「Defect Inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

To conduct totally nondestructive inspection on a welded part between a header and an annular line, which constitutes a constricted part in a reactor, an on nearby portions, thus accurately inspect the presence of a defect such as cracking.例文帳に追加

原子炉内の狭隘部となっているヘッダと円環状配管との溶接部およびその近傍に対して前面的に非破壊検査を実施し、割れ等の欠陥の有無を正確に検査できるようにする。 - 特許庁

Namely, the semiconductor chip mounted circuit 1 scarcely causes a defect in conduction, because the semiconductor chip 20 and the mounted circuit 10 are bonded with both the devices that have passed the conduction inspection as it stands.例文帳に追加

つまり、半導体チップ２０および実装回路１０が導通検査に合格した状態のままで接合するので、半導体チップ搭載回路１が導通不良を起こすことが極めて少なくなる。 - 特許庁

As compared with visual inspection with the naked eye, the LCD 1 can optically and electrically be inspected, so the detection precision as to foreign matter, a defect, etc., can be maintained uniformly above the constant level.例文帳に追加

肉眼による目視検査と比べて、ＬＣＤ１を光学的かつ電気的に検査できるので、異物や欠陥等の検出精度を均一、かつ一定の水準以上に維持することができる。 - 特許庁

To provide a profile sensor roll for a rolled material, which can easily install pressure sensors therein, and which is excellent in workability for assembly, maintenance, and inspection, and which does not cause the defect of detecting accuracy due to residual stress.例文帳に追加

圧力センサを容易に設置することが可能で組立や保守点検の作業性が良く、残留応力に起因する検出精度不良のない圧延材の形状センサーロールを提供する。 - 特許庁

To improve the reliability of defect detection sensitivity and an inspection result by removing the noise of a high frequency component resulting from detailed unevenness produced in the case of processing a semiconductor device circuit pattern.例文帳に追加

半導体装置回路パターンを加工する際に生ずる微細な凹凸に起因した高周波成分のノイズを除去することにより、欠陥検出感度・検査結果の信頼性を向上する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge device, a droplet discharge method, and a method for manufacturing an electro-optical device, which allow efficient drawing on a work by shortening the time required for discharge defect inspection.例文帳に追加

吐出不良検査に要する時間を短縮し、ワークに対しての描画を効率良く行うことができる液滴吐出装置、液滴吐出方法及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Defect inspection at high speed is carried out by checking an image of secondary electrons which are generated by the scanning/irradiating.例文帳に追加

半導体製造工程中の高い段差のあるパターンを持つウエハに１００ｅＶ以上１０００ｅＶ以下の照射エネルギ−の電子線を走査・照射し、発生した２次電子の画像から高速に欠陥検査を行う。 - 特許庁

A primary candidate extraction part 11 binarizes the gradation image of the surface of a wood material divided into a plurality of inspection target regions photographed by the line sensor camera, and extracts a primary defect candidate region.例文帳に追加

一次候補抽出部１１は、複数の検査対象領域に区画されている木材の表面をラインセンサカメラにより撮像した濃淡画像を２値化し、一次欠陥候補領域を抽出する。 - 特許庁

To suppress a defect while maintaining a cache coherence domain by performing address inspection before data intercepted by a memory controller are processed.例文帳に追加

欠陥抑制キャッシュ・コヒーレンス・ドメイン及びキャッシュ・コヒーレントな区画間メモリ領域を可能としながら、キャッシュ・コヒーレントな対称型共有メモリ・マルチプロセッサ・システムにおける欠陥抑制メモリ区画化を達成する。 - 特許庁

By utilizing the charge by the electron beam irradiation, a defect is detected by performing inspection, by acquiring a potential contrast image in a state in which the difference in the electrical resistance value between the normal part and the defective part is increased sufficiently.例文帳に追加

電子ビーム照射による帯電を利用し、正常部と欠陥部の電気抵抗値の差を十分増大させた状態で電位コントラスト像を取得して検査を行い欠陥を検出する。 - 特許庁

To enable selecting an illumination angle for enlarging an effective inspection range and excellently detecting defects by suppressing generation of reflection, and to improve irregularity detection ability with improved image contrast between irregularity defect and a normal part by reducing limitations of illumination angle in an irregularity inspection device and method for detecting irregularity defect of an inspected object having a periodic pattern.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ欠陥を検出するためのムラ検査装置および方法において、映り込みの発生を抑制して、有効な検査範囲の拡大、良好な欠陥の検出が可能な照明角度を選択できるようにすること、また照明角度の制限を減らすことによって、ムラ欠陥と正常部との画像コントラストの向上が期待でき、結果的にムラ検出能力を向上すること - 特許庁

The inspection method of the active matrix substrate in which a plurality of pixels selectively operable are arranged in a matrix shape comprises: a step of irradiating a specified inspection pixel with electron beams; a step of measuring electric charge quantity supplied to the inspection pixel by the electron beams; and a step of the presence or absence of a defect in the inspection pixel based on the electric charge quantity.例文帳に追加

上述した課題は、選択的に動作可能な複数の画素をマトリクス状に配置したアクティブマトリクス基板の検査方法であって、所定の検査画素に電子線を照射するステップと、前記電子線により前記検査画素に供給された電荷量を測定するステップと、前記電荷量に基づいて前記検査画素の欠陥の有無を判定するステップと、を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板の検査方法等により解決することができる。 - 特許庁

To provide an inspection method allowing the measurement of a position of a defect of an inspection object in the thickness direction of inspection object in a method of inspecting an optical display unit by emitting light from one direction of the optical display unit provided with an optical film, imaging a transmission optical image of the light in another direction, and detecting a bright spot from an image obtained by the imaging.例文帳に追加

その目的は、光学フィルムが設けられた光学表示ユニットの一方面から光を照射し、その他方面で当該光の透過光像を撮像し、当該撮像した画像から輝点を検出する、光学表示ユニットの検査方法において、検査対象物の欠点の、検査対象物の厚み方向の位置を測定可能とした検査方法を提供することにある。 - 特許庁

The defect inspection method for a resist pattern includes (a) a step of forming the resist pattern on a semiconductor substrate, (b) a step of etching the semiconductor substrate with the resist pattern used as a mask, and (c) a step of inspecting the etched semiconductor substrate for a defect as a substitute of the resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの欠陥検査方法は、（ａ）半導体基板上にレジストパターンを形成する工程と、（ｂ）前記レジストパターンをマスクとして用いて半導体基板をエッチングする工程と、（ｃ）レジストパターンの代替えとして前記エッチング後の半導体基板の欠陥検査を行う工程を備える。 - 特許庁

The pixel defect inspection method includes a step of accumulating a charge by applying to a light emitting layer 23 a voltage less than the voltage at which the light emitting layer 23 emits light for each pixel area 11, a step of measuring the accumulated charge amount, and a step of judging an existence of a defect at the pixel area 11 from the measured charge amount.例文帳に追加

画素領域１１それぞれについて、発光層２３が発光する電圧以下の電圧を発光層２３に印加して電荷を蓄積する工程と、蓄積された電荷量を測定する工程と、測定した電荷量から画素領域１１における欠陥の有無を判断する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a lens-defect inspection device capable of inspecting the defects of a lens with high accuracy, while preventing foreign matters adhered to the lens from being deemed a defect by effectively using a facial illuminator, a liquid crystal panel, an imaging means and a foreign-matter removal means and which is made simple in constitution and cane beg formed at low cost.例文帳に追加

面照明と液晶パネル、撮像手段及び異物除去手段等の効果的な使用により、レンズに付着した異物を欠陥として判定することを防止しつつ、レンズ自体の欠陥を高精度に検査できると共に、構成簡易にして安価に形成可能なレンズ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of determining intensity of defect detection signal necessary for detection and capable of shortening the inspection time as much as possible, upon inspecting a short circuit defect of conductor on the panel circuit board in the method of detecting the current variation accompanied by the resistance variation caused by the laser irradiation while applying electric bias on the conductor.例文帳に追加

パネル回路基板の導線のショート欠陥を検査するにあたり、導線へ電気バイアスを印加しながら、レーザ光照射による抵抗変化がもたらした電流変化を検出する方法において、必要な欠陥検出信号の強度が得られ、かつ、検査時間を極力短縮することができる技術を提供する。 - 特許庁

A non-destructive inspection apparatus is provided with a defect scanning means 20 for scanning the internal defects of the specimen 3 and a defect width changing means 10 for applying a predetermined action to the specimen 3, and forcibly changing the width of the closed internal defects to be within predetermined dimensions, and scans the defects.例文帳に追加

被検査体３の内部欠陥を探傷する欠陥探傷手段２０と、前記被検査体３に所定の作用を施して、前記内部欠陥のうち所定寸法以下の幅に閉ざされた内部欠陥の幅を強制的に変化させる欠陥幅変化手段１０とを備えた非破壊検査装置で欠陥を探傷する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device for highly precisely detecting a defect of a rotor-shaped measuring object having a surface with high reflectivity on the basis of a two dimensional image by photographing light reflected from the measuring object by irradiating a slit laser beam or the like to the rotor-shaped measuring object.例文帳に追加

本発明は、スリットレーザ光等を、回転体状の測定対象に照射し、測定対象からの反射光を撮影した二次元画像に基づいて、回転体状かつ表面が高い反射率を有する測定対象の欠陥を高精度に検出する欠陥検査装置を実現することを目的とする。 - 特許庁

The mounting line is provided with a mounting machine specifying means specifying a defective mounting machine processing a mounting defect component from a plurality of the mounting machines 10 when the inspection machine 93 detects the mounting defect component and a mounting machine stopping means stopping the defective mounting machine which the mounting machine specifying means specifies.例文帳に追加

本実装ラインは、検査機９３によって実装不良部品が発見された際に、複数の実装機１０の中から実装不良部品を処理した不良実装機を特定する実装機特定手段と、実装機特定手段によって特定された不良実装機を停止させる実装機停止手段と、を備える。 - 特許庁

The defect inspecting apparatus has a laser source 3, and a linear sensor 13 for detecting reflection light from a sample 1 irradiated with laser beams emitted from the laser source 3 and an observation camera 24 for acquiring defect inspection images for detecting defects on the sample by the linear sensor and acquiring the observation images of the samples by the observation camera.例文帳に追加

レーザ源３と、レーザ源３から出射したレーザ光によって照射された試料１からの反射光を検出するリニアセンサ１３と観察カメラ２４とを有し、上記リニアセンサにより試料上の欠陥を検出するための欠陥検査画像を取得し、上記観察カメラにより試料の観察画像を取得する。 - 特許庁

The defect inspection device for inspecting the presence of the defect of an object to be inspected using the neural network is equipped with an artificial flaw forming means for forming the artificial defective image of the object to be inspected by image processing and a learning means for learning the neural network on the basis of the artificially formed defective image.例文帳に追加

ニューラルネットワークを用いて被検物の欠陥の有無を検査する欠陥検査装置において、被検物の人工的な欠陥画像を画像処理により作成する人工欠陥作成手段と、人工的に作成された欠陥画像により前記ニューラルネットワークを学習させる学習手段と、を備える。 - 特許庁

This inspection device is provided with an imaging device 11 for imaging the plurality of transmission surfaces, and an image processing part 16 for processing an image imaged by the imaging device to detect a foreign matter or a defect, in order to inspect a foreign matter or a defect on the plurality of transmission surfaces in a specimen including the plurality of laminated transmission surfaces.例文帳に追加

積層された複数の透過部材を含む被検物における複数の透過面の異物または欠陥に関して検査するために、前記複数の透過面を撮像する撮像装置１１と、前記撮像装置にて撮像した画像を処理して前記異物または欠陥を検出する画像処理部１６とを設ける。 - 特許庁

A vehicle painted face inspection device is provided with an image pick-up device, and an image processing means for detecting automatically a fine defect generated on a vehicular painted face, based on a change in an image signal therefrom, and for preparing a two-dimensional defect position data projected with the fine defective position on a two-dimensional horizontal or vertical projection face.例文帳に追加

車両塗面検査装置は、撮像装置と、その画像信号の変化から車両塗面に生じている微小欠陥を自動的に検知して、この微小欠陥位置を水平もしくは垂直の二次元投影面に投影した二次元の欠陥位置データを作成する画像処理手段とを備える。 - 特許庁

Also by the structure that the perfect Cr shading part is the Cr recessing type, the dicing mark part is the Cr recessing type and the pattern part is the HT pattern, the resist shape on the wafer after the photomask pattern exposure is improved and defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained too.例文帳に追加

完全Ｃｒ遮光部はＣｒ後退型、ダイシングマーク部はＣｒ後退型、パターン部はＨＴパターンという構造を有することによっても、同様にフォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁

A plurality of review data are related to one inspection data, and a plurality of defect data are related to one review data so that the data are displayed on a review data display device 104 by storing referential relations between wafer data and between the defect data and the review data in link data areas 110 and 113.例文帳に追加

ウェハデータ間の参照関係および欠陥データとレビューデータ間の参照関係をリンクデータ領域１１０および１１３に記憶することで、１つの検査データに複数のレビューデータを関連付けるとともに、１つのレビューデータに複数の欠陥データを関連付け、レビューデータ表示装置１０４によって表示可能とする。 - 特許庁

The test piece used for the calibration of the seam defect inspection machine is produced by obtaining the reflection properties to illumination light in the upper end of the seam in the seam defect part, and forming a flat reflection face part on the optional part at the upper part of the seam in the seam part on the basis of the reflection properties.例文帳に追加

このような巻締め不良検査機の較正に用いる較正用試験片は、巻締め不良部位における巻締め上端の照明光に対する反射特性を求め、その反射特性に基づいて扁平な反射面部を巻締め部の巻締め上端の任意部位に形成することで作成される。 - 特許庁

To provide an evaluating method of a minute defect in a silicon wafer that can detect the minute defect that is smaller than the detection lower limit of a light scattering type surface inspection apparatus on a silicon wafer surface that is smoothed by mirror machining, and can further detect the minute defect that exists not only on the wafer surface but also inside a wafer surface layer that influences the performance of a device formed on the wafer surface.例文帳に追加

鏡面加工により平滑化されたシリコンウエハ表面において、光散乱式表面検査装置の検出下限界よりも小さいサイズの微小欠陥を検出することができ、しかも、ウエハ表面だけでなく、その上に形成されるデバイスの性能に影響を及ぼすウエハ表層内部に存在する微小欠陥をも検出することができるシリコンウエハの微小欠陥の評価方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the mentioned time is set much longer than the time constant of the RC product of a resistance component generated owing to the insulation characteristic defect and the capacity of a bit line, variation in bit line potential due to a leak can be detected by a sense amplifier at the inspection time, and the reliability defect having the resistance component can be detected as a defect in the beginning.例文帳に追加

この結果、セルプレート線信号（ＣＰ）活性化からセンスアンプ信号（ＳＡ）活性化までの時間が、絶縁特性不良によって発生する抵抗成分とビット線容量のＲＣ積の時定数より十分に長く設定され、リークによるビット線電位の変動を検査時にセンスアンプにより検出することが可能となり、抵抗成分を有する信頼性不良を初期に不良として検出することができる。 - 特許庁

To provide a defect inspection method of a master information carrier, which detects without fail the defects caused by the master information carrier in a magnetic-transfer method which carries out transfer by making a magnetic disk contact physically close the master information carrier.例文帳に追加

磁気ディスクとマスタ情報担体を物理的に密着させる磁気転写方法において、マスタ情報担体が原因となる欠陥を確実に検出するマスタ情報担体の欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device which can perform stable detecting operation by reducing the influence of noise when detecting a defect that a repetitive pattern has without giving an ideal pattern in advance.例文帳に追加

あらかじめ理想パターンを与えることなく、繰り返しパターンに存在する欠陥を検出するにあたって、ノイズの影響を低減させて安定した検出動作を行うことが可能なパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

In the case, for example, where it is detected by this inspection that a light emitting element Gp of the light emitting element array Lb has the pixel defect, light emission of the light emitting element array Lb is stopped, and the light emitting element array La is made to emit light.例文帳に追加

この検査によって、例えば発光素子列Ｌｂの発光素子Ｇｐに画素欠陥があることが検出された場合には、発光素子列Ｌｂの発光を停止し、発光素子列Ｌａを発光させる。 - 特許庁

The inspection device 16 carries out pattern matching based on scan data obtained by scanning a substrate with the wiring pattern formed thereon by a scanner 28 and based on the corrected raster data, and inspects a defect in the wiring pattern formed on the substrate.例文帳に追加

検査装置１６は、配線パターンが形成された基板をスキャナ２８によりスキャンしたスキャンデータと、補正ラスタデータ３８とに基づいてパターンマッチングを行い、基板上に形成された配線パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting defects in a three-dimensional shape capable of accurately executing defect inspection on a work surface without changing settings according to temperature changes or actively controlling a temperature environment.例文帳に追加

温度変化に応じて設定を変えたり、温度環境を積極的に制御したりしなくても、ワーク表面の欠陥検査を的確に実行することのできる三次元形状の欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an eddy current flaw detection probe for a pulsed eddy current flaw detector inspecting magnetic materials, such as carbon steel, capable of detecting defects inherent in an inspection object at a high resolution, while maintaining defect detection sensitivity.例文帳に追加

炭素鋼等の磁性材に対する検査を行うパルス渦電流探傷装置の渦電流探傷プルーブにおいて、被検査体に内在する欠陥を、欠陥検出感度を維持しつつ高分解能で検出する。 - 特許庁

To provide a substrate circuit pattern defect inspecting device and an inspection method capable of decreasing frequency of erroneous measurement due to contact pressure and shortening the measurement time, by installing a capacitor sensor to a connecting circuit pattern in a noncontact manner.例文帳に追加

連結回路パターンにキャパシタセンサーが非接触式で設置されて、接触圧力による誤測定の頻度を減らし、測定時間を節減する基板の回路パターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a safe pinhole inspection machine of a low voltage application system, having a simple structure, capable of inspecting a pinhole or a seal defect by applying a voltage to a top seal of a cup package surely, directly all at once.例文帳に追加

簡単な構造であり、カップ包装品のトップシールに確実、直接、一挙に電圧を印加し、ピンホール又はシール不良の検査を可能とした低電圧印加方式の安全なピンホール検査機を提供する。 - 特許庁

Each pattern while having a reflection factor of ≤20% to exposure light of 248 (nm) in wavelength, has a ≥10% difference to defect inspection light of 488 (nm) in wavelength.例文帳に追加

各パターンは、波長２４８［ｎｍ］の露光光に対しては、共に２０％以下の反射率を示す一方、波長４８８［ｎｍ］の欠陥検査光に対しては、１０％以上の相違を示すように構成されている。 - 特許庁

To provide a method for easily performing optical defect inspection, satisfying mechanical strength and excellent peeling property required in manufacturing by a method for manufacturing a liquid crystal film which includes no base substrate film and is made thin.例文帳に追加

支持基板フィルムのない薄膜化した液晶フィルムの製造法において、製造時に要求される機械的強度、良好な剥離性を満足し、かつ光学的な欠陥検査を容易にできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film for a base material-less double-sided adhesive sheet in which a defect at inspection can be readily detected and which can be suitably used for optical purposes, for example, a touch panel, a liquid crystal polarizing plate, a retardation plate or the like.例文帳に追加

検査時の不具合を容易に検出することができ、光学用途、例えば、タッチパネル、液晶偏向板、位相差板等に好適に利用することのできる基材レス両面シート用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To simplify an inspection method for distinguishably specifying whether a defect like a bright line or a dark line of a liquid crystal panel is caused due to the liquid crystal panel or an IC chip of a COF.例文帳に追加

液晶パネルの輝線、滅線といった不良が、液晶パネルに起因する不良であるか、ＣＯＦのＩＣチップに起因する不良であるか、ということを切り分けて特定するための検査方法を簡易化する。 - 特許庁

To provide an irregularity inspection device that prevents irregularity in film thickness of photoresist of an RGB pixel portion, pattern missing of a BM pattern, an RGB pattern and a PS/VA pattern of a blank glass portion, a mark, and a product type number, and a height defect.例文帳に追加

ＲＧＢ画素部のフォトレジストの膜厚ムラや素ガラス部のＢＭパターン、ＲＧＢパターン、ＰＳ／ＶＡパターンやマークや品種番号のパターン欠けや高さ不良の発生を防止するムラ検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for defect inspection, capable of avoiding the effect caused by detected pixel shift and pixel crack, and capable of mutually adding scattered lights generated from almost the same region.例文帳に追加

検出画素ずれおよび画素割れによる影響を回避し、概略同一の領域から発生する散乱光同士を加算可能にする欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Defect inspection based upon whether data synchronism can be detected is carried out by using a data synchronizing signal 52 which is longer by fluctuation in rotation before and after a data synchronizing signal 52 in normal reproduction of recording information including its retrial.例文帳に追加

リトライを含む通常の記録情報の再生時のデータ同期信号５２よりも前後に回転変動分だけ長いデータ同期信号５７を使用してデータ同期検出の可否に基づく欠陥検査を実施する。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction method for decreasing the number of times of proximity effect correction which induces defects in judging the accuracy of proximity effect correction and thereby, for decreasing works in conventional defect judgment inspection.例文帳に追加

近接効果補正の精度判定において、欠陥となる近接効果補正の回数を低減し、これにより従来の欠陥判定検査における作業を軽減することができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁