「Due Process」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate processing apparatus which increases strength in a part penetrating a reaction tube on a gas nozzle for leading the process gas into the reaction tube, and which prevents breakage of the gas nozzle due to external force as well as breakage of the reaction tube caused by breakage of the gas nozzle.例文帳に追加

反応管内に処理ガスを導入するガスノズルの反応管貫通部での強度を増大し、外力によるガスノズルの破損、更にガスノズルの破損に起因する反応管の破損の防止しようとする。 - 特許庁

To provide a flat cable in which time and effort are not required in a connector installation process, and coming-off can be prevented of the flat cable from the connector due to a conductor coming off from a terminal side covering portion of the flat cable.例文帳に追加

コネクタ取り付け工程において手間がかからず、フラットケーブルの端末側被覆部分から導体が抜けてしまってコネクタからフラットケーブルが抜けてしまうことを防止することが可能なフラットケーブルを提供する。 - 特許庁

To provide substrate glass for optical device which does not contain an environmental loading substance such as As component and Sb component, can suppress coloring due to UV ray irradiation in a manufacturing process and has high transmission characteristic.例文帳に追加

Ａｓ成分やＳｂ成分等の環境負担物質を含有せず、製造工程の紫外線照射による着色が抑制された高い透過率特性を備えた光デバイス用基板ガラスを提供すること。 - 特許庁

To prevent the generation of strain in an optical reflection surface due to the anisotropic deformation caused by rotation or sliding of crystal or crystal orientation during plastic deformation, in a process for press-forming a reflection optical element composed of an amorphous metal.例文帳に追加

非晶質金属の反射光学素子をプレス成形する工程で、塑性変形時の結晶の回転や滑りあるいは結晶配向による異方変形のために、光学反射面に歪が生じるのを防ぐ。 - 特許庁

To manufacture a plastic lens of good quality by suppressing the generation of a flaw in a plastic lens manufacturing method having a precuring process due to active energy beam.例文帳に追加

活性エネルギー線による予備硬化工程を有するプラスチックレンズの製造方法において、欠陥の発生を抑制し品質の良好なプラスチックレンズを製造することができるプラスチックレンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent generation of defective leak due to breakdown through an upper electrode and a capacitance dielectric film because of difference in contact depth at the upper and lower electrodes during the etching process of via holes in an MIM type capacitance element.例文帳に追加

ＭＩＭ型容量素子において、ヴィアホールのエッチング時に上部電極と下部電極ではコンタクト深さが異なるため、上部電極及び容量誘電膜の突き抜けによるリーク不良が発生する。 - 特許庁

Due to this, the process yield and reliability of the semiconductor element can be improved because the aperture size of the fine resist pattern can be reduced while improving the CD stability and reproducibility.例文帳に追加

これにより、ＣＤ安定性及び再現可能性を向上させながら微細なレジストパターンでの開口サイズを縮めることができるので半導体素子の工程収率及び信頼度を向上させることができる。 - 特許庁

To provide a glass substrate for a flat panel display which is formed by a float process and in which color development due to silver is suppressed even when a silver electrode is formed on the surface, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、フロート法で成形され、その表面に銀電極が形成されても、銀による発色を抑制できるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a multicolor printing and recording medium enabling beautiful and fine recording without requiring a complicated process and enabling write-once recording due to light, especially, laser beam or the like and the recording of variable data.例文帳に追加

煩雑な工程を必要とせずに、美麗且つ微細な記録が可能な多色印字記録媒体、特にレーザーなどの光による追記録が可能で、可変データの記録が可能な多色印字記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a collector for use in a nonaqueous electrolyte battery, capable of preventing warping of the collector due to a film deposition process and doing away with a work such as cutting of a circumferential part of the collector after film deposition.例文帳に追加

非水電解質電池に用いられる集電体で、成膜過程に起因する集電体の反りを防止でき、成膜後に集電体の外周縁部の切断等の作業が不要である集電体を提供する。 - 特許庁

To provide a developing roller capable of surely suppressing a reduction in the conveying amount of developer due to secular changes and preventing the occurrence of image irregularities, and to provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus.例文帳に追加

経年変化による現像剤の搬送量の低下をより確実に抑制できるとともに、画像のムラが生じることを防止できる現像ローラ、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a transistor suffers the variation caused in threshold voltage or mobility due to gathering of the factors of the variation in gate insulator film resulting from a difference in manufacture process or substrate used and of the variation in channel-region crystal state.例文帳に追加

トランジスタは作製工程や使用する基板の相違によって生じるゲート絶縁膜のバラツキや、チャネル形成領域の結晶状態のバラツキの要因が重なって、しきい値電圧や移動度にバラツキが生じる。 - 特許庁

To reduce the amount of warpage of a printed wiring board after heat treatment while suppressing loss due to a separate process without deteriorating product performance by contriving a conductive pattern formed on the board.例文帳に追加

基板に形成された導体パターンに工夫を施すことで、製品の性能を劣化させることなく、かつ別工程によるロスをも小さく抑えながら熱処理後のプリント配線基板の反り量を小さくする。 - 特許庁

To provide an image formation device preventing an execution disabled state of a restoration process due to a communication error between an external device and the image formation device, and improving the security properties of setting data.例文帳に追加

外部装置と画像形成装置間での通信エラーによりリストア処理の実行不可能状態を防止するとともに、セキュリティ性を向上させた設定データのバックアップが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

By thus increasing the density of the conductor patterns 4 on the package substrate 2, warpage, undulation and the like of the package substrate 2 due to heat treatment during a manufacturing process of the semiconductor device 1 can be reduced.例文帳に追加

このようにパッケージ基板２における導体パターン４の密度を高めることにより、半導体装置１の製造工程中の熱処理によるパッケージ基板２の反りやうねり等を低減することができる。 - 特許庁

To prevent deterioration of strength and degradation of quality of a glass tube due to a surface flaw with good reproducibility by reducing surface flaws over a whole process of producing various products using the glass tube.例文帳に追加

ガラス管を用いた各種製品の製造工程全体にわたって表面傷を生じにくくすることによって、表面傷に起因するガラス管の強度低下や品質低下等を再現性よく抑制する。 - 特許庁

To finish an etching epitaxial wafer and a mirror-surface wafer in a high planarity shape over the entire surface from a (high luminance) etching wafer by eliminating shape defects on the wafer periphery due to etching or polishing process works.例文帳に追加

エッチング加工や研磨加工によって発生するウエハ外周の形状不良を皆無にすることにより、（高輝度）エッチングウエハを素材とするエッチングエピタキシャルウエハ、及び鏡面ウエハを全面で平坦度の高いものに仕上げる。 - 特許庁

To realize simple and high speed writing process to a nonvolatile memory to cope with needs due to a dramatic increase, in recent years, in a capacity of a nonvolatile memory to be mounted on a microcomputer having a built-in nonvolatile memory.例文帳に追加

近年、不揮発性メモリ内蔵マイコンに搭載される不揮発性メモリの容量が格段に増加してきたことにより、不揮発性メモリに対する書込み処理の簡便化および高速化が望まれてきている。 - 特許庁

To properly execute a process that utilizes a frame cyclic characteristic even if a frame cycle deviates due to usage of a second synchronous signal resulting from a shutter operation that is asynchronous with a frame synchronous signal.例文帳に追加

フレーム同期信号とは非同期なシャッタ操作に起因する第２の同期信号を用いることによってフレーム周期がずれた場合でも、フレームの周期性を利用した処理を適切に行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide a projection optical system bringing about a desired focusing function by suppressing variation in focusing function in the exposing region of an optical system due to intrinsic birefringence, and to provide an aligner and a process for fabricating a device.例文帳に追加

真性複屈折に起因する光学系の露光領域内に生じる結像性能のばらつきを低減して所望の結像性能をもたらす投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, jamming due to fusion of resin of the cut powder does not occur in the rough machining part 1A and the finishing part 1B, and the rough machining to the finishing can be performed in one process using one machining tool.例文帳に追加

これによって、粗加工部１Ａ及び仕上げ加工部１Ｂには、切削粉の樹脂が融着して目詰まりを生じることがなく、また、一つの加工具で粗加工から仕上げ加工までを一工程で行うことができる。 - 特許庁

To provide an electronic component packaging method for reducing unevenness of underfill and for reducing the degradation of appearance due to insufficient filling or swelling of an insulating resin, in a non-flow underfill process.例文帳に追加

ノンフローアンダーフィル工法において、アンダーフィルの偏りを低減することができ、絶縁樹脂の充填不足や絶縁樹脂のはみ出しによる外観の悪化を低減することができる電子部品の実装方法を提案する。 - 特許庁

To prevent occurrence of problems due to omission in stopping of a process and omission in releasing of a shared memory in a computer system which controls the shared memory by the plurality of processes, and to improve fault tolerance of the system.例文帳に追加

複数プロセスにより共有メモリを制御する処理を行うコンピュータシステムにおいて、プロセスの停止漏れや共有メモリの解放漏れにより引き起こされる問題を未然に防止し、システムの耐障害性を向上させる。 - 特許庁

To provide a developing device employing a premixed developing system that prevents temporary rapid reduction of bulk of developer that flows in the developing device due to environmental change, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

環境変動等によって現像装置内で流動する現像剤の嵩が一時的に急激に低下してしまうことのない、プレミックス現像方式の現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology of fabricating a semiconductor, particularly, a method of fabricating an image sensor capable of eliminating the drawback of photoelectron loss due to trap sites to increase a fill factor of a photodiode in a process of fabricating a semiconductor device.例文帳に追加

半導体製造技術に関し、特に、半導体素子の製造工程のうち、トラップサイトによる光電子の損失という欠陥を解決し、フォトダイオードのフィルファクターを増やすイメージセンサの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dummy chip which can be produced efficiently, while supplying of the dummy chip is not stopped in a taping process, without causing the nonconformity that stay in a parts feeder occurs due to electrostatic charge.例文帳に追加

静電気の帯電によってパーツフィーダー内に滞留するという不具合が生じることなく、テーピング工程でダミーチップの供給が滞ることなく効率よく生産することができるダミーチップを提供する。 - 特許庁

To provide a current drive circuit which supplies driving currents of the same level from a plurality of a constant current driving parts by restraining influences from dropping in voltage due to power supply wiring and variations in production process.例文帳に追加

電源配線による電圧降下や製造プロセスのばらつきの影響を抑え、複数の定電流駆動部から同じ大きさの駆動電流を供給することができる電流駆動回路を構成する。 - 特許庁

To accurately perform a handoff process between two robots and a load lock several times a minute to avoid particulate contamination on the reverse surface of a wafer due to the sliding of the wafer on a load lock platen.例文帳に追加

２つのロボットとロードロック間のハンド・オフ・プロセスは、１分間に数回行われ、ウェーハがロードロック・プラテン上を滑ってウェーハ裏面に微粒子汚染を起こすことを避けるために、非常に正確に行われなければならない。 - 特許庁

To provide a lithium secondary battery having high reliability, which generates no ignition caused due to an internal short circuit by removing minute metallic powder mixed in a manufacturing process and coarse powder in raw material powder.例文帳に追加

本発明の目的は、製造工程での混入微小金属粉末および原材料粉末中の粗大粉末を除去することで内部短絡による発火がない高信頼なリチウム二次電池を提供することにある。 - 特許庁

To construct an unauthorized approach prevention type computer system for preliminarily preventing any damage due to all unauthorized programs including virus by checking any unregistered program in a collation process in the preceding stage of execution.例文帳に追加

登録が行われていないプログラムは実行する前の段階で照合プロセスにより確認でき、ウィルスを含む全ての不正プログラムによる被害を事前に防止できる予防型不正進入コンピュータシステムの構築。 - 特許庁

To provide a process chamber for semiconductor production equipment that prevents engraving of an inside of the chamber due to ions and particle induction caused by the engraving by coating a predetermined protective layer on an inside of the chamber.例文帳に追加

チャンバ内部を所定保護層にコーティングすることによって、イオン等によるチャンバ内部の食刻及びこれによる粒子誘発を未然に防止することができる半導体製造設備用プロセスチャンバを提供する。 - 特許庁

By thus increasing density of the conductor patterns 4 on the package substrate 2, such as warpage and undulation of the package substrate 2 due to heat treatment during a manufacturing process of the semiconductor device 1 can be reduced.例文帳に追加

このようにパッケージ基板２における導体パターン４の密度を高めることにより、半導体装置１の製造工程中の熱処理によるパッケージ基板２の反りやうねり等を低減することができる。 - 特許庁

To prevent the possibility of the occurrence of accident in an inductive heating fixing device having a plurality of induction coils, due the possibility of wrong connections of the induction coils in the assembly process thereof.例文帳に追加

複数の誘導コイルを有する誘導加熱定着装置では、その組み立て工程において、誘導コイルの誤接続が起きる可能性があり、誤接続により事故が起きる可能性があるので、これを防止する。 - 特許庁

To carry out an automatic phase correcting process without failures even if spectrum data related to metabolic substances in an MRS apparatus includes the folding of a phase due to a zero-degree phase shift.例文帳に追加

ＭＲＳ装置における代謝物質に係るスペクトルデータが、０次の位相シフトにより位相の折り返しが生じている場合であっても、自動位相補正処理を失敗しないように行うことを目的としたものである。 - 特許庁

To prevent a stretcher strain mark from appearing at edge parts of a steel sheet, due to tension imparted thereon for improving a sheet passability, and temperature difference in a width direction generated in a cooling zone in a cooling process.例文帳に追加

通板性向上のために付与した張力及び冷却帯での冷却過程における幅方向温度差に起因して、鋼板のエッジ部（端部）にストレッチャ−ストレインが発生してしまうことを防止する。 - 特許庁

To provide a susceptor system for semiconductor manufacturing facilities, which can prevent process defects caused at evaporation of a high temperature insulating film and can prevent drop in the operation rate of a facility due to the shortened exchange period of a susceptor.例文帳に追加

高温絶縁膜の蒸着時に惹起される工程不良発生を防ぎ、サセプターの交換周期短縮による設備の稼働率低下を防止できる半導体製造設備用サセプターシステムを提供する。 - 特許庁

Even if the groove is not perfectly filled by the first insulating film due to the presence of a foreign matter, the groove is perfectly filled by the subsequent formation of the second insulating film after removing the foreign matter by the first CMP process.例文帳に追加

異物の存在によって第１の絶縁膜で溝を完全に埋設できない場合でも、第１のＣＭＰ工程により異物を除去し、その後における第２の絶縁膜によって溝を完全に埋設する。 - 特許庁

To provide a bending habit correcting method and apparatus for a flexible endoscope capable of returning a curve formed on a flexible insertion section due to a sterilization process by an autoclave, into a completely straight original state.例文帳に追加

オートクレーブによる滅菌処理等で可撓性挿入部についた曲がり癖を完全に真っ直ぐな元の状態に戻すことができる可撓性内視鏡の曲がり癖矯正方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

Further, the image forming apparatus is equipped with a means for forming the image by the meltable powder toner, a means for forming the image due to the liquid ink containing the colorant and a thermal fixing process in this order to form the image on the medium to be recorded.例文帳に追加

また、溶融性粉体トナーにより画像を形成する手段と、色材を含有する液体インクにより画像を形成する手段と、熱定着をする工程とをこの順で具備する画像形成方法。 - 特許庁

When the respective objects obj are encoded, temporal distortion due to frame omission, corresponding to the encoding rate and the spatial distortion depending on quantization precision are balanced, and the encoding process can be performed at the operation point where visual characteristics are optimum.例文帳に追加

また各obj の符号化の際に符号化率に応じたコマ落しによる時間的歪みと量子化精度による空間的歪みとのバランスがとれ、視覚特性上最適な動作点で符号化処理が行える。 - 特許庁

To solve the problem that a substrate leakage current increases due to an interface level formed by plasma damage and thereby the image clarity of a CMOS image sensor declines in the case of omitting a high temperature heat treatment process.例文帳に追加

高温熱処理工程を省いた場合に、プラズマダメージによって発生した界面準位が原因で基板リーク電流が増大し、それによってＣＭＯＳイメージセンサの画像鮮明度が落ちることが課題である。 - 特許庁

In a high temperature condition during the carding process, data quantity to be held can be reduced, and consequently, erroneous operation of the IC card due to change in the held data can be reduced.例文帳に追加

また、カード工程における高温条件にて、保持しなければならないデータ量を削減することが可能となることから、保持していたデータが変化することによるＩＣカードの誤動作の発生を抑制することができる。 - 特許庁

Therefore, it is possible to suppress the propagation of distortion to the beam 13 due to the creep phenomena of the thermosetting adhesive 19a, and reduce the amount of variation in the reference value with the passage of days after the gluing process.例文帳に追加

よって、熱硬化性接着剤１９ａのクリープ現象に起因した歪みが梁部１３に伝播するのが抑制され、接着工程後の日数経過による基準値の変動量を低減することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which improves heat radiation of the device, prevents deformation due to thermal stress in a jointed part, and secures assembling precision in a manufacturing process, resulting in an improvement in reliability.例文帳に追加

半導体装置の放熱性能を向上させるとともに、接合部の熱応力による変形を防止し、製造工程における組立精度を確保してその信頼性を向上させる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an array substrate capable of preventing a defect due to static electricity flowing in a manufacturing process, to provide a display device having the same and to provide a method of protecting a display area of the array substrate from static electricity.例文帳に追加

製造工程時に流れ込む静電気による不良を防止することのできるアレイ基板とこれを具備した表示装置及び静電気からアレイ基板の表示領域を保護する方法を提供する。 - 特許庁