「wet area」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

A porous area 9 is formed by wet etching using a mixture of methanol, a hydrofluoric acid and a hydrogen peroxide in a light-extraction section of the p-type GaN contact layer 6.例文帳に追加

ｐ型ＧａＮコンタクト層６の光取り出し部には、メタノール、フッ酸及び過酸化水素水の混合液を用いたウェットエッチングにより多孔質化領域９が形成されている。 - 特許庁

To provide an electrocatalyst manufacturing method for increasing the effective area of a catalyst metal to achieve the high support of the catalyst metal by using a combination of wet process and drive process.例文帳に追加

ウェットプロセスとドライプロセスを併用することにより、触媒金属の有効面積を大きくでき、しかも触媒金属の高担持を実現することのできる電極触媒の製造方法を提供する。 - 特許庁

After the transistor of an LLD structure is formed on the logic area 102, the silicon oxidation film formed on the side of the gate electrode 3 is removed by wet etching.例文帳に追加

そして、ロジック領域１０２にＬＤＤ構造のトランジスタを形成した後、ゲート電極３の側面に形成されたシリコン酸化膜をウェットエッチングにより除去する。 - 特許庁

To provide a technology capable of increasing the processing capacity, reducing the installation area and lowering the price of a wet etching device while improving the stability and uniformity of etching rate.例文帳に追加

ウエットエッチング装置において、処理能力を高く、設置面積を小さく、装置価格を低く、かつ、エッチングレートの安定性及び均一性を良くすることが可能な技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

This coated cutting tool insert is particularly useful for dry and wet machining, desirably, the milling cutter processing of a non-alloy, a low alloy, high alloy steel and cast iron having or without having an unprocessed surface area.例文帳に追加

本発明は、未加工の表面領域を持つ、または持たない非合金、低合金および高合金鋼ならびに鋳鉄の乾式および湿式機械加工、好ましくはフライス加工に特に有用な被覆切削工具インサートを開示する。 - 特許庁

To solve the problem that etching solution enters between an element separation area and a semiconductor substrate to produce a gap when a semiconductor layer is removed by wet etching.例文帳に追加

ウェットエッチングにより半導体層を除去する際、素子分離領域と半導体基板との間にエッチング溶液が入り込み、空隙が生じる。 - 特許庁

In addition, as the intersection point of the moist-heat adhesive fibers is strong, processing such as slit processing, which makes effective use of wet area per humidification element volume, can be easily performed.例文帳に追加

また、湿熱接着性繊維同士の交点が強固であるため、加湿エレメント体積当りの湿潤面積を有効利用するスリット加工などの加工が容易である。 - 特許庁

Thus, by applying the asbestos scattering-preventing agent to an asbestos-containing substance, the whole area of the asbestos-containing substance as an object to be treated is kept well in a wet state for long terms.例文帳に追加

これにより、本発明のアスベスト飛散防止剤をアスベスト含有物質に適用すると、処理対象となるアスベスト含有物質全域にわたって良好に長期間湿潤状態を保持することができる。 - 特許庁

With the formation of the (111) faces by wet etching and the dissolution of side etching by dry etching, the plate-like structure is accurately formed with a required minimum produced area.例文帳に追加

ウエットエッチングによる（１１１）面の形成と、ドライエッチングによるサイドエッチングの解消により、板状構造体が必要最低限の作製面積で精度良く形成される。 - 特許庁

The method for deprotecting 9-fluorenylmethoxycarbonyl group from the substrate comprises bringing the substrate protected with 9-fluorenylmethoxycarbonyl group into contact with hydrogen by wet system in the presence of a palladium-carbon catalyst in which palladium is fixed on carbon particles having ≥1,000 m^2/g specific surface area.例文帳に追加

9−フルオレニルメトキシカルボニル基で保護された基質を、比表面積1000m^2/g以上の炭素粒子にパラジウムを固定したパラジウムカーボン触媒の存在下で、水素と湿式で接触させる。 - 特許庁

This wet powdery cosmetic liquefying by embrocating, contains (A) a hydrophobicized silicic anhydride having ≥80 m^2/g surface area, (B) a polyalcohol, (C) water, and (D) a ribosome.例文帳に追加

次の成分（Ａ）〜（Ｄ） （Ａ） 比表面積が８０ｍ^２／ｇ以上の疎水化無水ケイ酸 （Ｂ） 多価アルコール （Ｃ） 水 （Ｄ） リポソーム を含有し、塗擦により液化することを特徴とする含水粉末化粧料。 - 特許庁

In the third area 23, the film 62 is contacted with wet air 401 to approximately uniformly condense dew on the exposed surface 62a, thus forming water droplets 65 on the exposed surface 62a.例文帳に追加

第３エリア２３では、湿潤空気４０１との接触により、露出面６２ａでは略一様に結露が生じ、露出面６２ａに水滴６５が形成する。 - 特許庁

Heat flow-out from a fuel nozzle increases compared with that in the fuel supply passage of typical small diameter, by increasing a wet surface area assigned by the fuel supply hole 24 of relatively large diameter.例文帳に追加

比較的直径が大きい燃料供給孔によって与えられる濡れ表面積の増加により典型的な直径が小さい燃料供給路と比べて燃料ノズルの熱流出を増加することができる。 - 特許庁

A resist mask 7 is formed and sequentially a taper-shaped opening 9 is formed in a high resistance interconnection area consisting of the Al alloy film 5 by a dry etch or a wet etch (B).例文帳に追加

レジストマスク７を形成し、続いてドライエッチング又はウェットエッチングによりAl合金膜５の高抵抗配線領域部分にテーパー形状の開口部９を形成する（Ｂ）。 - 特許庁

The recess 6 is sectioned into a plurality of regions by ribs 7 not subjected to wet etching and the area of one recess 6 is increased as much as possible within a range causing no problem of strength in the production process.例文帳に追加

凹部６は、ウエットエッチングを施さず厚みの残ったリブ７によって領域が複数に区切られ、凹部６一つの面積は、製造工程において強度上問題のない範囲で出来るだけ大きく形成されている。 - 特許庁

In a first etching process, the surface of a crystal material is wet-etched using a first etching composite containing a buffered hydrofluoric acid as a main component to perform an etching process over a wide area by a required etching quantity.例文帳に追加

第１エッチング工程において、バッファード弗酸を主成分として含有する第１エッチング組成物を用いて水晶材料の表面をウエットエッチングし、広い範囲で必要なエッチング量だけエッチング加工する。 - 特許庁

To provide a capacitance type touch sensor having a function for validating a switch operation only when it is touched by the finger of a person under a wet area where large amounts of water is adhered to a touch switch.例文帳に追加

タッチスイッチに大量の水が付着する水場環境下において、人の指が触れた場合にのみスイッチ操作を有効にするという機能を持った静電容量型タッチセンサを提供する。 - 特許庁

This wet type image forming device is provided with a means for retaining liquid forming the free boundary of the liquid developer 9 in a prescribed area on the surface of an electrostatic latent image carrier 1.例文帳に追加

本発明の湿式画像形成装置は、静電潜像担持体１の表面における所定の面積において、液体現像剤９の自由界面が生成されるような液滞留用手段が備えられている。 - 特許庁

To reduce a wet area on the skin abutting surface side of an absorptive article by accelerating diffusion more on the lower side than on the upper side in the thickness direction of an absorption layer.例文帳に追加

吸収層の厚み方向の上側よりも下側における拡散をより促進し、吸収性物品の肌当接面側における濡れ面積が減らす。 - 特許庁

The molded material for use in wet area house equipment is characterized by containing the polymethyl methacrylate resin and polytrimethyleneterephthalate resin in a mass ratio of 90:10 to 50:50 as a thermoplastic resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂として、ポリメチルメタクリレート樹脂およびポリトリメチレンテレフタレート樹脂を９０：１０〜５０：５０の質量比で含有することを特徴とする。 - 特許庁

To reduce a usage amount of water for treating a cement kiln extraction gas using a wet dust collector to attain operation cost reduction and correspondence to an area where a sufficient water amount is hardly secured.例文帳に追加

湿式集塵機を用いたセメントキルン抽気ガスの処理にあたっての水の使用量を低減し、運転コスト削減や十分な水量を確保し難い地域への対応を図る。 - 特許庁

A plurality of opening parts 18 that are closed with a rupture disk 19 and communicate the outside wet well 26 with the equipment installation area 20 are formed in the partition floor 17.例文帳に追加

破裂板１９で封鎖された、外側ウエットウエル２６と機器設置エリア２０を連絡する複数の開口部１８が、仕切り床１７に形成される。 - 特許庁

To make both compatible in an improvement in wet performance and on-ice performance by an increase in a pattern edge by crowding arrangement of blocks and the prevention of partial abrasion of a shoulder area of the tread part.例文帳に追加

ブロックの密集配置によるパターンエッジの増大によるウェット性能および氷上性能の向上と、トレッド部のショルダー域の偏摩耗の防止との両立を図る。 - 特許庁

To provide a cabinet in a wet area which secures more safety even when a bowl is broken by some rare accident and secures an effective storage space as well.例文帳に追加

ボウルが万が一破損した場合であってもより安全性を確保すると共に、有効な収納スペースも確保することができる水回りキャビネットを提供すること。 - 特許庁

The wet raw material is stayed into the above atmosphere for the time te=5WOR/SOR (min) or more (wherein, WOR: stuck moisture + Ig. loss (inside content) of an ore and SOR: specific surface area of the ore).例文帳に追加

湿原料を時間ｔ__e ＝５Ｗ_OR／Ｓ_OR（分）以上、上記雰囲気に滞留させる（Ｗ_OR：鉱石の付着水分＋Ｉｇ．ｌｏｓｓ（内数）、Ｓ_OR：鉱石の比表面積）。 - 特許庁

Thereafter, the photosensitive resin layer is removed by means of a wet system using a solution such as a resist separating solution and the organic EL layer and the like thereon in an unnecessary area is also removed.例文帳に追加

その後、レジスト剥離液等の溶液を用いてウェット方式により感光性樹脂層を除去すると共に、その上の不要な有機ＥＬ層等を除去する。 - 特許庁

This separator for capacitor is made of wet type nonwoven fabric containing a high polymer with a melting point or thermal decomposition temperature of 250°C or higher, and its specific surface area is 4 m^2/g or more.例文帳に追加

融点または熱分解温度が２５０℃以上の高分子を含有する湿式不織布からなるキャパシタ用セパレーターであって、比表面積が４ｍ^2／ｇ以上であることを特徴とするキャパシタ用セパレーター。 - 特許庁

A delivered mini-tube and deep well are dehumidified in the carry-in and -out chamber C to prevent the mini-tube and deep well from being carried to a working area under a dew-wet condition.例文帳に追加

出庫したミニチューブやディープウエルは入出庫室Ｃで除湿されるため、露で濡れたままで作業エリアに運ばれることを防止できる。 - 特許庁

To provide a motor valve that suffers no adverse effect and functions normally even if disposed in a plumbed area about a bathtub and the like and in a wet atmosphere.例文帳に追加

浴槽付近等の水周りや湿潤雰囲気下に配設した場合にも悪影響をうけることなく、正常に機能するモータバルブを提供することにある。 - 特許庁

To provide a water-repellent wet-area member, which keeps the water-repellency carried by the surface of a member such as a board body and a sheet body, excels in drainage, and has a convex/concave pattern on the surface.例文帳に追加

ボード体、シート体等の部材の表面に撥水性が付与され、水捌け性に優れるとともに、表面に凹凸模様が設けられた撥水水回り部材を提供する。 - 特許庁

In this marking method, marking on a reference position is performed, by adhering the marking seal 1 to the reference position that is a corner of a marking area in the wet surface 11 of the concrete 10.例文帳に追加

本発明の墨出し方法は、上記墨出しシール１を、コンクリート１０の濡れ表面１１における墨出しエリアの角である基準位置に接着することによって、基準位置に墨出ししたことを特徴とする。 - 特許庁

In this case, a fourth insulating film 106 in an MIM capacitor formation area MIM1 is removed by dry etching up to a depth where the capacity insulating film 105a is not exposed, and then it is removed by wet etching.例文帳に追加

このとき、ＭＩＭキャパシタ形成領域ＭＩＭ１における第４の絶縁膜１０６をドライエッチングにより容量絶縁膜１０５ａが露出しない深さまで除去した後に、ウェットエッチングにより除去する。 - 特許庁

Thus, the sliding condition of washing water in the part to be washed is made various, whereby the size of an area wet by water application can be controlled or kept or a stimulating feeling from applied washing water can be kept.例文帳に追加

こうすることで、被洗浄部における洗浄水の滑りの様子を種々のものとでき、着水による濡れ面積の広狭調整やその維持、或いは着水洗浄水からの刺激感の維持等を図る。 - 特許庁

To provide a device for wet treatment, which is small in size and requires a small occupied area of a device, capable of treating a treated object uniformly with a small quantity of treatment liquid, and treating the treated object continuously without degrading throughput.例文帳に追加

小型で装置の占有面積が小さく、少ない処理液量でも各被処理物の均一な処理が可能で、且つスループットを低下させないように連続して被処理物を処理できるウェット処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for recovering the material disposed in a wet refuse disposer, in which the disposed material flowing down toward a recovering tray from the overflow port of a fermenting tank through an overflow chute can be collected efficiently in the whole area of the recovering tray without clogging the discharge port of the overflow chute.例文帳に追加

発酵槽のオ−バ−フロ−口から溢出しシュ−タを経て回収トレイに落流する処理済物を、シュ−タの排出口部に詰まらせることなく、回収トレイの全域に効率よく収集できるようにする。 - 特許庁

The wet area of liquid droplets is measured as a change in the intensity of the reflected light of total reflection light by utilizing that the total reflection condition to incident light is different by the presence of the wetness of the liquid droplets.例文帳に追加

液滴の濡れ面積は、液滴の濡れの有無で入射光に対する全反射条件が異なる事を利用して、全反射光の反射光強度変化として計測する。 - 特許庁

A function is provided to widen a heat transfer area for direct heat, to prevent a treated object from being aggregation-blocked largely, to enhance the action for the destruction, the decomposition and dispersion, to attain the transpiration in a drier, and to effectuate the wet-air exhaust with priority.例文帳に追加

直接伝熱の伝熱面積の拡大と処理物の集合塊状化の防止並びに破壊、分解、分散の作用を高め乾燥機内の蒸散化を計り湿り空気排気の効率化を優先させた機能を提供する。 - 特許庁

A solder limiting means 13c for limiting the maximum range of wet area of solder 15 is provided in the middle between an inner edge 13aa and an outer edge 13ba.例文帳に追加

内周縁１３ａａと外周縁１３ｂａとの中間部分に、ハンダ１５の濡れ領域の最大範囲を規制するハンダ濡れ領域規制手段１３ｃを設ける。 - 特許庁

A toilet user stretched out the hands to the water discharge area A1, and brings the hands close to the blowoff port 20 by moving the hands upward while drawing the hands near to this side when drying the wet hands after washing the hands by water discharged from the water discharge port 34a.例文帳に追加

トイレ使用者は、該吐水領域Ａ１に手を差し出して吐水口３４ａから吐水された水で手洗を洗った後、濡れた手を乾かすにあたり、手を手前に引き寄せながら上方に移動させて吹出口２０に近づける。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition capable of being performed by a wet film-formation and a molding-working and emitting a light in a visible area of a wave length of 400-800 nm by UV irradiation of a wave length of 200-400 nm to a molded product obtained by the molding-working.例文帳に追加

湿式製膜及び成形加工可能で、成形加工して得られる成形品への波長２００〜４００ｎｍの紫外線照射により波長４００〜８００ｎｍの可視域内で発光する熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition having high impact resistance, high durability in acidic and alkaline environment and improved hot water resistance while keeping the heat-resistance and mechanical properties and suitable for the use in a wet area.例文帳に追加

水廻り部品用途において、耐熱性、機械特性を保持しつつ、耐衝撃性、酸性及びアルカリ性環境下での耐久性を兼備させ、更に耐熱水性を向上させる。 - 特許庁

In the nonexisting area 45, the first sheet 41 and the second sheet 42 are joined so that both these sheets 41, 42 do not peel if the polymer sheet 4 is in a wet condition.例文帳に追加

非存在域４５において第１シート４１と第２シート４２とが接合されており、ポリマーシート４が湿潤状態となってもこれら両シート４１，４２が剥がれないようになされている。 - 特許庁

The specific surface area of the vapor-phase silica or the wet method silica measured by the BET method is preferably smaller than that of the alumina hydrate measured by the BET method.例文帳に追加

気相法シリカまたは湿式法シリカのＢＥＴ法による比表面積が、アルミナ水和物のＢＥＴ法による比表面積よりも小さいと好ましい。 - 特許庁

To provide an optical element molding die for manufacturing a substrate having irregular structure, by a wet system allowing molding even on a curved face with a wide area, not through a lithographic process, and advantageous in aspect of mass production and a facility cost.例文帳に追加

リソグラフィー工程を経ず、曲面にも大面積で形成可能であり、大量生産や設備コスト面で有利な湿式方式によって、凹凸構造を有する基板を作製するための光学素子成形用金型を提供する。 - 特許庁

Thus, since the medium dropped on the body effectively spreads in an entire body to increase a wet area of the body, a so-called dry-out is suppressed.例文帳に追加

これにより、伝熱管本体上に滴下された液冷媒が効果的に伝熱管本体の全体に行き渡り、伝熱管本体の濡れ面積が増大するため、いわゆるドライアウトの発生が抑制される。 - 特許庁