意味 | 例文 (62件) |
工程焼なましの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 62件
亜鉛メッキ焼きなまし工程の焼きなましを行うための方法および装置例文帳に追加
METHOD AND DEVICE FOR EXECUTING ANNEALING IN GALVANIZING ANNEALING STAGE - 特許庁
該方法は更に、冷間圧延工程の前に及び/又は後に焼き鈍し工程を含むことができる。例文帳に追加
The method may include an annealing step applicable to before and/or after the cold-rolling step. - 特許庁
この方法は、例えば、列記するものに限定されないが、機械加工工程、焼き鈍し工程、被覆工程及び2次成形工程等の2次処理工程を省略することができる。例文帳に追加
The method can eliminate secondary processes such as a machining process, an annealing process, a coating process, a secondary forming process and others not limited by these examples. - 特許庁
好ましくは、錯体担持工程中及びその後に、焼成処理を含まない。例文帳に追加
Preferably, during the complex supporting process and thereafter, no baking treatment is included. - 特許庁
したがって、焼き鈍し工程後に酸化膜を除去する必要がない。例文帳に追加
Consequently, it is not needed to remove the oxidized film after the annealing step. - 特許庁
温間セッチングは、焼鈍工程中(特に最後の段階)及び/又は焼鈍工程後の冷却過程で行うことが望ましい。例文帳に追加
The warm setting is desirably performed during the annealing process (in the last stage in particular) and/or in the cooling process after the annealing. - 特許庁
また、好ましくは前記焼成工程をマイクロ波焼結炉を用いて行う。例文帳に追加
Also, the firing process is preferably carried out by using a microwave sintering furnace. - 特許庁
次の工程である主成型プレスフォージング工程に進む前に、その半製品を焼きなましを行う。例文帳に追加
Before advancing into the main forming press-forging process, as the next process to this semi-product, an annealing is applied. - 特許庁
溶融スラグを形成する工程は、焼却灰と水ガラスとを混合して非飛散性混合物を形成する工程、非飛散性粒状物を形成する工程、非飛散性粒状物を溶融して溶融スラグを得る工程、をこの順に備えることが好ましい。例文帳に追加
The process for forming molten slag preferably comprises a process for mixing incinerated ash with water glass to form a non-scattering mixture, a process for forming a non-scattering granule, a process for melting the non-scattering granule to give molten slag in this order. - 特許庁
尚、脱ロウ工程での階段状加熱は、250℃以下の温度帯域で行われることが望ましく、また前記焼成工程では、300℃〜750℃の温度にて樹脂模型(a)を燃焼消失させることが望ましい。例文帳に追加
In addition, the stepwise heating in the dewaxing step is preferably conducted at a temperature zone of ≤250°C, and, in the firing step, the resin pattern (a) is preferably burnt and extinguished at a temperature of 300°C-750°C. - 特許庁
この製造方法において、前記焼結工程における焼結温度は900℃以上1350℃以下であることが好ましく、前記窒化工程における窒化温度は700℃以上1100℃以下であることが好ましい。例文帳に追加
In this manufacturing method, it is preferable that sintering temperature in the sintering step ranges from 900 to 1,350°C and also nitriding temperature in the nitriding step ranges from 700 to 1,100°C. - 特許庁
焙焼する工程は、乾燥生大豆を焙焼機内で連続的に移動しながら180〜220℃、5〜15分間程度、好ましくは200℃、10分間程度で行う。例文帳に追加
The process of roasting is performed at an extent of 180-220°C for 5-15 min, preferably at an extent of 200°C for 10 min while continuously moving dry raw soybeans in a roasting machine. - 特許庁
鍛造加工用の金属材料を表面処理する方法であって、非酸化雰囲気中で金属材料を加熱する焼き鈍し工程と、焼き鈍し工程後の金属材料の表面に潤滑被膜を形成する被膜形成工程を備えている。例文帳に追加
The method for surface-treating the metallic material for forging includes: an annealing step of heating the metallic material under a non-oxidizing atmosphere; and a film forming step of forming a lubricating film on the surface of the metallic material after the annealing step. - 特許庁
更に、前記中和された固形状産業廃棄物を他の産業廃棄物と調合する調合工程と、前記調合された固形状産業廃棄物を焼却する焼却工程とを含む態様などが好ましい。例文帳に追加
Further, a mode or the like is preferable which comprises a mixing process of mixing the neutralized solid industrial waste with other industrial waste and an incineration process of incinerating the mixed solid industrial waste. - 特許庁
高密度プラズマ処理室内の半導体ウエハ堆積工程の処理量を改善する方法は、処理室内のフオロ珪酸塩ガラス残留物を焼き尽くすのに十分な高出力を含む工程を用いて、高密度プラズマ処理室内で第1のウエハを処理する工程を含む。例文帳に追加
A method of improving throughput in a semiconductor wafer deposition process in a high-density plasma processing chamber, comprises a step of processing a first wafer within the high-density plasma processing chamber using a process including high output sufficient for burning out fluorosilicate glass residue in the processing chamber. - 特許庁
さらに、別の好ましい製造方法としては、金型により樹脂型を形成する工程と、樹脂型にセラミック粉またはセラミックスラリーを充填し、成型し、焼成する工程と、を含む方法がある。例文帳に追加
Further, another preferable manufacturing method includes: a process for forming the resin die in a metal die; and a process for filling the resin die with ceramic powder or ceramic slurry to mold and bake it. - 特許庁
本発明は、具材に衣液及び/又は粉粒状衣材を付着させる工程、衣液及び/又は粉粒状衣材を付着させた具材を茹でる工程、及び茹でた具材を焼成する工程を含むノンフライ揚げ物様食品を製造する方法に関する。例文帳に追加
The method for producing a non-fried food contains a step to apply a coating liquid and/or a powdery coating material to a filling, a step to boil the filling coated with the coating liquid and/or powdery coating material and a step to roast the boiled filling. - 特許庁
主に鍛造、球状化焼なまし、トリミング、研磨加工、転造、熱処理、表面処理等の製造工程を含む。例文帳に追加
The method includes a manufacturing process of mainly forging, spheroidizing, trimming, polishing, rolling, heat treatment and surface treatment. - 特許庁
前記第1工程の予備焼結処理は、非酸化性雰囲気で800〜1000℃の温度で行うことが望ましい。例文帳に追加
The previous sintering treatment in the first stage is performed desirably at 800 to 1,000°C in a non(-)oxidizing atmosphere. - 特許庁
0.525x^3-0.19x^2+0.064x+8.387≦f(x)≦0.525x^3-0.19x^2+0.064x+8.409 ・・・(1)(式中、x:Mg/Feモル比) このようなフェライト粒子の製造方法としては、Fe原料及びMg原料を媒体液中で混合してスラリーを得る工程と、スラリーを噴霧乾燥させて造粒物を得る工程と、前記造粒物を焼成して焼成物を得る工程とを有し、前記焼成を下記式(2)を満たす条件で行う製造方法が好ましい。例文帳に追加
0.525x^3-0.19x^2+0.064x+8.387≤f(x)≤0.525x^3-0.19x^2+0.064x+8.409... (1) (wherein x is Mg/Fe mol ratio). - 特許庁
また、仮焼工程において、積層体ブロックの仮焼後の収縮率が最大収縮率に対して97.5%〜99.5%となる仮焼条件にて仮焼することが好ましい。例文帳に追加
The calcination is preferably performed under the conditions that the contraction rate after the calcination of the laminate block becomes 97.5-99.5% for the maximum contraction rate. - 特許庁
窯業、製鉄業、ガラス工業等の高温処理工程を必要とする工業分野、例えば400〜600℃の封入、焼き鈍し工程を有するテレビジョン用ブラウン管製造工程や熱圧延、熱成形後の金属製品の加工工程などで高温に曝される被着材料に対しても使用可能な耐熱表示ラベルを提供すること。例文帳に追加
To provide a heat-resistant display panel applicable to ceramic industry, iron industry, fields requiring high temperature treatment processes like glass industry, a TV cathode-ray tube manufacturing process having processes of, e.g., sealing at 400-600°C or annealing, and to deposition materials exposed to high temperature in metallic product working process after hot rolling and heat molding. - 特許庁
光学素子成形用型1の製造方法は、型母材2に放電プラズマ焼結法を用いて酸化クロムを含む焼結用粉末を焼結して、成形面3の原型6を作製する工程(S01)と、作製した原型6を精密加工して成形面3とする工程(S02)とを備えている。例文帳に追加
The method of manufacturing the die 1 for forming the optical device is provided with a process (S01) for forming the prototype 6 of the forming surface 3 on a die base material 2 by sintering sintering powder containing chromium oxide using a discharge plasma sintering method and a process (S02) for forming the forming surface 3 by precisely machining the formed prototype 6. - 特許庁
また、工程[S4]の焼成は、湿度が30%RH以下の酸素含有雰囲気中で行われるのが好ましく、また、仮焼成した成形体を焼結補助材で覆った状態で行うことが好ましい。例文帳に追加
Also, the firing of the process step [S4] is preferably performed in the oxygen-containing atmosphere of ≤30%RH in humidity and is preferably performed in the state that the calcined molding is covered with an auxiliary material for sintering. - 特許庁
また本発明の素子搭載用基板の製法は、大径のセラミックス板上またはグリーンシート上に、電極前駆層を電極層のパターン状に形成する工程、該電極前駆層上の一部にセラミックス製被覆前駆層を形成する工程、および得られた前駆体を焼成する工程からなり、好ましくは焼成物の切断予定ラインにおいて、電極層を覆うように、セラミックス製被覆層を形成する。例文帳に追加
It is preferred that the ceramic coating layer is so formed as to coat the electrode layer on the lines of the baked object along which the baked object is to be cut. - 特許庁
芳香環を有する化合物を電解酸化重合してフィブリル状ポリマーを生成させる工程Aと、該フィブリル状ポリマーを焼成、好ましくは非酸化性雰囲気中で焼成して炭素繊維を生成させる工程Bとを含む炭素繊維の製造方法において、前記電解酸化重合工程Aを電流又は電圧を矩形波で印加して行う。例文帳に追加
This method for producing the carbon fiber comprising a process A of forming a fibril-formed polymer by performing an electrolytic oxidative polymerization of a compound having an aromatic ring and a process B of burning the fibril-formed polymer, preferably burning under a non-oxidative atmosphere to form the carbon fiber is provided by performing the process A under impressing an electric current or electric voltage by a square wave. - 特許庁
湿式バレル研磨処理後の乾燥工程で効率よく水分を除去することが可能で、その後の導電ペーストを塗布して焼き付ける方法による外部電極の形成工程などの、セラミック素子(セラミック焼結体)が高温に加熱される工程で水分の急激な発生によるクラックの発生などを引き起こすことを防止する。例文帳に追加
To efficiently remove moisture in a drying process after a wet barrel polishing processing, and to prevent the occurrence of cracks due to sudden generation of moisture in a process where a ceramic element (ceramic sintered compact) is heated to a high temperature in a forming process of an outer electrode by a method with which conductive paste is applied and it is baked. - 特許庁
上記の焼戻し工程において、プラズマCVD法によるDLC膜の成膜温度が上記基材の焼戻し温度に達するため、焼戻し処理とプラズマCVD処理とを同時に行うことができる。例文帳に追加
In the above tempering process, since the film-formation temperature of the DLC film with the plasma CVD method reaches to the tempering temperature of the base material, the tempering treatment and the plasma CVD treatment can simultaneously be applied. - 特許庁
当該製造方法では、γ線を照射した原料を、所望の形状に加工してポリテトラフルオロエチレン絶縁体を得る工程が行われることが好ましく、前記ポリテトラフルオロエチレン絶縁体を焼成する工程がさらに行われることがより好ましい。例文帳に追加
In the manufacturing method, a process of providing the polytetrafluoroethylene insulator is preferably executed by processing the material irradiated with the γ-ray into a desired shape, and a process of baking the polytetrafluoroethylene insulator is preferably further executed. - 特許庁
また、第1の工程における管体2および粒子33は、それぞれ、セラミックス材料を成形してなる成形体、または、この成形体を仮焼成してなる仮焼結体で構成されているのが好ましい。例文帳に追加
Further, the pipe body 2 and the particles 33 in the first process are respectively preferably constituted of a molded body formed by molding a ceramics material or a preliminarily sintered body obtained by preliminarily sintering the molded body. - 特許庁
この表面処理方法によれば、非酸化雰囲気中で金属材料を焼き鈍しするので、焼き鈍し工程で金属材料の表面に酸化膜が形成されない。例文帳に追加
According to this surface treating method, since the metallic material is annealed under the non-oxidizing atmosphere, an oxidized film is not formed on the surface of the metallic material in the annealing step. - 特許庁
プリント配線基板のはんだランド部と電子部品の電極部とをはんだ接続するはんだ付け工程と、はんだ付け後に、はんだ付け部をはんだが溶融しない100℃以上の温度で加熱保持する焼き鈍し工程とを備えたことを特徴とするプリント配線基板の熱処理方法。例文帳に追加
This method for heat treating a printed wiring board comprises the steps of soldering by solder connection a solder land part of a printed wiring board and an electrode part of electronic components, and annealing the soldering part by holding it hot at a temperatures of 100°C or higher which do not fuse a solder, after it is soldered. - 特許庁
K、O量の調整は、ワイヤ製造工程の焼鈍前に素線にカリウム塩溶液を塗布して焼鈍することにより行うのが好ましい。例文帳に追加
S. It is preferable that a potassium salt solvent is applied to a strand before annealing in a wire manufacturing process and then the strand is annealed, so as to adjust volumes of K and O. - 特許庁
成形体を収容した状態のまま焼成工程に使用することができ、焼成時のエネルギー損失を抑制することができ、繰り返し利用することが可能なセラミックス製の成形型を提供する。例文帳に追加
To provide a mold made from a ceramic capable of being used for a firing process in the state of holding a formed body, suppressing energy loss in firing and being repeatedly usable. - 特許庁
また、熱電材料を原料とした複合材料は、前記熱電材料にスパークプラズマ焼結工程を行って製造され、カーボンナノチューブがネットワークをなして熱電特性が向上するという利点がある。例文帳に追加
Further, a composite material containing the thermoelectric material as a raw material is manufactured by performing a spark plasma sintering process on the thermoelectric material, so that there are such advantages that the carbon nanotube forms a network to improve a thermoelectric characteristic. - 特許庁
管を金型内に収容し,管内に内圧をかけて管端部を管軸方向に押し込みつつ所定の形状に加工するハイドロフォ−ム加工装置及び加工方法において,管端の絞り工程や中間焼きなまし処理を必要とせずに,大きな拡管率を有する部品を1工程で得られるハイドロフォ−ム加工方法を提供する。例文帳に追加
To provide a method for obtaining a component with a large expansion rate in one process without applying a drawing process of a tube end and process annealing, in hydroforming equipment and a hydroforming method by which a tube is processed into a predetermined shape while pushing a tube end portion into a tube axis direction by holding the tube in a die and applying internal pressure in the tube. - 特許庁
汚泥Dと廃プラスチックPを混合した上で、その混合物をセメント焼成工程のロータリーキルン7の窯尻部に投入してセメントクリンカを製造する。例文帳に追加
Sludge D and waste plastic P are mixed and the mixture is fed into the inlet of a kiln to manufacture cement clinker. - 特許庁
該焼結体に誘電体酸化皮膜層を成型する前に、研磨処理または振動処理にて陽極体の弱い部分を予め除去する工程を行う。例文帳に追加
The process of removing weak portions of the anode body by grinding or vibration is carried out before the dielectric-oxide coating-film layer is formed on the sintered body. - 特許庁
原料粉末が成形された成形体を焼結して焼結型永久磁石とする場合、成形体をそのまま焼結すると収縮変形により所定の形状にならず歪むことがある、焼成工程の熱効率を悪化させる大きな要因にならないで、焼結による形状の歪みを防止する製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a manufacturing method for preventing the distortion of a shape by sintering without causing serious problems that a molding does not become a predetermined shape but is distorted by shrinkage if the molding is sintered as it is, and that the thermal efficiency of the baking process is degraded when the molding formed of the raw powder material is sintered to form a sintered permanent magnet. - 特許庁
該シリカはアルコキシシランの加水分解・縮合反応により得られたシリカ粒子を650〜1180℃で焼成することによって、孤立シラノール基含有量並びに比表面積を所定範囲に制御されたシリカを製造する工程と、該シリカにオルガノシリル基を導入する工程とを有する製造方法により製造することが好ましい。例文帳に追加
The silica is preferably produced by a production method including: a step of preparing silica having a controlled content of isolated silanol groups and a specific surface area into respective specified ranges by firing silica particles obtained through a hydrolysis-condensation reaction of alkoxysilane at 650 to 1,180°C; and a step of introducing an organosilyl group to the silica. - 特許庁
繊維類を含有する廃棄物20を破砕手段21によって所定の粒度に粉砕した後、これをセメント焼成工程のロータリーキルン7の窯尻部、仮焼炉12、プレヒータ6の少なくともいずれかに投入して、セメントクリンカを製造する。例文帳に追加
The cement clinker is manufactured by crushing the waste 20 containing fibers into particles having the prescribe particle size by a crushing means 21 and feeding the obtained particles to at least any of the bottom part of a rotary kiln 7, a calcinator 12 and a preheater 6 of a cement firing step. - 特許庁
安全性に問題がなく、安価で比較的容易に入手可能な大麦を発酵に付したもの、好ましくは大麦焼酎蒸留残液から、煩雑な精製工程を経ず、工場規模での実生産に適した簡便な処理方法により、優れた血管新生阻害作用を有する組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a composition having an excellent neovascularization inhibitory action from an inexpensive and relatively easily available material not having a problem on safety, preferably distillation residual liquids of barley Shochu (white distilled liquor), by a simple treatment method suitable for practical production in a factory scale without passing through a troublesome purification process. - 特許庁
少なくとも1つのガス成分の濃度、特に燃焼工程からの排気ガス内、好ましくは内燃機関からの排気ガス内の酸素濃度を決定するセンサ、および上昇された測定精度が達成可能な、センサの作動方法を提供する。例文帳に追加
To provide a sensor for determining the concentration of at least one gas component, particularly, an oxygen concentration in exhaust gas from a combustion process, preferably, in exhaust gas from an internal combustion engine, and an operation method of the sensor capable of attaining an increased measurement accuracy. - 特許庁
ベーカリー生地の伸展性やべたつき感等の製造工程中の問題を解決し、かつ好ましいソフト感、しっとり感を付与しながら、任意の良好な甘味並びに任意に抑制された白っぽく薄い焼色を付与することができる甘味加熱製品を提供する。例文帳に追加
To provide heated sweets improved extensibility and stickiness of the bakery dough, in a production process, and having a desirable soft and moist touch, a controlled sweet taste and a controlled white, pale baked color. - 特許庁
カラー陰極線管のシャドウマスクの焼なまし工程において、マスク組立体を、誘導加熱用コイルによる電磁場に置いて、誘導加熱させることにより、作業時間を短縮でき、作業スペースが狭くて済み、かつ熱エネルギー使用量の小さい陰極線管の製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a manufacturing method of a cathode-ray tube which can reduce working hours, save working space, and cut down with thermal energy used by induction heating of a mask assembly in an electromagnetic field by an induction heating coil in an annealing process of a shadow mask for a color cathode-ray tube. - 特許庁
窒化アルミニウム焼結体の製造工程において、有機化合物を含有する窒化アルミニウム成形体を非酸化性雰囲気中にて脱脂して得られた脱脂中間体であって、JIS Z 8721に規定する明度がN6以下、好ましくはN4以下である。例文帳に追加
The degreased intermediate whose lightness is designated as N6 or less in JIS Z 8721, favorably N4 or less, is obtained by degreasing an aluminum nitride formed body containing an organic compound under a non-oxidized atmosphere in the manufacturing process of the aluminum nitride sintered compact. - 特許庁
第1の工程では、U_3O_8粉末を非還元性気体雰囲気で1000〜1500℃の温度で1時間以上焼なまししU_3O_8多結晶凝集体を製造して、前記U_3O_8多結晶凝集体を細かく分離しU_3O_8単結晶を製造する。例文帳に追加
In the first process, U3O8 powder is annealed for more than 1 hour at the temperature of 1000 to 1500°C in non-reducing gas atmosphere to produce U3O8 polycrystal agglomerate and the U3O8 polycrystal agglomerate is finely separated to produce U3O8 monocrystal. - 特許庁
溶体化処理などの本処理する前処理工程として、ワークWを焼き鈍し処理するアニール手段100を設け、ワークWを熱風循環式の高速昇温炉を用いて高速加熱し、加工時にワークW内に蓄積した内部応力を除去する。例文帳に追加
This method for heat treatment comprises arranging an annealing means 100 for annealing the workpiece W, as a pretreatment step prior to main treatment such as solution treatment, rapidly heating the workpiece W by using a rapid temperature-raising furnace of a hot-blast circulation type, and removing the internal stress accumulated in the workpiece W during processing. - 特許庁
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