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該当件数 : 630



例文

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition comprises: a low molecular weight compound (1) having a molecular weight of 500 to 5,000 containing an acid-decomposable group (G) that is decomposed by an action of an acid to accelerate the dissolution in an alkali developing solution; and a compound (2) capable of generating an acid of 305 Å^3 or more in volume upon irradiation with actinic rays or radiation.例文帳に追加

酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を促進させる酸分解性基(G)を有する分子量500〜5000の低分子化合物(1)および、活性光線又は放射線の照射により体積305Å^3以上の酸を発生する化合物(2)を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性組成物。 - 特許庁

In the case the depth by which the peak value of an oxygen profile measured by an X-ray microanalyzer of the surface after the hot rolling of a laminated material obtained by laminating an Al-Si brazing filler metal on the surface of a core material composed of aluminum or an aluminum alloy reaches 1/2 is defined as a surface oxidized film thickness, the surface oxidized film thickness is ≤250 Å.例文帳に追加

アルミニウム又はアルミニウム合金からなる芯材の表面にAl−Si系ろう材が積層された積層材が熱間圧延された後の表面のX線マイクロアナライザで測定される酸素プロファイルのピーク値が1/2となる深さを表面酸化膜厚さとすると、その表面酸化膜厚さは250Å以下である。 - 特許庁

When a film forming gas, such as an SiH4 gas containing siliane, is supplied from the gas supply part 31 onto the surface of the wafer W to form a silicon film, a film can be formed while appropriately embedding a silicon film into a recessed part being formed on the surface of the wafer W, even at a film formation rate of 300 Å/minute or higher.例文帳に追加

このガス供給部31からシランを含む成膜ガス例えばSiH4 ガスをウエハW表面に供給してシリコン膜を形成すると、300オングストロ−ム/分以上の成膜速度であっても、ウエハW表面に形成された凹部にシリコン膜を良好に埋め込みながら成膜を行うことができる。 - 特許庁

In the halftone phase shifting mask blank 1 having a phase shifter film 5, the phase shifter film 5 has a phase adjusting layer 4 which chiefly controls the phase of exposure light and a transmittance adjusting layer 3 formed between a transparent substrate 2 and the phase adjusting layer 4 and having a function to chiefly control the transmittance of exposure light, and the thickness of the transmittance adjusting layer 3 is90 Å.例文帳に追加

位相シフター膜5を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランク1において、前記位相シフター膜5は、主に露光光の位相を制御する位相調整層4と、透明基板2と位相調整層4との間に形成され主に露光光の透過率を制御する機能を有すると透過率調整層3とを有し、前記透過率調整層3の膜厚が、90オングストローム以下であることを特徴とする。 - 特許庁

例文

Anisotropic etching of silicon is carried out by using the etching solution which contains a metal compound and has ≥18×10^3 Å/minute etching speed of a (110) plane at 80°C and a ≥1.7 etching speed ratio (110)/(100) of a (100) plane orientation to a (110) plane orientation at 80°C.例文帳に追加

シリコンの異方性エッチングに用いるエッチング液は、金属化合物を含有し、80℃における(110)面のエッチング速度が18×10^3Å/分以上であり、かつ80℃における(110)面面方位と(100)面面方位のエッチング速度比(110)/(100)が1.7以上であるエッチング液を用いてエッチングする。 - 特許庁


例文

This funnel for the cathode-ray tube is composed of lead-containing glass having a PbO content of 10-30 mass% and an X-ray absorption coefficient at 0.6 Å of 40 cm^-1 or more, where the lead-containing glass contains Cl of 0.01-0.1 mass%.例文帳に追加

本発明の陰極線管用ファンネルは、PbO含有量が10〜30質量%であり、0.6ÅにおけるX線吸収係数が40cm^-1以上である鉛含有ガラスからなる陰極線管用ファンネルにおいて、前記鉛含有ガラスが、Clを0.01〜0.1質量%含有することを特徴とする。 - 特許庁

In the catalyst-carrying carbon material made by carrying catalyst particles on the carbon material, the carbon material has true density of 1.80 to 2.11 g/cm^3, lattice plane interval d_002 of 3.36 to 3.50 Å and BET specific surface area of 20 to 230 m^2/g.例文帳に追加

本発明は、炭素材に触媒粒子が担持されてなる触媒担持炭素材において、前記炭素材は、真密度が1.80〜2.11g/cm^3、格子面間隔d_002が3.36〜3.50Å、BET比表面積が20〜230m^2/gであることを特徴とする触媒担持炭素材により上記課題を解決する。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor has a photosensitive layer on a conductive support, and the photosensitive layer contains a phthalocyanine pigment having a maximum peak at 27.2±0.2° of Bragg anglebased on X-ray diffraction spectra using a Cu-Kα characteristic X-ray (wavelength 1.541 Å), and polyglutamic acid.例文帳に追加

導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であって、該感光層が、Cu−Kα特性X線(波長1.541Å)を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角2θが27.2±0.2°に、最大ピークを有するフタロシアニン顔料およびポリグルタミン酸を含有することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

The lithium nickel cobalt manganese composite oxide is represented by the composition formula of Li[Ni_1/3Co_1/3Mn_1/3]O_2 in which the actual atomic ratio of nickel, cobalt, and manganese is 1:1:1, has high crystalline layered structure of a rhombohedral system, and the length of a C axis belonging as a hexagonal system is 14.15 Å or more.例文帳に追加

本発明にかかるリチウムニッケルコバルトマンガン複合酸化物は、ニッケルとコバルトとマンガンの原子比が実質的に1:1:1である、Li[Ni_1/3Co_1/3Mn_1/3]O_2なる組成式で表されるものであり、高結晶性の層状構造を有し、菱面体晶系に属し、六方晶系として帰属したC軸の長さが14.15オングストローム以上であることを特徴とする。 - 特許庁

例文

The catalyst composition contains a pair of cationic metal complexes containing at least one metallic pair, i.e., a complex of a specific structure that a first metal selected from Cu, Fe, Co, Ru, Rh, Cr and Mn and a second metal selected from Ni, Pd, Cu, Fe, Co, Rh, Cr and Mn have an interneclear distance of 1.5-20 Å.例文帳に追加

少なくとも1つの金属対を含有するカチオン性金属対錯体であって、Cu、Fe、Co、Ru、Rh、Cr、Mnから選択される第1の金属とNi、Pd、Cu、Fe、Co、Rh、Cr、Mnから選択される第2の金属とが1.5〜20オングストロームの核間距離を有する特定構造の錯体を含む触媒組成物。 - 特許庁

例文

In this through hole inspection method for the insulating ceramic sheet, both faces of the sheet are clamped between two electrode plates arranged in parallel to each other, and when an electric discharge current generated by impression of a direct current high voltage between the electrodes is detected, the existence/absence of the through hole possibly formed in the ceramic sheet and provided with a minimum length of 2 Å or more is inspected.例文帳に追加

絶縁性セラミックシートの貫通孔を検査する方法であって、該シートの両面を、平行に配置される2枚の電極板で挟み、該電極間に直流高電圧を印加したときに発生する放電電流を検出することにより、該セラミックシート中に存在することのある孔の最短長2Å以上の貫通孔の有無を検査する。 - 特許庁

This electrophotographic photoreceptor is provided on a conductive substrate with a photosensitive layer formed by using the coating fluid prepared by dispersing the titanyloxyphthalocyanine having a maximum peak in Bragg angle (2θ±0.2°) of 27.2° to the X-rays of CuKα 1.541 Å, together with a styrene-butadiene copolymer resin into a solvent.例文帳に追加

導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、CuKα1.541オングストロームのX線に対するブラッグ角(2θ±0.2°)が27.2°に最大ピークを示すチタニルオキシフタロシアニンをスチレン−ブタジエン共重合樹脂とともに溶媒中で分散することにより作製された電子写真感光体製造用塗液を用いて感光層を形成する。 - 特許庁

This deoxidizer comprises a low molecular weight phenol compound and activated carbon, wherein the activated carbon is ≥8.5 in pH, 0.1 to 10 wt.% in moisture content, 1,500 ppm in iron content and ≥0.3 ml/g in cumulative pore volume relative to the pore diameters of300 Å.例文帳に追加

低分子フェノール化合物と活性炭とからなる脱酸素剤において、該活性炭のpH値が8.5以上、水分含有率が0.1重量%〜10重量%、鉄含有率が1500ppm以下、及び細孔直径300オングストローム以下の累積細孔容積が0.3ml/g以上であることを特徴とする脱酸素剤。 - 特許庁

The polyketone particles have an average particle size of around 5-10,000 μm, preferably around 15-500 μm, at least around 0.1 cm^3/g pore volume, at least around 500-10,000 Å pore diameter and around 0.2-50 m^2/g surface area.例文帳に追加

脂肪族ポリケトン粒子は、約5から約10,000μmまで、好ましくは、約15から約500μmまでの平均粒径、少なくとも約0.1cm^3/gの細孔容積、少なくとも約500から約10,000オングストロームまでの細孔直径および約0.2m^2/gから約50m^2/gまでの表面積を有する。 - 特許庁

The inhibition layer is removed by using a chemical liquid comprising tetraalkylammonium hydroxide, alkanolamine, sugar alcohol having a carbon number of not less than 5, at least one kind selected from acids and acidic salts, and the balance water, and showing a rate of not more than 2,000 Å/min for dissolving the organic film pattern 4 in a portion except for the inhibition layer.例文帳に追加

水酸化テトラアルキルアンモニウム、アルカノールアミン、炭素数が5以上の糖アルコール、酸及び酸性塩から選択される少なくとも1種、及び残部の水からなり、有機膜パターン4における阻害層以外の部分を溶解させる速度が、室温において、2000Å/分以下である薬液を用いて、阻害層を除去する。 - 特許庁

This method for desulfurizing a cracked gasoline fraction is characterized in that the desulfurization is performed by using a desulfurization catalyst prepared by accumulating coke on the surface of a catalyst which comprises an inorganic oxide carrying a desulfurization activating metal and has a mean pore diameter of 85or larger, with the amount of the coke accumulated being 30-50 wt.% based on the weight of the catalyst.例文帳に追加

無機酸化物担体に脱硫活性金属を担持してなる平均細孔径が85Å以上の触媒の表面に、上記触媒重量の30〜50重量%のコークを蓄積させてなる脱硫触媒を用いて分解ガソリン留分を脱硫することを特徴とする分解ガソリン留分の脱硫方法。 - 特許庁

The fine titanium dioxide particles comprise titanium dioxide containing an iron compound, have an acicular form and are formed by increasing the fineness of crystallites constituting titanium dioxide, wherein the mean value of major axis size of the acicular form is in the range of 0.005-0.15 μm and the mean value of the crystallites is in the range of 40-175 Å.例文帳に追加

本発明の二酸化チタン微粒子は、鉄化合物を含有した二酸化チタンであり、針状形状を有し、二酸化チタンを構成する結晶子を微細にしたものであり、針状形状の長軸径の平均値が0.005〜0.15μmの範囲であり、その結晶子の平均値が40〜175Åの範囲である。 - 特許庁

The electrooptical device provided with a element substrate 1 having a pixel electrode 3, is characterized in that the pixel electrode 3 is made of a highly electrically conductive metal with ruggedness; a transparent electrically conductive layer 5 is arranged on the surface of the highly electrically conductive metal; and the transparent electrically conductive layer has a 100-500 Å thickness.例文帳に追加

画素電極3を有する素子基板1を備えた電気光学装置において、前記画素電極3は凹凸を有する高導電性金属からなり、前記高導電性金属の表面には透明導電体層5が配置されてなり、前記透明導電体層は100〜500オングストロームの膜厚を有することを特徴とする。 - 特許庁

A hydrogen barrier layer 32, wherein a capacitor 14 provided with an upper part electrode 28 comprising an electrostatic capacity film 26 of a PZT film and a laminated metal film of IrO2 film/Ir film is coated so that a hydrogen is prevented from approaching the capacitor 14 for contact, is an SiON film of thickness 600 Å which is film-formed by a plasma CVD method.例文帳に追加

PZT膜からなる静電容量膜26及びIrO_2 膜/Ir膜の積層金属膜からなる上部電極28を有するキャパシタ14を被覆して、水素がキャパシタ14に近接し、接触するのを防止する水素バリヤ層32が、プラズマCVD法で成膜した、膜厚600ÅのSiON膜である。 - 特許庁

The organic electroluminescent element has a luminescence layer 4 and an electron carrier layer 5 between an anode 2 and a cathode 6, and between the luminescent layer 4 and the electron carrier layer 5, an intermediate layer 7 having a thickness 10-200 Å is provided, the intermediate layer is formed from material having larger ionization potential than that of the material used for the luminescent layer 4.例文帳に追加

陽極2と陰極6との間に少なくとも発光層4および電子輸送層5を有する有機EL素子の発光層4と電子輸送層5との間に、発光層4に用いられている材料よりも大きいイオン化ポテンシャルを有する材料からなる10〜200Åの膜厚の中間層7を設ける。 - 特許庁

This organic halogen compound decomposition catalyst contains titanium oxide, vanadium oxide and further, if necessary, molybdenum oxide, wherein the pore size distribution of the catalyst measured by the gaseous nitrogen adsorption method has a peak within a pore size range of 30-50 Åand also the total pore volume of pores having pore size within the range of 30-150 Å is ≥0.1 cc/g.例文帳に追加

本発明に係る有機ハロゲン化合物分解触媒は、チタン酸化物とバナジウム酸化物、更に必要によりモリブデン酸化物を含有する有機ハロゲン化合物の分解触媒であって、窒素ガス吸着法で測定した細孔径分布が、30〜150Åの範囲内にピークを有し、かつ、30〜150Åの範囲内の細孔容積が0.1cc/g以上であることを特徴とする。 - 特許庁

The added element is composed of a monovalent ion (first added element ion) 32 having a monovalent ion valency, a trivalent ion (second added element ion) 33 having a trivalent ion valency, and six-coordination ion radiuses of the first and the second added element are within the ion radius ±0.1 Å of Mg ion (alkaline earth metal ion) 31 constituting the base material respectively.例文帳に追加

添加元素は、1価のイオン価数を有する1価イオン(第1添加元素イオン)32、および3価のイオン価数を有する3価イオン(第2添加元素イオン)33からなり、第1および第2添加元素の6配位イオン半径は、それぞれ、母材を構成するMgイオン(アルカリ土類金属イオン)31のイオン半径±0.1Å以内である。 - 特許庁

A laminate of the thick film, a pattern and the like are formed using the negative resist composition for a thick film comprising a photoacid generator (A) represented by formula (1), a phenolic resin (B) having an ADR (alkali dissolution rate) of ≥1,000 Å/s, and an epoxy resin (C) having two or more epoxy resins per molecule.例文帳に追加

下記式(1)で表される光酸発生剤(A)、ADR(アルカリ溶解速度)が1000Å/s以上であるフェノール樹脂(B)及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂(C)を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。 - 特許庁

By substituting deuterium for hydrogen except arbitrary hydrogens (referred to as 'specific hydrogen', below) existing in the side-chains of a protein as one molecule among a plurality of molecules comprising a complex, the position of specific hydrogens existing within 10 Å from the hydrogens contained in other molecules adjoining the protein is determined based on a cross saturation phenomena using NMR method.例文帳に追加

複合体を構成する複数の分子のうち、一の分子である蛋白質の側鎖に存在する任意の水素(以下、「特定水素」と称する。)を除く水素を重水素に置換して、NMR法を使用して交差飽和現象(Cross saturation phenomena)により、当該蛋白質に隣接する他の分子に含まれる水素から10Å以内に存在する特定水素の位置を決定する。 - 特許庁

A layered silica-metal oxide porous body has a structure obtained by forming an interlayer cross-linkage of SiO_2 by dehydration condensation of silicic acid between lamellar crystals of silicon tetrahedrons SiO_4, has numerous pores of10diameter and has solid acidity exhibited by bonding atoms of a metal different from silicon to the lamellar crystals.例文帳に追加

珪素四面体SiO_4 の層状結晶の間に珪酸の脱水縮合によるSiO__2 の層間架橋が形成された構造を有するとともに、10Å以上の径の多数の細孔を備え、且つ前記層状結晶に珪素と異なる金属原子が結合することにより発現した固体酸性を備えていることを特徴とする層状シリカ−金属酸化物多孔体。 - 特許庁

In the copper-coated plastic substrate obtained by directly forming the seed layer on both surfaces or one surface of a plastic film without using an adhesive and forming the copper conductor layer on the seed layer, the seed layer comprises a nickel-chromium alloy with a chromium concentration of 15-40 wt.% and the thickness thereof is 10-150 Å.例文帳に追加

プラスチックフィルムの両面または片面に、接着剤を介さずに直接、シード層を形成し、そのシード層上に銅導体層を形成してなる銅被覆プラスチック基板において、シード層は、クロム濃度が15重量%以上40重量%以下であるニッケルクロム合金からなり、かつその膜厚は10Å以上150Å以下であることを特徴とする銅被覆プラスチック基板などによって提供。 - 特許庁

The group III nitride epitaxial substrate is provided with a base material composed of a single crystal material such as sapphire or SiC, the group III nitride base film formed by epitaxial growth on the base material and containing at least Al, and a GaN film formed on the group III nitride base film and having preferably50 Å thickness.例文帳に追加

サファイア・SiCなどの単結晶材料からなる基材と、この基材上にエピタキシャル成長により形成された少なくともAlを含むIII族窒化物下地膜と、このIII族窒化物下地膜上に形成された、好ましくは50Å以上の厚さを有するGaN膜とを具えたIII族窒化物エピタキシャル基板である。 - 特許庁

The composition of a chemically amplified positive radiation sensitive resin composition is controlled in such a way that the film thickness of the unexposed part of a resist film comprising the radiation sensitive resin composition is reduced after wet development from the film thickness before wet development by 100-400 Å.例文帳に追加

化学増幅ポジ型感放射線性樹脂組成物からなるレジスト膜の未露光部の膜厚が、湿式現像後において、湿式現像前の膜厚よりも100オングストローム〜400オングストロームの範囲で減少するように、該化学増幅ポジ型感放射線性樹脂組成物の組成を制御することを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 特許庁

A transparent conductive film 11 and a conductive network 12 composed of a conductive material whose resistivity is lower than that of the transparent conductive film 11, having a line width of50 μm and thickness of200 Å and arrayed like a net use a transparent electrode substrate 1 laminated on a flexible transparent substrate 10 as at least one electrode.例文帳に追加

透明導電膜11と、透明導電膜11よりも抵抗率が小さい導電性材料からなる線幅が50μm以下であり、厚みが200Å以上である網目状に配列した導電ネットワーク12と、が可撓性透明基板10の上に積層された透明電極基板1を少なくとも一方の電極としている。 - 特許庁

The magnetic recording medium is obtained by disposing one or more magnetic recording layers 3 on a nonmagnetic substrate 1 by way of one or more soft magnetic layers 2.例文帳に追加

非磁性基板1上に少なくとも1層以上の軟磁性層2を介して、1層以上の磁気記録層3を設けてなる磁気記録媒体であって、該磁気記録媒体の表面粗さ(Ra)が50Å以下であり、該軟磁性層2の最大透磁率(μmax)と膜厚(t)の積(μmax×t)が1000000(H・Å/m)以上である磁気記録媒体。 - 特許庁

In the funnel for the cathode-ray tube comprising lead-containing glass containing PbO in an amount of 10-30 mass% and having an X-ray absorption coefficient at 0.6 Å of40 cm^-1, the lead-containing glass contains B_2O_3 in an amount of 0.01-2.0 mass%.例文帳に追加

本発明の陰極線管用ファンネルは、PbO含有量が10〜30質量%であり、0.6ÅにおけるX線吸収係数が40cm^-1以上である鉛含有ガラスからなる陰極線管用ファンネルにおいて、前記鉛含有ガラスが、B_2O_3を0.01〜2.0質量%含有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a porous composite obtained by adhesively depositing a porous thin film, on which a fault such as a pinhole is not generated and which has minute pores having the pore size of an angstrom level, on the surface of a porous support by interposing an intermediate layer having particles of uniform size and a smooth surface between the porous support and the porous thin film.例文帳に追加

多孔質支持体と多孔質薄膜との間に、均一な粒子径で、かつ平滑な表面を有する中間層を介装することによって、多孔質支持体表面に、薄く、かつピンホール等の欠陥が生じることのない多孔質支持体の表面にÅオーダーの微細な細孔径を有する多孔質薄膜を被着形成した多孔質複合体を提供する。 - 特許庁

In the method of forming the transparent conductor layer on the surface of the LTPS layer, the transparent conductor layer is laminated after the surface of the LTPS layer is etched with a diluted hydrofluoric acid at room temperature, and an etching amount of the LTPS layer (in terms of etching amount of a silicon oxide CVD film) is set to 30 to 70 Å.例文帳に追加

本発明のLTPS層の表面に透明導電体層を形成する方法は、室温において低温ポリシリコン層の表面を希フッ酸によりエッチングした後に透明導電体層を積層する方法において、前記低温ポリシリコン層のエッチング量(酸化珪素CVD膜エッチング量換算)を30Å以上70Å以下としたことを特徴とする。 - 特許庁

An RTA furnace for rapid heating and rapid cooling is used to apply heat treatment to a silicon wafer having an oxide film of 30-100 Å thicker than the thickness of a natural oxide film in an atmosphere of nitrogen gas, thereby nitriding the oxide film to form a nitrided oxide film, and the vacancy and nitrogen are injected into the inside of the silicon wafer from the surface of the silicon wafer.例文帳に追加

急熱急冷が可能なRTA炉を用い、自然酸化膜より厚い30Å〜100Åの酸化膜が形成されたシリコンウェーハを、窒素ガスの雰囲気下で熱処理することで、酸化膜を窒化して窒化酸化膜とし、シリコンウェーハの表面からシリコンウェーハの内部に空孔および窒素を注入する。 - 特許庁

The magnetic recording medium has at least one magnetic layer, carbon protective layer and liquid lubricating layer which are successively layered on a non-magnetic substrate and the protective layer is subjected to a nitrogen plasma treatment so that 6-20 at.% nitrogen containing layer is provided in the range of less than 30 Å from the surface thereof and has the surface with 10-30 degrees contact angle to water.例文帳に追加

非磁性基板上にそれぞれ少なくとも1層の順次積層された磁性膜、カーボン保護膜、および液体潤滑層を有する磁気記録媒体であって、その保護膜は、膜の表面から30Å以内に6〜20at%の窒素含有層を具えるように窒素プラズマ処理されて、水に対する接触角が10〜30度である表面を有する。 - 特許庁

The substance is a metal complex oxide having a new crystal structure satisfying conditions (a) to (c): (a) belonging to a space group of Fd-3m; (b) having a lattice constant within a range of 17.0±1.0 Å; and (c) having crystalline arrangement in a unit lattice where cations occupy at respective site occupancies shown in Table 1.例文帳に追加

(a)ないし(c)の条件を満足する新規な結晶構造を有する金属複合酸化物であって、(a)空間群がFd−3mに属し、(b)格子定数が17.0±1.0Åの範囲にあり、(c)単位格子内の結晶学的配置が、陽イオンにより下記表のサイト占有率で占有されている金属複合酸化物。 - 特許庁

The method for correcting the defects on the color filter includes steps of: setting a diameter of a laser beam on a circular correcting region when the defective portion of the color filter is removed by irradiation of the laser beam; and depositing a metal film having thickness of 1,000 Å or more by a laser CVD method to the circular correcting region after the circular correcting region has been removed.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥修正方法において、レーザ光の照射によりカラーフィルタの欠陥部を除去する際に、レーザ光の径を欠陥部を含む円形修正領域に設定し、円形修正領域の除去後、円形修正領域にレーザCVD法によって厚み1000オングストローム以上の金属膜を蒸着させることを特徴とする。 - 特許庁

This organic light emitting element is characterized by that at least a transparent positive electrode, an organic film containing luminescent material formed of an organic compound, an electron injection layer, a conductive light-absorbing layer and a negative electrode are sequentially stacked on a transparent substrate; the electron injection layer is formed of a fluoride or oxide of Li; and the film thickness of the electron injection layer is 1-500 Å.例文帳に追加

透明基板上に、少なくとも、透明な陽極電極と、有機化合物からなる発光材料を含む有機膜と、電子注入層と、導電性光吸収層と、陰極電極とが順次積層されており、前記電子注入層はLiの弗化物または酸化物からなり、該電子注入層の膜厚は1〜500Åであることを特徴とする有機発光素子。 - 特許庁

On the surface of a base material composed of metal or ceramic, an amorphous carbon film is formed by a cathode discharge type arc ion plating method using a carbon target and moreover, on the boundary between the carbon film and the base material, a mixed layer of 10 to 500thickness composed of the base material constituting elements and film constituting elements is formed to obtain a high adhesion amorphous carbon film forming material.例文帳に追加

金属またはセラミックからなる基材の表面に、カーボンターゲットを用いてカソード放電型アークイオンプレーティング法により非晶質炭素膜を形成すると共に、該炭素皮膜と基材の界面に、これら基材構成元素と皮膜構成元素とからなる厚さ10〜500Åの混合層を形成し、高密着性非晶質炭素皮膜形成材を得る。 - 特許庁

The organic polymer particles for separating a biochemical substance from a biological sample utilizing an interaction with a probe includes an active functional group for bonding to the probe, has a surface area giving a value of 20-5,000 Å^2 when divided by the amount of the active functional group, and bears a nonionic hydrophilic group.例文帳に追加

生物学的試料の中から、生化学物質をプローブとの相互作用を用いて分離するための有機ポリマー粒子であって、該有機ポリマー粒子はプローブを結合するための活性官能基を有しており、かつ粒子の表面積を該活性官能基の量で除した値が20〜5,000Å^2であり、さらに非イオン性の親水基を有することを特徴とする有機ポリマー粒子。 - 特許庁

The catalyst is produced by impregnating a metal or a compound of the metal selected from metals of groups 6B and 8 on a carrier containing alumina and characterized in that the carrier has a pore volume of 0.5 to 1.1 cm^3/g and at least 70% of the pore volume is occupied with the volume of pores having diameters of 70 to 130 Å.例文帳に追加

アルミナを含む担体上に6B族および8族の金属もしくは金属化合物を含浸することにより製造される触媒であって、その担体が1g当り約0.5〜1.1cm^3の細孔容積をもち、そして細孔中の少くとも70%の細孔容積が70〜130Åの直径をもつことを特徴とする触媒。 - 特許庁

The silica sol is composed of amorphous silica fine particles dispersed in a water based medium and the amorphous silica fine particles have a fine pore distribution having a peak in 30-300 Å fine pore radius and ≥0.3 mL/g fine pore volume ion the range of the fine pore radius when measured in a dry state.例文帳に追加

水性媒体に分散された非晶質シリカ微粒子から成るシリカゾルであって、前記非晶質シリカ微粒子が、乾燥状態で測定して、細孔半径30乃至300オングストロームに細孔分布のピークを有しており且つその細孔半径の範囲で0.3mL/g以上の細孔容積を有するシリカゾル。 - 特許庁

Further the thermoplastic resin composition contains the rubber- containing graft copolymer (A), the rigid copolymer (B) and polycarbonate (C) wherein the rubber-containing graft polymer has the weight average particle diameter of 800 to 3,000 Å, the content of a diameter of not less than 5,000 Åbeing less than 10%, and the rubber content of the composition is 3 to 20 wt.%.例文帳に追加

ゴム含有グラフト共重合体(A)と硬質共重合体(B)とポリカーボネート(C)とを含み、ゴム含有グラフト共重合体が重量平均粒子径800〜3000Åで、粒子径5000Å以上のゴム粒子の割合が10%未満であり、組成物中のゴム含有量が3〜20重量%である熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

In the catalyst comprising hematite (α-Fe_2O_3) particles and used for removing the particle substance in an exhaust gas from diesel engine, the content of P in the hematite particles is 0.005 wt.% or below and the crystal size of the crystal face (104) of the hematite particles at the time of X-ray diffraction measurement using CuKα radiation is set to 150or below.例文帳に追加

ヘマタイト(α−Fe_2O_3)粒子からなるディーゼルエンジン排ガス中の粒子状物質除去触媒において、該ヘマタイト粒子のP含有量が0.005重量%以下であって、CuKαでX線回折測定した際の結晶面(104)の結晶子サイズが150Å以下であることを特徴とするディーゼルエンジン排ガス中の粒子状物質除去触媒。 - 特許庁

For the negative electrode material for the lithium ion secondary battery, graphitized after graphite powders and pitch of softening point 250°C or less are mixed and heat-treated, lattice constant of Co (002) measured by X-ray diffraction analysis of the graphite powder is 7.2 Å or less and the ratio of the graphite powder to be mixed with the pitch is made to be 10 to 70 wt%.例文帳に追加

黒鉛粉末と軟化点250℃以下のピッチを混合熱処理した後、黒鉛化してなるリチウムイオン二次電池用負極材であって、黒鉛粉末のX線回折分析で測定されるCo(002)の格子定数が7.2オングストローム以下であり、ピッチに混合する黒鉛粉末の割合を10〜70重量%とする。 - 特許庁

The image forming material comprises a perimidine-based squarylium dye that has a specific structure for showing diffraction peaks at least at Bragg angles (2θ±0.2°) of 17.7°, 19.9°, 22.1°, 23.2° and 24.9° in its X-ray powder diffraction spectrum measured by irradiation with X-rays generated from Cu target with a wavelength of 1.5405 Å.例文帳に追加

Cuターゲットで波長が1.5405ÅのX線照射により測定される粉末X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.2°)で、少なくとも17.7°、19.9°、22.1°、23.2°、24.9°に回折ピークを示す特定構造のペリミジン系スクアリリウム色素を含有することを特徴とする画像形成材料。 - 特許庁

A base film 602 and an amorphous silicon film 603 are formed on a substrate 601, a silicon oxide film of thickness 10 to 100is formed on the amorphous silicon film 603, then a very thin nickel acetate layer 604 is formed thereon through a spin coating method, and the amorphous silicon film 603 is crystallized to serve as an active layer of a semiconductor device.例文帳に追加

基板601上に、下地膜602、非晶質珪素膜603を形成し、この非晶質珪素膜603の表面に厚さ10〜100Åの酸化珪素膜を形成した状態で、スピンコーティング法によって極めて薄い酢酸ニッケル層604を形成し、非晶質珪素膜603を結晶化し、これを活性層とする半導体装置を作製する。 - 特許庁

A lower magnetic pole layer 19 and/or of an upper magnetic pole layer 21 are formed by plating them with the NiFe alloy having76% and ≤90% composition ratio of Fe by mass or having130 Å and ≤175average grain size and ≥70% and ≤90% composition ratio of Fe by mass.例文帳に追加

下部磁極層19及び/または上部磁極層21を、Feの組成比が76質量%以上で90質量%以下、あるいは平均結晶粒径が130Å以上で175Å以下で且つFeの組成比が70質量%以上で90質量%以下のNiFe合金でメッキ形成する。 - 特許庁

The transparent electromagnetic wave shielding composite material is composed of a resin film, a processed conductive layer consisting of copper 100 to 2000thick formed on the surface of the resin film, and an electrolytic plating copper thin film layer 1 to 20 μm thick formed on the conductive layer, and the overall light transmission of the resin film subjected to etching is 80% or above.例文帳に追加

樹脂フィルム、該樹脂フィルム上に形成された100乃至2000Åの厚みの銅から成る導電処理層、該導電処理層上に形成された1乃至20μmの厚みの電解めっき処理による銅薄膜層から成り、該樹脂フィルムのエッチング処理後の全光線透過率が80%以上であることを特徴とする透明電磁波シールド用複合材。 - 特許庁

例文

A fuse structure 42 of the semiconductor device comprises a pair of fuse electrodes 46A, B, respectively embedded in a layer insulation film 44, electrode pads 48, topmost wirings 50A, B of a multilayered wiring structure and TiN film fuses 52 of 100thickness for connecting the pair of fuse electrodes.例文帳に追加

本半導体装置のヒューズ構造42は、層間絶縁膜44に、それぞれ、埋め込み形成された一対のヒューズ電極46A、Bと、電極パッド48と、多層配線構造の最上段配線50A、Bと、及び一対のヒューズ電極を接続する膜厚100ÅのTiN膜ヒューズ52とを備えている。 - 特許庁

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