Due Processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2146件
To suppress deterioration in production efficiency of electronic component by preventing a main pressing process from being interrupted due to replacement of a component in a hydrostatic press machine.例文帳に追加
静水圧プレス機の部品交換を原因として本圧着工程が中断されることを防止して電子部品の生産効率低下を抑制できる積層型電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition capable of suppressing reduction in luminance due to a heating process, and to provide a color filter using the photosensitive resin composition and a display device using the color filter.例文帳に追加
加熱工程による輝度低下を抑制することのできる感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルター及び当該カラーフィルターを用いた表示装置を提供する。 - 特許庁
By this process, the unevenness due to the overlap of the laser shots does not occur in the region except for the thin film transistor, resulting in an advantage that a polycrystalline thin film transistor for a display unit of high picture quality can be manufactured.例文帳に追加
このようにすると、薄膜トランジスタを除いた領域で、前記レーザーショットのオーバーラップによる不均一特徴が現れないため、高画質の多結晶薄膜トランジスタの制作ができる長所がある。 - 特許庁
To reduce cost by remarkably improving a success rate of automatic paper tube replacement during winding and reducing deterioration of operability due to oil agent scatter in a winding or working process.例文帳に追加
巻取り時の自動紙管交換成功率を著しく改善し、巻取りおよび加工工程での油剤飛散に起因する操業性の低下を改善し、コストダウンを可能にすることを目的とする。 - 特許庁
Thus, cost reduction by the reduction of a number of masks and simplification of a manufacturing process can be achieved, and a problem of an increase in resistance due to non-uniform doping in a capacitor can be also resolved.例文帳に追加
これにより、マスク数の低減によるコストの節減及び製造工程の単純化を実現することができ、またキャパシタの不均一ドーピングによる抵抗増加の憂慮も解消することができる。 - 特許庁
To provide a single-component developing device suppressing image density irregularity due to inferior resetting property of toner and giving excellent image stability, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the device.例文帳に追加
トナーのリセット性不良による画像濃度ムラを抑制し、しかも優れた画像安定性の得られる1成分現像装置、及びそれを用いたプロセスカートリッジ、画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device which eliminates process defects on a ferroelectric material due to the peel of a reaction product and is capable of obtaining a semiconductor device having normal characteristics.例文帳に追加
反応生成物の剥離による強誘電体材料の加工不良を無くし、正常な特性を有する半導体装置を得ることのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a developing device, an image forming device and a process cartridge capable of preventing a white stripe from occurring on a toner image due to the accumulation of developer before a developer regulating member.例文帳に追加
現像剤規制部材の手前での現像剤の蓄積を原因とするトナー像上の白スジの発生を防ぐことができる現像装置及び画像形成装置、並びにプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁
Hereby, cracks of the substrate due to stresses added on the panel during the manufacturing processes can be prevented and this is realized by adding only a cutting process without substantial changes.例文帳に追加
これにより、製造工程途中でパネルに加えられるストレスによる基板の割れを防ぐことができ、しかも製造工程に切断の工程を追加するのみで大幅に変更することなく実現できる。 - 特許庁
The image is formed in the electrophotographic process by using toner, containing a temperature indicating material and a developer, generating at least any one of changes among coloration due to changes in temperature, fading and discoloration.例文帳に追加
温度の変化により着色、退色および変色の少なくとも何れかの変化を生じる示温材料を含むトナー及び現像剤を用い、画像を電子写真方式により形成する。 - 特許庁
To provide a reliable packaging member whose dielectric layer cannot be cracked due to the thermal stress of a packaging process while a low- inductance capacitor is used as the internal layer.例文帳に追加
低インダクタンスのコンデンサを内層した実装部材であって、実装プロセスの熱応力により誘電体層に亀裂が入ることがなく、信頼性が高い実装部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a contact device, a relay using the same, and a micro relay capable of preventing deterioration of switching performance of contact points due to their sticking, without greatly changing a manufacturing process.例文帳に追加
製造工程を大幅に変更することなく接点間の固着による接点の開閉性能の低下を防止することのできる接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレーを提供する。 - 特許庁
To solve such a problem that a threshold voltage is greatly shifted to a negative value due to heat treatment of an a-IGZO thin film, and to suppress the maximum temperature in a device production process lower than a softening point of a plastic substrate.例文帳に追加
a−IGZO薄膜の熱処理による閾値電圧が大きく負の値にシフトしてしまう問題の解決とデバイス作製プロセスの最高温度をプラスチック基板の軟化点よりも低く抑える。 - 特許庁
To provide a case that facilitates an inside wiring process without increasing the number of components and is free of having a risk that a wired wire falls from a fixation place due to a shock of vibration, falling, etc.例文帳に追加
部品点数を増やすことなく内部での配線処理が簡単になり、また、配線された線材が振動や落下等の衝撃によって固定箇所から外れるおそれのない筺体を提供する。 - 特許庁
Thus, since communication control started earlier, in this case, the smart communication control, is not terminated in the middle of the process, unnecessary communication control due to the termination is not performed.例文帳に追加
このため、先に開始された通信制御、すなわちこの場合、スマート通信制御が途中で打ち切られることがないので、それが途中で打ち切られる場合に生じる通信制御の無駄が発生しない。 - 特許庁
To provide a developing roller that prevents periodical image density unevenness due to a developing sleeve when the developing roller regularly rotates, and to provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加
現像ローラが規則的に回転することによる現像スリーブの周期的な画像濃度ムラが発生することを防止できる現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate for a solar cell which allows an operator to easily check the position of the substrate and determine the orientation of the substrate in the manufacturing process, which prevents occurring defects due to the orientation of the substrate.例文帳に追加
基板の位置を容易に確認でき、製造工程において基板の向きの判別が可能となり、基板の向きが原因で発生する不良が抑制される太陽電池用基板を提供する。 - 特許庁
To provide a developing device capable of developing an excellent image by restraining the increase of the rate of un-electrified toner due to long-term operation, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the developing device.例文帳に追加
長時間の稼動による未帯電トナーの割合増加を抑制して良好な画像を現像可能な現像装置及びこれを用いたプロセスカートリッジ並びに画像形成装置の提供。 - 特許庁
To eliminate necessity of a manager storing a rejected banknote discriminated as a defective due to damage etc. in a money depositing process, and to treat it as money deposition information of a device in a closing operation.例文帳に追加
入金処理時に汚損等により金種不明と鑑別されたリジェクト紙幣結局責任者等が保管する必要をなくし、締上げ時にも装置の入金情報として扱うことを可能にする。 - 特許庁
A spin-on low-k CMP protective layer 5 prevents a damage which may occur on the low-k dielectric 3 due to an uneven CMP process from the center to an edge or in an area varied in metal density.例文帳に追加
スピンオン低kCMP保護層5は、中央部からエッジへのまたは金属密度が変化する領域におけるCMPプロセスの非均一性のために生じ得る低k誘電体3へのダメージを阻止する。 - 特許庁
To obtain an imaging apparatus making it unnecessary to provide a space for wiring a lead wire and FPC, and also a space margin due to an error of a soldering amount, and making a production process simplify.例文帳に追加
リード線やFPCの引き回しのためのスペースが不要であり、また、半田付け量の誤差によるスペースの余裕を設ける必要がなく、さらに、生産工程が簡素化できる撮像装置を得る。 - 特許庁
Sufficient moisture-proof performance is secured for the scintillator layer 13, and the stress applied to the array substrate 12 by the moisture-proof structure 15 due to a manufacturing process or temperature change after the manufacture is suppressed.例文帳に追加
シンチレータ層13に対して充分な防湿性能を確保し、かつ、製造工程および製造後の温度変化などにより防湿構造15がアレイ基板12に対して及ぼす応力を抑制できる。 - 特許庁
To provide a waveguide element and a wavelength conversion element capable of suppressing variations of effective refractive index due to a size error that a channel optical waveguide has during a manufacturing process.例文帳に追加
製造過程においてチャネル型光導波路に導入される寸法誤差により生じる等価屈折率のバラツキを抑制することができる導波路素子及び波長変換素子を提供すること。 - 特許庁
To protect it from being blackened or mask pull force being exposed to reduction in annealing process and to lessen occurrence of electron beam drift phenomena originated from swelled mask and hauling phenomena due to mask vibration.例文帳に追加
黒化またはアニーリング工程におけるマスクの引張り力の減少を防止し、マスクが膨脹することにより生じる電子ビームドリフト現象とマスク振動によるハウリング現象とを低減させる。 - 特許庁
To prevent a lower layer inter connection formed on a BPSG film from being short-circuited electrically with an upper layer interconnection formed subsequently due to flow of the BPSG film occurring during a thermal process.例文帳に追加
BPSG膜上に形成された下部配線が熱工程の間に発生するBPSG膜のフローにより、後続して形成される上部配線と電気的にショートされることを防止する。 - 特許庁
When a threshold voltage of the reset transistor 2 rises due to the process variation, a threshold voltage of the transistor 8 also rises to reduce the output voltage of the source- follower circuit 10 and hence lower the reset drain voltage.例文帳に追加
プロセスばらつきによりリセットトランジスタ2のしきい値電圧が高くなるとトランジスタ8のしきい値電圧も高くなり、ソースフォロワ回路10の出力電圧が減少してリセットドレイン電圧が低くなる。 - 特許庁
To eliminate inexpedience due to a wait of an IPsec process occurring until an SA with a device of a transmission destination is established when the SA is not established, in IPsec communication.例文帳に追加
IPsec通信において、送信先の装置とのSAが確立されていない場合に、このSAが確立されるまでの間に生じるIPsec処理の「待ち」による不都合を解消すること。 - 特許庁
To provide a photomask pattern verification method, capable of preventing abnormality in a resist pattern due to occurrence of an MEF (mask error factor) in a semiconductor manufacturing process and capable of determining the photomask pattern that has a suitable shape.例文帳に追加
半導体製造工程でのMEFの発生に起因するレジストパターンの異常を抑制することができ、適した形状のフォトマスクパターンを判定できるフォトマスクパターンの検証方法を提供する。 - 特許庁
This is supposed to be caused by a temperature fall of a glass tube 100 during a winding process and both end parts of the glass tube not heated due to tension given during the winding.例文帳に追加
これは、巻回過程中におけるガラス管100の温度低下、および巻回時にテンションを加えるためにガラス管100の両端部には熱が加えられないことなどが原因であると考えられる。 - 特許庁
To improve durability of a solid polymer electrolyte membrane advantageously with a simple process and without causing a dimensional change in the solid polymer electrolyte membrane due to a humidity change.例文帳に追加
簡単な工程で、固体高分子電解質膜に湿度変化に伴う寸法変化を惹起することがなく、前記固体高分子電解質膜の耐久性を良好に向上させることを可能にする。 - 特許庁
To provide a process cartridge and image forming apparatus capable of suppressing the deterioration in sharpness generated due to the passage of residual toner after transfer through a latent image forming region during latent image formation.例文帳に追加
転写残トナーが潜像画像形成中に潜像形成領域を通過することによって生じる画質劣化を抑制することができるプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
Temperature distribution in the plate 31 stays uniform in the presence of a temperature rise in the plate 31 during the film fabrication process because the excess heat is transmitted from the plate 31 to other parts due to the convection of the material gas.例文帳に追加
従って、成膜中にプレート部31が昇温したとしても、原料ガスの対流によってプレート部31の熱が他の部分に伝わるので、プレート部31の温度分布が均一となる。 - 特許庁
If the supply of the mist-state cooling agent is stopped during the cutting process, the piston 16 recedes due to the contraction of a coil spring 22, and consequently, the perforated end mill 14 will come off from the workpiece W.例文帳に追加
切削加工途中にミスト状冷却剤の供給が停止されると、コイルスプリング22の収縮作用下にピストン16が後退動作し、その結果、穴付エンドミル14がワークWから離脱する。 - 特許庁
To provide an ultrahigh purity process for processing elements such as zinc and selenium by the mass separation method that relieves a load due to impurities resulting from a starting material and improves ionization efficiency and productivity.例文帳に追加
亜鉛、セレンなどの元素を質量分離法により超高純度化プロセスにおいて、出発原料に由来する不純物による負荷を軽減し、且つイオン化効率を向上し、生産性を向上する。 - 特許庁
By this constitution, the required places of the paper base material 100 are bent and bonded only by one process work due to the falling of the male mold member 2 to mold the upwardly opened triangular paper tray B.例文帳に追加
これにより、雄型部材2の下降による一工程作業だけで、紙製基材100の要所を折り曲げ且つ接着して、上面が開口する三角形状の紙製トレーBを成形することができる。 - 特許庁
To eliminate the need for heat treatment over a long time in the impurity diffusion process while protecting a tunnel insulation film against damage due to implantation of impurity ions using a gate electrode as a mask.例文帳に追加
ゲート電極をマスクとした不純物イオンの注入によるトンネル絶縁膜への損傷を防止しながら、不純物拡散工程における長時間にわたる熱処理を不要にできるようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor and its system that can support high integration and high-speed by means of monitoring fluctuations due to process variations in a system LSI or the like.例文帳に追加
システムLSI等において、プロセスばらつきの変動を監視することによって、高集積化および高速性に対応出来るようにした半導体の製造方法およびそのシステムを提供することにある。 - 特許庁
To allow a semiconductor device having a capacitive insulating film made of a ferroelectric material or a high dielectric-constant material to surely prevent the capacitive insulating film from being deteriorated due to hydrogen during a fabricating process.例文帳に追加
強誘電体又は高誘電体を用いた容量絶縁膜を有する半導体装置において、容量絶縁膜のプロセス中の水素による劣化を確実に防止できるようにする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a liquid crystal unit which can surely work a panel shape to the desired one as well as prevent a panel structure from any damage due to a board cracking, etc., in shaping process of the liquid crystal panel.例文帳に追加
液晶パネルの外形加工時において、確実にパネル外形を所望の形状に加工できるとともに基板割れなどによるパネル構造の損傷を防止することのできる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a duplex writing utensil capable of solving inconveniences occurring within the writing utensil by an impact at the return of a writing body, without making assembly process complicated or increasing production cost due to the increase in the number of part items.例文帳に追加
部品数の増加により組立工程を複雑にしたり製造コストを上げることなく、リターン時の衝撃により筆記体内で生じる不具合を解消できる複式筆記具を提供する。 - 特許庁
To make it hard to bring about short circuit due to the deformation of lead wire which is caused by external force applied from a lateral direction when a flat coil is carried and stored in the manufacturing process of an IC card.例文帳に追加
ICカードの製造工程における平面コイルの搬送や収納等の際に、横方向から加えられる外力による導線の変形に起因する短絡が惹起され難くする。 - 特許庁
To provide silicon wafer having excellent mechanical strength and substantially free from warpage due to heat shock by effectively suppressing the warpage of silicon wafer caused by heat shock or dead weight in a heat treatment process of silicon wafer.例文帳に追加
シリコンウエハの熱処理工程において、熱衝撃や自重によるシリコンウエハの反りを効果的に抑制し、熱衝撃による反りが実質的にない、機械的強度に優れたシリコンウエハを提供。 - 特許庁
To prevent deterioration of exhaust emission due to air-fuel ratio variation by accurately preventing air-fuel ratio variation caused by residual evaporation of intake system right after changing over from purge execution to purge stop with a simple control process.例文帳に追加
パージ実行からパージ停止に移行した直後の吸気系の残留エバポに起因する空燃比変動を、簡単な制御処理で的確に防止し、空燃比変動による排気エミッションの悪化を防止する。 - 特許庁
To inhibit excessive temperature rise of a filter due to drop of degree of heat radiation from an exhaust system with accompanying reduction of travel speed of a vehicle in execution of PM regeneration process of the filter.例文帳に追加
フィルタに対するPM再生処理の実施において、車両の走行速度の減少に伴い排気系からの放熱度合いが低下することによってフィルタが過度に昇温されることを抑制する。 - 特許庁
To provide an apparatus for cleaning having no gap space and preventing leakage of mist due to liquid sprayed during a cleaning process outside the apparatus and causing contamination and corrosion.例文帳に追加
隙間空間がなく洗浄工程中に噴射された液体によるミストが洗浄装置の外部に漏出し汚染及び腐食作用をおこすことを防止する洗浄装置を提供することにある。 - 特許庁
In this manufacturing method of the SOI substrate, a low-temperature process is employed to suppress the generation of thermal distortion due to the difference in thermal coefficient between the silicon substrate 10 and a quartz substrate 20.例文帳に追加
本発明のSOI基板の製造方法では、シリコン基板10と石英基板20との間の熱膨張係数差に起因する熱歪の発生を抑制するために低温プロセスを採用する。 - 特許庁
To provide a charger for charging a plurality of batteries which can individually recover reduction of charging capacity due to the memory effect of a secondary battery and can realize refresh process during the period, in which the battery is not used.例文帳に追加
二次電池のメモリー効果による充電容量減少に個別に対応できると共に、電池を使用しない時間帯にリフレッシュを行うことができる複数電池充電装置を提供する。 - 特許庁
To provide a delay lock loop circuit which can stably obtain a fine delay amount, independently of the variation of the temperature and the power source voltage or the variation of a delay amount due to the process conditions and so forth.例文帳に追加
温度および電源電圧の変動やプロセス条件等によるディレイ量の変動にかかわらず、微少な遅延量を安定的に得ることを可能にするディレイロックループ回路を提供する。 - 特許庁
Moreover, when starting the engine or operating it at a low load, the exhaust valve is not opened temporarily in the former stage of the compression process to realize Atkinson cycle due to reopening of the exhaust valve when operating the engine at a high load.例文帳に追加
また、始動時又は低負荷運転時には、圧縮行程前期において排気弁を一時的に開かないようにし、高負荷運転時に上記排気弁の再啓開によるアトキンソンサイクル化を図る。 - 特許庁
To provide a technique for inhibiting output signal from erroneously generating due to vibration of a rotating body in a detection signal process circuit for detecting a rotational speed or rotational direction of the rotating body.例文帳に追加
回転体の回転速度や回転方向を検出する検出信号処理回路において、回転体の振動による出力信号の誤生成を抑制する技術を提供すること。 - 特許庁
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