time or real time performance.例文帳に追加

キーオン時点から一定時間内では低速演算周期下でバッファサイズの小さい第１波形バッファ１０２を介して読み出される波形出力Ｗに基づき楽音波形Ｏｕｔを発生する為、リアルタイム演奏時の発音レスポンスの低下を防ぐ。 - 特許庁

As the musical sound waveform Out is generated based on the waveform output W which is read through a second waveform buffer 104 whose buffer size is large in a high speed arithmetic cycle until key-off time after the fixed period, the sound break is avoided when the arithmetic load of the CPU 10 is increased.例文帳に追加

そして、一定時間経過してからキーオフ時点までは高速演算周期下でバッファサイズの大きい第２波形バッファ１０４を介して読み出される波形出力Ｗに基づき楽音波形Ｏｕｔを発生するので、ＣＰＵ１０の演算負荷が増大した時の音切れを回避する。 - 特許庁

To the furnace body 11 to heat workpieces W, elimination units 43 and 44 are respectively provided to suck cooled and liquefied substances including cooled and solidified components mixed in the inner atmosphere in the furnace body 11 from a buffer chamber 22 in the furnace body 11 and a buffer chamber 29 in a workpiece cooling part 15.例文帳に追加

ワークＷを加熱する炉体11に対し、この炉体11内の雰囲気中に混入している冷却時固化成分を含む冷却時液化物質を炉体11内のバッファ室22およびワーク冷却部15のバッファ室29から吸引して分離除去する除去ユニット43，44をそれぞれ設ける。 - 特許庁

In order to buffer a pressing force being applied to the compound semiconductor wafer W from the mask M upon contact, the compound semiconductor wafer W is held on the wafer holding section 12 through a buffering member, i.e., a rubber sheet 15 as a resilient member.例文帳に追加

マスクＭと化合物半導体ウェーハＷとが接触したときにマスクＭによる化合物半導体ウェーハＷへの押圧力を緩衝するために、化合物半導体ウェーハＷを、緩衝部材をなす弾性部材としてのゴムシート１５を介してウェーハ保持部１２に保持するようにする。 - 特許庁

Electric charges stored in a wafer W to be treated are led out by grounding a transport arm 4 for delivery which comes into contact with the wafer W when the wafer W is transported between the resist coater/ developer 61 and EB aligner 62, the wafer supporting pins 8 of a wafer delivery stage 2, and the leading-out pin 17 of a wafer cassette 6 for buffer through grounding conductors 16.例文帳に追加

レジスト塗布現像装置６１とＥＢ露光装置６２との間で被処理体であるウエハＷを搬送する過程でウエハＷと接触することになる受渡用搬送アーム４，ウエハ受渡しステージ２のウエハ支持ピン８及びバッファ用ウエハカセット６の取出用ピン１７を接地導線１６によって接地しておくことで、ウエハＷに蓄積された電荷を導出させる。 - 特許庁

Since the temperature of the buffer space B is raised by radiant heat of a plate 10 having the temperature raised by a heating part 40, the processing gas is heated by receiving the radiant heat from the plate 10 while flowing in the buffer space B, and the processing gas having had the temperature by heating is discharged toward the substrate W from a discharge port 811.例文帳に追加

バッファ空間Ｂは、加熱部４０により昇温されたプレート１０の輻射熱によって昇温しているので、バッファ空間Ｂ内を流れる間に処理ガスはプレート１０からの輻射熱を受けて加熱され、加熱により昇温した処理ガスが吐出口８１１から基板Ｗに向けて吐出されることになる。 - 特許庁

The loader chamber 10 is equipped with an adapter unit, which is provided corresponding to an RGV (Rail Guided Vehicle) 40 configured to automatically transfer a semiconductor wafer W to a buffer table arrangement portion 13 different from a cassette mounting portion 11, and which holds a plurality of semiconductor wafers W transferred between the RGV 40 and a prober chamber 20.例文帳に追加

本発明のローダ室１０は、カセット載置部１１とは別のバッファテーブル配置部１３に半導体ウエハＷを自動搬送するＲＧＶ４０に対応して設けられ、ＲＧＶ４０及びプローバ室２０それぞれとの間で搬送される半導体ウエハＷを複数保持するアダプタユニットを備えている。 - 特許庁

A precision substrate housing container 10 is housed in a package box 1, and a buffer 20 for releasing the impact on a precision substrate W or the container 10 is interposed between the package box 1 and the container 10.例文帳に追加

包装箱１に精密基板収納容器１０を収納し、包装箱１と精密基板収納容器１０の間に、精密基板Ｗや精密基板収納容器１０に加わる衝撃を和らげる緩衝体２０を介在する。 - 特許庁

A substrate heater 1 comprises: a heater plate 2 on which a wafer W is placed; a heater electrode 3 provided at a lower surface of the heater plater 2; a buffer plate 4 having a coefficient of thermal conductivity which is equivalent to that of the heater plate 2; a cooling plate 5; and multiple pistons 6.例文帳に追加

基板ヒータ１は、ウエハＷを載置するヒータプレート２と、ヒータプレート２の下面に設けられたヒータ電極３と、ヒータプレート２と等しい熱伝導率を有する緩衝プレート４と、冷却プレート５と、複数のピストン６とを備える。 - 特許庁

To improve the absorption of vibrations in the horizontal direction of a buffer restoring body (y) installed while being divided from a bearing body (w), to shorten a time when vibrations are absorbed and stabilized and to effectively reduce seismic force in a seismic isolator for a building.例文帳に追加

建物の免震装置において、支承体ｗと分けて設ける緩衝復元体ｙの、水平方向の振動の吸収作用を向上させ、振動を吸収して安定させるまでの時間を短くして、地震力の低減を効果的にする。 - 特許庁

An active suspension system has a vehicle height adjusting mechanism 1 which makes a vehicle body side member C approach to/separate from a wheel side member, and a buffer mechanism 2 which buffers the vertical input from a wheel W to the vehicle body side member C.例文帳に追加

アクティブサスペンションシステムは、車体側部材Ｃと車輪側部材Ａとを接近または離反させる車高調整機構１と、ホイールＷから車体側部材Ｃへの上下方向入力を緩衝する緩衝機構２とを有している。 - 特許庁

This device for improving protection of ESD in CMOS buffer comprises a plurality of PMOS transistors (31-37) and a plurality of NMOS transistors (41-47) which are connected with the PMOS transistors in series and have a larger finger width W than a finger width W of the PMOS transistors so as to endure the current load increased in case of a static discharge.例文帳に追加

本発明は、複数のＰＭＯＳトランジスタ（３１〜３７）と、このＰＭＯＳトランジスタと直列に接続され、静電放電の場合に増加された電流負荷に耐えることができるようＰＭＯＳトランジスタのフィンガー幅Ｗ_Ｐよりも大きいフィンガー幅Ｗ_Ｎを有する複数のＮＭＯＳトランジスタ（４１〜４７）とを有するＣＭＯＳバッファにおけるＥＳＤ保護を向上させる装置に関する。 - 特許庁

This reagent comprises a substrate having 400-450 nm absorbance of a coloring compound to be dissociated by the action of leucine aminopeptidase, such as L-leucyl-p-nitroanilide, a nonionic surfactant having 0.005-0.01 w/v% final concentration and a buffer solution.例文帳に追加

ロイシンアミノペプチダーゼの作用により解離する発色化合物の吸光度が400 〜450nm である基質、例えばＬ−ロイシル−ｐ−ニトロアニリド、最終濃度が0.005 〜0.01w/v ％である非イオン界面活性剤及び緩衝液を含有することを特徴とするロイシンアミノペプチダーゼ活性測定用試薬。 - 特許庁

An ejection port 11 for ejecting curtain water in a skirt manner is provided on the outer circumferential side of the shield wall 9 at the nozzle tip part 2, and a space between a water curtain W formed by the curtain water ejected from the ejection port 11 and the shield wall 9 forms a buffer chamber 14.例文帳に追加

ノズル先端部２のシールド壁９より外周側にスカート状にカーテン水を噴出する噴出口１１が設けられており、この噴出口１１より噴出されたカーテン水により形成された水カーテンＷとシールド壁９との間の空間が緩衝室１４になっている。 - 特許庁

When "correction" of the handwriting input part is touched so as to correct a retrieval character (string) performed with the character recognition display, the recognition candidate character, corresponding to each the character along the retrieval character (string) performed with the character recognition display, is read from the candidate buffer, and the recognition candidate characters are displayed in a lump as a window W.例文帳に追加

文字認識表示された検索文字（列）を修正するため前記手書き入力部の「訂正」がタッチされると、前記文字認識表示された検索文字（列）に沿って各文字に対応する認識候補文字が前記候補バッファから読み出されてウインドウＷとして一括表示される。 - 特許庁

A guard 7, which projects to a side direction and has a buffer means 71 in its top end part, while the panel fixing member 2 is rotatably supported in the left and right directions against the wall fixing member 1, at a position depart from the wall face W to a front side via the movable connection means 3, is prepared.例文帳に追加

パネル取付用部材２は可動連結手段３を介して壁面Ｗから前方へ離れた位置にて壁固定部材１に対して左右方向に回動自在に支持されると共に、側方に向けて突出してその先端部に緩衝手段７１を有するガード７が設けられている。 - 特許庁

A shock absorber 1, which suppresses the shock given to a fuel assembly 100 stored in a fuel assembly storage cask 200 with its inside soaked in water W is placed at least at one end of the fuel assembly 100 with the absorber 1 soaked in the water W, has an enclosed space 3a inside itself and also includes a buffer 3 which is deformed by the shock to open the enclosed space 3a.例文帳に追加

燃料集合体収納容器２００内が水Ｗに浸された状態で燃料集合体収納容器２００内に収納された燃料集合体１００に与えられる衝撃を抑制する衝撃吸収装置１であって、水Ｗに浸されつつ燃料集合体１００の少なくとも一方の端部に対し配置され、密閉空間３ａを内部に有すると共に、衝撃により変形して密閉空間３ａを開放する緩衝体３を備える。 - 特許庁

Moreover, an opening of the enclosed space 3a through the deformation of the buffer 3 improves makes a region inside the enclosed space 3a serve as an air space A to improve a void rate inside the fuel assembly storage cask 200 and restrain a pressure (internal pressure) in an internal space 201a from rising due to an expansion of the water W in a thermal environmental event.例文帳に追加

しかも、緩衝体３が変形して密閉空間３ａを開放することで、密閉空間３ａ内の領域が空気層Ａとなって燃料集合体収納容器２００内のボイド率が向上され、熱的環境事象において、水Ｗの膨張による内部空間２０１ａの圧力（内圧）の上昇が抑制される。 - 特許庁

The substrate holder comprises a blade 30, a suction pad 34 supported to incline against the blade and having a face for sucking a wafer W, a buffer member 36 for imparting the suction pad with a resilient force in the direction receding from the blade, and means 38 for stopping the suction pad imparted with a resilient force at a specified position.例文帳に追加

本発明の基板保持装置は、ブレード３０と、このブレードに対して傾動可能に支持され、ウェハＷを吸着する吸着面を有する吸着パッド３４と、ブレードから離れる方向に弾性力を吸着パッドに付勢する緩衝部材３６と、緩衝部材による弾性力を受ける吸着パッドを所定位置にて静止させる手段３８とを備える。 - 特許庁