「"High & Dry"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To manufacture a pneumatic tire with high dry road steering stability and durability with few pneumatic failures.例文帳に追加

乾燥路操縦安定性および耐久性が高い空気入りタイヤを、エア入り不良の発生少なく、製造する。 - 特許庁

To produce a laver which holds improved color, gloss, and so on, and further holds a high dry degree over a long time, to provide a method for producing the layer, and to provide the user of the laver.例文帳に追加

色・艶等を向上・保持し、かつ、高い乾燥度を長時間にわたって保持する海苔、その製法および用途の提供。 - 特許庁

To provide a process for producing fermentation products including bioethanol by non-pressurized pretreatment, enzymatic hydrolysis and fermentation of waste fractions containing monosaccharides and/or polysaccharides and having relatively high dry matter content.例文帳に追加

比較的高い乾物含量を有する、単糖類および／または多糖類を含有する廃棄物画分の非加圧−前処理、酵素加水分解および発酵による、バイオエタノールを含む発酵産物の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, having a high dry etching rate compared to the photoresist and giving a wide focus depth margin.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、広いフォーカス深度マージンを与える、リソグラフィー用反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern free of swelling and excellent in resolution while having a chemical structure transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser beam and having high dry etching resistance.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域において透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist additive having high dry etching resistance and high acid functionality, exhibiting high compatibility to a resist resin and high solubility in a resist solvent and enabling the increase of the addition amount of the additive.例文帳に追加

高いドライエッチング耐性と高い酸官能性を持ち、かつレジスト樹脂との相溶性やレジスト溶媒への溶解性が高く、添加量を増加することができるレジスト添加剤を提供する。 - 特許庁

To provide an organic antireflection forming material that is deposited in the same process as the conventional art, effectively prevents reflection of exposure light with an antireflective coating, has high dry etching speed, and is useful for forming a fine pattern.例文帳に追加

従来と同じプロセスで成膜可能で、その反射防止膜は効果的に露光光の反射を防止し、更に、高いドライエッチング速度を兼ね備え、微細パターン形成に有用である有機反射防止形成材料を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, does not swell while having such a chemical structure as to ensure high dry etching resistance and has superior resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic heater having a durable heater, and a gas sensor element using the ceramic heater by coating a base composed of unfired ceramics with a resistor ink of a high dry density.例文帳に追加

乾燥密度が高い抵抗体インクをセラミック未焼成体からなる基体に塗布することにより、耐久性が優れた発熱体を有するセラミックヒータ、及びこれを用いたガスセンサ素子を得る。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.例文帳に追加

遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a polymer composition for resist, which forms a resist pattern having high dry-etching resistance, and also to provide a method of manufacturing a resist composition.例文帳に追加

高いドライエッチング耐性を有するレジストパターンを形成できるレジスト用重合体組成物およびレジスト組成物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprint which has superior pattern formation performance even if pattern forming is repeatedly performed, and satisfies high dry etching resistance.例文帳に追加

繰り返しパターン形成を行っても良好なパターン形成性を有し、さらに高ドライエッチング耐性を満たすインプリント用硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a copolymer latex composition containing little fine coagulate and capable of producing a nonwoven fabric having excellent thermal discoloration resistance while keeping high dry strength and wet strength.例文帳に追加

微細凝集物の含有量が少なく、乾燥強度および湿潤強度を高く維持しながら、耐熱変色性に優れる不織布を製造し得る共重合体ラテックス組成物を提供する。 - 特許庁

At the time when a pasty material is treated, the material is transported through the holes (62) of a perforated board (42) in a granulator in a state where it has a relatively high dry fraction of 40 to 75%.例文帳に追加

ペースト状の材料物質を処理するに際し、同材料物質が４０から７５％の比較的高い乾燥分率を有している状態で製粒機の穴あき板（４２）の穴（６２）を通して搬送される。 - 特許庁

When the block- shaped land part 18 comes in contact with the snow surface, wall surfaces of the sipe 20 formed zigzag strongly come in contact with each other, and since the stiffness of the block-shaped land part 18 is increased, high dry performance can be obtained.例文帳に追加

ブロック状陸部１８が接地した時、ジグザグ状に形成されたサイプ２０の壁面同士が強く圧接してブロック状陸部１８の剛性が高まるので高いドライ性能が得られる。 - 特許庁

To obtain a cellulose yarn having high dry and wet strengths and Young's modulus and greatly improved fibrillation resistance characteristics, which has not been sufficiently solved in known conventional method, by a production method friendly to the global environment.例文帳に追加

地球環境に優しい製造法で、乾湿時の強度やヤング率が高く、しかも従来公知の方法では十分に解決されていなかった耐フィブリル化特性が格段に改善されたセルロース繊維を提供する。 - 特許庁

To provide a nanofiltration membrane process for producing liquid low DE starch hydrolysates having<about 25 DE and<about 5 polydispersibility index, particularly in their liquid form which are eventually substantially retrogradation free, and have lower viscosity at high dry solids compared to conventional products.例文帳に追加

ナノろ過分別による低ＤＥデンプン加水分解物製造方法、それによって得られる生成物、及びそれらの生成物の使用を提供する。 - 特許庁

To provide a gateway frame of a carbonizing oven, preventing its partial loss by fusion caused by a high dry distillation temperature of coal particles and also reducing the occurring of deformation and crack such as C-shaped warpage, curved deformation, etc., caused by an effect from unavoidable expansion.例文帳に追加

石炭粒子の高い乾留温度による部分溶損を防止しかつ不可避的な膨張による影響で生じるＣ形反りや湾曲変形などの変形と亀裂の発生を少なめた炭化炉口枠を提供する。 - 特許庁

To provide an extremely easily treatable pollution-free composition for precious metal clay which barely sticks to hand, has a moderate water-retention and stickiness, a strong adhesive strength, excellent moldability and a high dry strength, is hard to be cracked and can be re-kneaded.例文帳に追加

無公害で、手への付着もほとんどなく、適度の保水性、粘り気、強い粘着力、優れた造形性を有し、しかも乾燥強度に強く、ひび割れし難く、練り直しもできる、非常に扱い易い貴金属粘土組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a segment type slide bearing capable of stably supporting a rotary shaft even under conditions of high dry operation frequency and long continuance of dry operation.例文帳に追加

ドライ運転頻度が高い条件や、ドライ運転が長時間継続される条件でも、回転軸を安定支持することができるセグメント型すべり軸受を提供する。 - 特許庁

To provide a packaging bag for cold cake which is capable of demonstrating the hygroscopic performance uniformly excellent over the entire content and has the crispy feeling capable of maintaining the content in a considerably high dry state.例文帳に追加

内容物全体に均一に優れた吸湿性能を発揮し、内容物を極めて高い乾燥状態に維持しうるクリスピー感を有する冷菓用包装袋を提供する。 - 特許庁

To provide a pollution-free, ideal precious metal clay composition which barely sticks to the hand, has a moderate water-retention and stickiness, a strong adhesive strength and a high dry strength and is excellent in moldability.例文帳に追加

無公害で、手への付着もほとんどなく、適度の保水性、粘り気、強い粘着力、優れた造形性を有し、しかも乾燥強度も強いという、理想的な貴金属粘土組成物を提供する。 - 特許庁

The video signal line of this material composition satisfies requirements of high dry-etching resistance, low resistance, low ACF contact resistance, low side-etching amount, forward tapered wiring cross section form, and 2 or less number of laminations.例文帳に追加

この材料構成の映像信号線により、高ドライエッチング耐性，低抵抗，低ＡＣＦ接触抵抗，低サイドエッチング量，順テーパ状配線断面形状，積層数２以下の各要件を満たす。 - 特許庁

To provide an antireflection film for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist, having a high dry etching rate compared to the photoresist and giving a wide focus depth margin.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジストとのインターミキシングを起こさず、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、広いフォーカス深度マージンを達成できる、リソグラフィー用反射防止膜を提供すること。 - 特許庁

To provide an antireflection film composition for lithography having a high antireflection effect, causing no intermixing with a photoresist layer, giving an excellent photoresist pattern, having a high dry etching rate compared to a photoresist and having excellent thermal stability.例文帳に追加

反射光防止効果が高く、フォトレジスト層とのインターミキシングが起こらず、優れたフォトレジストパターンが得られ、フォトレジストに比較して大きなドライエッチング速度を有し、熱安定性に優れたリソグラフィー用反射防止膜組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a resin for a resist usable in a photosensitive composition excellent in transparency to short wavelength light, having high dry etching resistance and capable of forming a resist pattern having good resolution and high adhesion by alkali development and a monomer for producing the resin.例文帳に追加

短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂およびそれを製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type resist composition containing a resin component and an acid generator, suitable for excimer laser lithography using ArF, KrF or the like, excellent in performance balance of resolution and sensitivity and having high dry etching resistance.例文帳に追加

樹脂成分と酸発生剤を含有し、ＡｒＦやＫｒＦなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、解像度、感度の性能バランスに優れ、高いドライエッチング耐性を有する組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a monomer for producing a resin for a resist, the resin being used in a photosensitive composition which can form a resist pattern having high dry etching resistance and excellent transparency to short wavelength light, good resolving properties with an alkaline development, and high adhesiveness.例文帳に追加

短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂を製造するためのモノマーの提供。 - 特許庁

The processing treatment of the production process is carried out in total, from the non-pressurized pretreatment over enzymatic hydrolysis and fermentation to sorting of fermentable and non-fermentable solids, at a relatively high dry matter content in a single vessel or a similar device using free fall mixing for the mechanical processing of the waste fractions.例文帳に追加

全体として、酵素加水分解および発酵にわたる非加圧−前処理から、発酵可能および非−発酵可能な固形物の分類まで、単一の容器または廃棄物画分の機械的加工処理に自由落下混合を用いる同様のデバイスで、比較的高い乾物含量で加工処理する方法。 - 特許庁

To provide an adamantane-based polymer having a high dry etching resistance and an excellent penetrating property to a lower wave length light, and especially suitable for a film-forming composition of a photoresist-forming component used for an ArF excimer laser light or a F2 excimer laser light, and a photoresist composition by using the same.例文帳に追加

高いドライエッチング耐性能と短波長の光に対して優れた透過性を有し、特にArFエキシマレーザー光やF_２エキシマレーザー光用などのフォトレジスト組成物の被膜形成成分として好適なアダマンタン系重合体、及びそれを用いたフォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The processing treatment of the production process is carried out, from the non-pressurized pretreatment over enzymatic hydrolysis and fermentation to sorting of fermentable and non-fermentable solids, at a relatively high dry matter content in a single vessel or a similar device using free fall mixing for the mechanical processing of the waste fractions.例文帳に追加

酵素加水分解および発酵にわたる非加圧−前処理から、発酵可能および非−発酵可能な固形物の分類まで、単一の容器または廃棄物画分の機械的加工処理に自由落下混合を用いる同様のデバイスで、比較的高い乾物含量で加工処理する。 - 特許庁

This resist material uses a polymer compound comprising at least a repeating unit of formula (a) containing a naphthalene ring having a specific oxygen-containing substituent on a side chain, and a repeating unit of formula (b) having a specific sulfonium salt group on a side chain, as indispensable units, and thereby, high dry etching resistance is achieved.例文帳に追加

少なくとも、特定の酸素含有置換基を有するナフタレン環を側鎖に含む繰り返し単位（ａ）及び特定のスルホニウム塩基を側鎖に有する繰り返し単位（ｂ）を必須単位として含む高分子化合物をレジスト材料として使用することで高いドライエッチング耐性が得られる。 - 特許庁

To obtain a polypropylene resin composition which has an excellent appearance when it is molded because flowmarks do not easily, its dye swell is high, dry spots appear less often, or the like, and has an excellent balance of rigidity and toughness, and to provide its preparation process and an injection molded body comprising the same.例文帳に追加

成形体にした場合、フローマークの発生が起こりにくく、即ち、ダイスウェルが高く、ブツの発生が少ない等の外観に優れ、かつ剛性と靭性のバランスに優れたポリプロピレン系樹脂組成物、その製造方法およびそれからなる射出成形体を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for positive photoresist, in which a polymer itself can be solubilized upon irradiation with light, even if the polymer has an adamantane skeleton, and which has high etching resistance (in particular, high dry etching resistance) and can form a fine pattern, using a simple composition with high accuracy.例文帳に追加

アダマンタン骨格を有していても、光照射によりポリマーそのものを可溶化でき、耐エッチング性（特に耐ドライエッチング性）が高く、簡単な組成で微細なパターンを高い精度で形成できるポジ型フォトレジスト用樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coating liquid for forming an intermediate layer of a multilayer resist, the coating liquid having high dry etching durability, causing no mixing or dissolution with other layers, and capable of preventing a stationary wave effect by UV absorption, and to provide a method for forming a pattern using the coating liquid.例文帳に追加

ドライエッチング耐性が高く、他層とのミキシングや溶解を起こさず、また紫外光吸収により定在波効果を防ぐことのできる多層レジスト中間層形成用塗布液及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste containing conductive metal powder without being easily oxidized in a process of binder removal or baking, and having high dry density after printing, in a conductive paste for an internal electrode used for an electronic part such as a laminated capacitor, and to provide an electronic part having an excellent dielectric characteristic and high reliability.例文帳に追加

積層セラミックコンデンサなどの電子部品に用いられる内部電極用の導電性ペーストにおいて、脱バインダや焼成の過程における導電性金属粉末の酸化が少なく、且つ、印刷後の乾燥密度が高い導電性ペーストを提供するとともに誘電的特性と信頼性に優れる電子部品を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition suitable for use under an exposure light source of ≤250 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm), and to specifically provide a positive resist composition exhibiting satisfactory transmittance when a light source of 157 nm is used, having high dry etching resistance, and excellent in line edge roughness and image forming properties.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特にＦ_2エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、耐ドライエッチング性が高く、ラインエッジラフネス特性に優れ、画像形成性の諸特性に優れたポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁