「Defect Inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a test mask, having several kinds of transmittances and patterns that have different dimensions at various kind of transmittance, and to provide a method for controlling the detection sensitivity of a defect inspection apparatus that uses the test mask.例文帳に追加

数種類の透過率を有し、かつ各々の種類の透過率において寸法の異なるパターンを有するテストマスクにより半透明欠陥に対する欠陥検査装置の検出感度調整することを目的とする。 - 特許庁

Thereby, visibility of the substrate 1 for the magnetic recording medium is enhanced, sensing of the substrate for the magnetic recording medium by a ray such as a laser light is made easy and detection of a defect and the like is made easy in a surface appearance inspection step.例文帳に追加

これにより、磁気記録媒体用基板１の視認性が向上し、レーザ光などの光線による磁気記録媒体用基板の検知が容易になり、さらに、表面外観検査工程において欠陥などの検出が容易になる。 - 特許庁

To provide a defect part marking method and a device capable of replacing a marker pen and replenishing ink quickly and continuously, when marking a surface or inside flaw position on the surface of an inspection material such as a thin steel plate.例文帳に追加

薄鋼板等の被検査材表面に、表面または内部の疵位置をマーキングするにあたり、迅速かつ連続にマーカーペンの交換またはインクの補充ができる欠陥部マーキング方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a visual inspection device for a semiconductor device that protects adjacent non-defectives against damage by virtue of short-time and precise marking when marking a corresponding obverse surface after inspecting a defect in a reverse surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板裏面の欠陥を検査した後、対応する表面にマーキングする際に、短時間かつ精度良くマーキングを行うようにし、隣接する良品に傷を付けることのない半導体素子の外観検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the inspection of a substrate and a cover glass, in which a defect such as a crack or the like on the substrate and a crack on the cover glass covering the substrate can be inspected without dispersion and without visually inspecting the substrate and the cover glass.例文帳に追加

基板のクラック等の欠陥、及び基板を覆うカバ−ガラスのクラックを、該基板及びカバ−ガラスを目視検査することなく、ばらつきなく検出できる、基板とカバ−ガラスの検査方法及び装置を提供することである。 - 特許庁

An ultrasonic beam B is emitted toward an artificial defect 200 formed in a position corresponding to a point of inspection object 300 in advance, and a driving electric signal S3 in which a difference in delay time is set based on the reflected wave R is prepared.例文帳に追加

事前に、検査対象箇所３００に対応した位置に形成した人工欠陥２００に向けて超音波ビームＢを発し、その反射波Ｒに基づいて遅延時間の差を設定した駆動用電気信号Ｓ３を用意する。 - 特許庁

To provide a glass inspection system for detecting particle and defect inside or on a glass sheet (14) using relatively-low cost optical component which easily is integrated into a compact type device easily-deployable to manufacturing environment.例文帳に追加

ガラスシート (１４)内または上の粒子及び欠陥を検出するためのガラス検査装置において、製造環境に容易に配備され得るコンパクトな装置に容易に集成することができる比較的低コストの光学コンポーネントを用いる。 - 特許庁

To prolong the lifetime of products and the intervals of inspection and maintenance by preventing the degradation in reflectivity of a deflective reflecting surface of a rotary deflecting means by adhesion of dirt and by suppressing exposure unevenness and the defect in synchronous detection for controlling exposure timing.例文帳に追加

汚れの付着による回転偏向手段の偏向反射面の反射率の低下を防ぎ、露光ムラや露光タイミングを制御するための同期検出不良を抑え、製品寿命や点検保守間隔を長くする。 - 特許庁

To provide a solder ball which can solve the problem of defects in the deletion judgement, the height measurement, and the visual inspection of a solder bump defect due to the discoloration of the solder bump in soldering, and further to provide the solder bump using the same solder ball.例文帳に追加

本発明の目的は、はんだ付け時の変色に起因したはんだバンプの欠損判定、高さ測定、ならびに目視検査での不良の問題を解決するはんだボールおよびそれを用いたはんだバンプを提供することである。 - 特許庁

To easily find an illumination angle with high accuracy for detecting an image having a high contrast by diffracted light so as to detect the image of a defect in a periodical pattern of an inspection object, and to suppress variation in detection accuracy among workers.例文帳に追加

被検査物の周期性パターンの欠陥を画像検出するために、回折光によるコントラストの高い画像を検出する照明角度を容易に精度良く見出し、作業者間の検査精度のばらつきを抑えること。 - 特許庁

To provide a through hole inspection method for accurately inspecting the existence/absence of a minute through hole causing a ventilation defect in an insulating ceramic sheet such as a solid electrolyte film for a flat solid electrolyte type fuel cell.例文帳に追加

平板状固体電解質型燃料電池用の固体電解質膜の如き絶縁性セラミックシートの、通気欠陥となる微細な貫通孔の有無を正確に検査することのできる貫通孔検査方法を提供すること。 - 特許庁

The defect inspection device 21 is provided with a lighting device 22 with a light source, a camera 23 capable of imaging transmission light transmitted through the tablet, and an image processor 24 for processing an image signal output from the camera 23.例文帳に追加

不良検査装置２１は、光源を具備する照明装置２２と、錠剤を透過してくる透過光を撮像可能なカメラ２３と、カメラ２３から出力される画像信号を処理する画像処理装置２４とを備えている。 - 特許庁

To provide an efficient pinhole inspecting machine which can accurately inspect a seal defect, while allowing some of the remaining flowing water left at the seal part of a cup-shaped package container (hereinafter referred to as a body to be inspected), and line automated for the inspection.例文帳に追加

カツプ状包装容器（以下、被検体と言う）のシール部に残る一部の残流水を許容した状態で的確なシール不良の検査を実現するとともに、これをライン自動化した能率的なピンホール検査機を提供する。 - 特許庁

In this surface inspection instrument, a first detection means 2a, 2b outputs a detective signal by finding the reflected light of a light-beam corresponding to the defect on the surface of the frontal side of the light- penetrating substrate having the semi-transparent film.例文帳に追加

第１の検出手段２ａ及び２ｂは、表面に半透明膜を有してなる透光性基板の基板表面側で該基板表面の欠陥に応じた光ビームの反射光を検出して、検出信号を出力する。 - 特許庁

To provide a method and a device for insulation testing, which make it possible to inspect all defect parts where sounding winging coils are abnormally close to laminate coarse (at intervals of <1 mm) through nondestructive inspection in a mass-production process.例文帳に追加

健全な巻線コイルがラミネートコアに異常接近（１ｍｍ以内）した状態にある欠陥部分を、非破壊検査により量産工程で全数検査を可能にした絶縁試験方法および装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A flaw detection result diagnostic device 14 performs arithmetic processing for identifying a defect signal and a virtual image signal by taking a correlation between a plurality of guide wave inspection images to a different frequency, imaged by the flaw detection result imaging device 13.例文帳に追加

探傷結果診断装置１４は、探傷結果映像化装置１３により映像化された、異なる周波数に対する複数のガイド波検査映像の相関を取り、欠陥信号と虚像信号とを識別する演算処理を行う。 - 特許庁

To effectively examine a ticket and adjust a fare of a passenger without using station business machines such as a ticket vending machine, a ticket examining machine, and a fare adjusting machine requiring a large load for replacement due to defect and their periodical inspection of expensive machine parts.例文帳に追加

高価なメカ部の故障による交換や定期点検による負担が大きい券売機、改札機、精算機等の駅務機器を使用しないでも、乗客の改札とその運賃決済を効果的に行えるようにする。 - 特許庁

Resist patterns corresponding to at least two exposure shots are extracted, and the resist pattern corresponding to at least one shot is compared with a master pattern as an inspection reference so as to inspect whether a defect is present in the resist pattern or not and to extract a defective portion.例文帳に追加

ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。 - 特許庁

The defect-checking device obtains a mean luminance value of an image of a size decided based on a repeating pattern or an exposure shot size for a photographs image, and checks the detect based on the mean luminance value and previously decided inspection conditions.例文帳に追加

撮像画像に対して繰返しパターン寸法又は露光ショット寸法に基づいて定められたサイズの画像の平均輝度値を求め、該平均輝度値と予め定められた検査条件とに基づいて欠陥を検査する。 - 特許庁

This device is equipped with a surface light source 10 for performing light irradiation flatly onto an inspection object painted surface, an avalanche multiplication type imaging camera 21 as the image sensor entered by the regularly reflected light from the inspection object painted surface, and an image processing device 20 for inspecting existence of a defect on the painted surface by image processing for detecting a level change of the image signal.例文帳に追加

検査対象塗面を面状に光照射する面光源１０と、検査対象塗面での正反射光を入射させるイメージセンサとしてのアバランシェ増倍型撮像カメラ２１と、その画像信号のレベル変化を検出する画像処理により、塗面の欠陥の有無を検査する画像処理装置２０とを備える。 - 特許庁

The defect-type classification part 6 classifies the types of defects, by comparing a previously prepared reference waveform with the detected waveforms and comparing inspection waveforms, acquired by TFT array inspection for classifying the types of TFT defects, with a known reference waveform and determines the types of defects that cannot be distinguished by image display.例文帳に追加

欠陥種類分類部６は、予め用意しておいた基準波形を検出波形と比較することによって、ＴＦＴの欠陥の種類を分類するＴＦＴアレイ検査で取得した検査波形を、既知の基準波形と比較することによって、欠陥種類の分類を可能とし、画像表示では区別できない欠陥種類を判別する。 - 特許庁

To provide the automatic inspection apparatus of a mold capable of simultaneously detecting the presence of recessed and protruded defects on the surface of a metal mold for anti-glaring treatment having a chromium plating surface and capable of detecting a defect with high inspection precision even with respect to a plurality of kinds of molds having different surface uneven shapes.例文帳に追加

クロムめっき表面を有する防眩処理用金属金型の表面における凹み状欠陥および凸状欠陥の有無を同時に検出でき、異なる表面凹凸形状を有する複数種類の金型に対しても高い検査精度で欠陥の検出を行なうことができる金型の自動検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and system for updating a recipe, capable of updating an optical condition stored in the recipe in order to detect a defect of a circuit pattern more easily without reducing an inspection time in a visual inspection device inspecting a semiconductor substrate including the circuit pattern formed thereon based on the recipe storing the optical condition.例文帳に追加

回路パターンが形成された半導体基板を光学条件が格納されたレシピに基づいて検査する外観検査装置において、回路パターンの欠陥をより検出し易くするために、検査時間を削ることなく、レシピに格納された光学条件を更新することが可能なレシピ更新方法およびレシピ更新システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a maintenance method for heat-exchange plates of a plate-type heat exchanger, capable of reducing maintenance cost by having a flaw inspection process for pinpointing the damaged part of the defect, especially when a penetration detect generated by damage due to an inspection process using a leak tester is found.例文帳に追加

プレート式熱交換器の熱交換板のメンテナンス方法において、特に、リークテスターを用いた検査工程により損傷により生じた貫通欠陥部が発見された場合に、損傷箇所を特定するための探傷検査工程を行うことにより、メンテナンスコストを低減しうるプレート式熱交換器の熱交換板のメンテナンス方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an imaging device (a device according to an aberration correction device) for a charge particle beam device as an electron microscope or the like used for the inspection and measurement of a semiconductor, in which a small deviation beam with a high probe current is formed to improve the resolution and throughput in EDX analysis, WDX analysis, or defect inspection.例文帳に追加

半導体の検査および計測に使用される電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置用の「撮像装置」（収差補正装置に準ずる装置）であって、ＥＤＸ分析、ＷＤＸ分析、欠陥検査等の分解能およびスループットを向上させるために高プローブ電流で分散の小さいビームを形成できるようにする。 - 特許庁

This image defect inspection device 10 is equipped with an image alignment part 22 for detecting a sub-pixel offset amount between two images which are objects under inspection, and a correction amount determination part 25 for determining a correction amount for a gray level difference detected by a difference detection part 26 at pattern edge parts of the two images based on the detected offset amount.例文帳に追加

画像欠陥検査装置１０は、検査対象たる２つの画像のサブピクセルずれ量を検出する画像アライメント部２２と、検出したサブピクセルずれ量に基づいて、差分検出部２６により検出されるグレイレベル差の、前記の２つの画像のパターンエッジ部における補正量を決定する補正量決定部２５とを備えることとする。 - 特許庁

In an optical element 1 having optical function surfaces 7, 8 including optically effective regions 10, 11, there are provided comparison standard parts 12, 14 for the visual inspection, that become comparison references when performing the visual inspection of surface defect of the optically effective regions 10, 11 based on their appearances, outside the optically effective regions 10, 11.例文帳に追加

光学有効領域１０、１１を含む光学機能面７、８を有する光学素子１において、前記光学有効領域１０、１１の外側に、前記光学有効領域１０、１１の表面欠陥を外観に基づいて検査する外観検査を行う際の比較基準となる外観検査用比較基準部１２、１４を有すること。 - 特許庁

A defect inspection device 1 includes a light source 2 for irradiating an inspection target surface 10 of a box B with a plurality of beans of slit light L; a camera 3 for photographing the slit light L emitted from the light source 2; and an image processing part 4 for determining the quality of the box B by processing an image G photographed by the camera 3.例文帳に追加

不良検査装置１は、箱Ｂの検査対象とする面１０に対して複数本のスリット光Ｌを照射する光源部２と、光源部２により照射されたスリット光Ｌを撮像するカメラ部３と、カメラ部３によって撮像された画像Ｇを処理して箱Ｂの良・不良を判定する画像処理部４と、を備えている。 - 特許庁

The inspection method of the honeycomb structure having a cell defined by a cell wall detects the defect on the basis of sound information incident to and propagated by the honeycomb structure.例文帳に追加

セル壁で画成されたセルを備えたハニカム構造体の欠陥の検査方法であって、前記ハニカム構造体に入射され、該ハニカム構造体を伝播した音響信号の情報に基づいて前記欠陥を検出するハニカム構造体の検査方法。 - 特許庁

Therefore, without lowering the display quality so much, it can save device and time for inspection and repairing operation, can reduce the cost and also can deal with even a defect after shipment even in a complicated circuit structure.例文帳に追加

したがって、表示品位をそれほど落とさずに、検査やリペア作業を行うための装置や時間を無くすことができ、コストを低減することができるとともに、複雑な回路構成であっても、また出荷後に生じた欠陥にも対応することができる。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for detecting finer defects with high sensitivity by varying illumination conditions for irradiating a sample with light arbitrarily and easily, and further by changing the transmittance of a pupil filter at a detection side and by changing phase conditions.例文帳に追加

試料に照明する照明条件を任意かつ容易に可変でき、さらに検出側の瞳フィルタの透過率、位相条件を変えることによって、より微細な欠陥を高感度に検出することができる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

A focus deviation detection device according to the present invention detects the focus deviation of an imaging device in a surface defect inspection device inspecting surface defects based on image data that is produced by imaging the surface of a test subject being transported with the imaging device.例文帳に追加

本発明の焦点ズレ検出装置は、搬送される被検査体の表面を撮像装置により撮像した画像データに基づいて、表面欠陥を検査する表面欠陥検査装置において、撮像装置の焦点ズレを検出する。 - 特許庁

To prevent stray light, such as lens-reflected light reaching an image surface from disturbing the inspection sensitivity in a dark field defect detection method by high elevation angle illumination for detecting groove bottom short-circuit defects or scratch, after the completion of etching.例文帳に追加

エッチング完了後の溝底ショート欠陥やスクラッチを検出するための高仰角照明による暗視野欠陥検出方法において、レンズ反射光などの迷光が像面に到達することによる検査感度を阻害することを防止する。 - 特許庁

To provide a surface layer part property measuring method for accurately detecting/discriminating defects doing harm after processes from inspection onward (after rolling and plating processes, for example), a surface layer defect determination method using the same, and a metallic band manufacturing method.例文帳に追加

検査以降の工程後(例えば、冷延、鍍金工程後)に有害となる欠陥を正確に検出・弁別する表層部性状測定方法及びそれを用いた表層欠陥判定方法、並びに金属帯の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enable a person to efficiently recognize the location and other information of a defect which is hardly found visually with a transparent film or a translucent film, with a simple structure in a transparent film visual inspection system.例文帳に追加

透明フィルム外観検査システムにおいて、簡単な構成により、透明フィルムや半透明フィルムにおける目視による発見が困難な欠陥に対し、その欠陥場所やその他情報を効率よく人に認識させることができるようにする。 - 特許庁

In the case the defective pixel is found out with dynamic operating inspection or the like, the laser irradiation is performed through the gouged out parts 11, 21 related to the defective pixel from the display surface side so as to short-circuit a source electrode 41 and a gate electrode 42 and the defective pixel turns into an unlit defect.例文帳に追加

点灯検査等により欠陥画素が発見された場合、該欠陥画素に係る抜き部１１，２１を通じて、表示面側からレーザー照射を行うことにより、ソース電極４１とゲート電極４２とを短絡させて、滅点化を行う。 - 特許庁

The pattern inspection device 1 is equipped with an ideal pattern generation part 30 which automatically generates an ideal pattern PR and a comparison decision part 50 which decides a defect of an inspected pattern by using the result of a comparison between the ideal pattern PR and inspected pattern PS.例文帳に追加

パターン検査装置１は、理想パターンＰＲを自動生成する理想パターン生成部３０と、理想パターンＰＲおよび被検査パターンＰＳとの比較結果を用いて被検査パターンの欠陥を判定する比較判定部５０とを備えている。 - 特許庁

The wafer appearance inspection device 201 includes: a measuring stage 205; a monitor camera 203 for imaging a surface shape of a wafer 204 placed on the stage; and a control computer 202 for executing detection processing of surface shape defect of the wafer 204.例文帳に追加

ウェーハ外観検査装置２０１は、測定ステージ２０５と、その上に載置されたウェーハ２０４の表面形状を撮像するモニタカメラ２０３と、ウェーハ２０４の表面形状欠陥の検出処理を実行する制御用コンピュータ２０２を備える。 - 特許庁

To provide a lighting device for inspection which is capable of irradiating a long-sized object to be inspected like a cable with uniform illuminance so that a defect of appearance can be stably detected by an image processing system, when inspecting the appearance of the object to be inspected.例文帳に追加

ケーブルのような長尺物の被検査物の外観検査を行うに当たって、画像処理システムで安定して外観の欠陥を検出できるよう、一様な照度で被検査物を照射することができる検査用照明装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.例文帳に追加

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, an image judger/controller 22 judges that a defect is in the tape carrier when the processing results by the image measuring parts 20 agree with one of the specified combinations, based on the inspection logic consisting of the combination of predetermined processings.例文帳に追加

さらに、画像判断／制御部２２は、予め定められた処理の組み合わせからなる検査論理に基づき、画像計測部２０による処理結果が、所定の組み合わせの一つに合致したときに、テープキャリアに欠陥が生じていると判断する。 - 特許庁

To provide an inspection device for flat display panels capable of properly detecting even a slight defect such as being different from a surrounding brightness, adjusting the detection to the property of the human eye, and capable of performing processing at extremely high speed.例文帳に追加

平面表示パネルを、人間の目の特性に合わせた周囲輝度との違いといった僅かな欠陥についても適切に検知することができると共に、極めて高速に処理することができる平面表示パネルの検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect-inspecting apparatus that dispenses with the rotating mechanism of a color filter inside a camera, eliminates the rotation waiting time of the filter, minimizes image capturing and image data transfer of a high-resolution camera, and reduces the inspection time.例文帳に追加

カメラ内部にカラーフィルタの回転機構を不要にして、フィルタの回転待ち時間が無くなるようにすると共に、高解像度カメラの画像撮像と撮像データ転送は最小限にし、検査時間の短縮を実現した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide, as an ArF excimer laser mask, a phase shift mask blank which has minimized wavelength dependency of transmittance so as to make defect inspection possible, and which is processed with a single dry etching gas, and also to provide a phase shift mask and a pattern transfer method using the blank.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a rolling device component capable of accurately inspecting whether a defect such as a ground flaw exists inside the rolling device component without being affected by a foreign substance adhering to a surface of the rolling device component.例文帳に追加

転動装置部品の表面に付着した異物の影響を受けることなく地疵などの欠陥が転動装置部品の内部に存在しているか否かを精度よく検査することのできる転動装置部品の検査方法を提供する。 - 特許庁