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Filmsを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 13275



例文

The method for producing the agricultural perforated film, characterized by disposing one or more slits in a non-perforated portion adjacent to a perforated portion, before, after or when the perforated portion is disposed in a double-folded cylindrical film obtained by an inflation forming method and then opening the cylindrical film from the slits to form one or more of the films.例文帳に追加

インフレーション成形によって得られる2枚重ね状態の筒状フィルムに、開孔部を設ける前、または開孔部を設けた後、もしくは開孔部を設けると同時に、前記開孔部に隣接する穿孔されていない部分に、フィルムの長さ方向に沿って1ヶ所以上のスリットを設け、スリットから開いて1枚もしくは2枚以上のフィルムに分離する農業用有孔フィルムの製造方法。 - 特許庁

The film pattern formed on a substrate is composed of a metal or a metal oxide having resistance and a metal oxide inhibiting resistance, wherein the film of the metal or the metal oxide having the resistance and the film of the metal oxide inhibiting the resistance are different from each other and a boundary surface between the films has a concentration gradient with respect to each film.例文帳に追加

基板上に形成される膜パターンを、抵抗を有する金属もしくは金属酸化物と抵抗を阻害する金属酸化物で構成し、抵抗を有する金属もしくは金属酸化物の膜と抵抗を阻害する金属酸化物の膜を各々別々の膜で存在させ、膜間の境界面に、各々の膜に対して濃度勾配をもたせた膜パターンとする。 - 特許庁

The magneto-resistive element having the overlaid structure in which electrode terminal films are disposed so as to partially overlap the both end parts of the magneto-resistive film for converting a magnetic signal to an electric signal by utilizing the change of magnetic resistance comprises the magneto-resistive film, the cap protecting film for protecting the magneto- resistive film and a conductive conductor protecting film for protecting the cap protective film.例文帳に追加

磁気抵抗変化を利用して磁気的信号を電気的信号に変える磁気抵抗効果膜の両端部に電極端子膜が一部重なるように配置されているオーバーレイド構造の磁気抵抗効果素子であって、前記磁気抵抗効果膜と、該磁気抵抗効果膜を保護するキャップ保護膜と、該キャップ保護膜を保護する導電性の導体保護膜とを含んでいる。 - 特許庁

Then, electrodes 8a and 8b are formed to run on the half-embedded insulation films 5 and the STIs 7, respectively, and an n-type region 3 constituting a photodiode is formed in a region contacting the p-type region 4 in the semiconductor substrate 2 by injecting impurities into the image pickup region A by using the electrode 8a and the half-embedded insulation film 5 as a mask.例文帳に追加

次に、半埋込絶縁膜5及びSTI7にそれぞれ乗り上げるように電極8a及び8bを形成し、電極8a及び半埋込絶縁膜5をマスクとして撮像領域Aに不純物を注入することにより、半導体基板2におけるp型領域4に接する領域に、フォトダイオードを構成するn型領域3を形成する。 - 特許庁

例文

The color wheel comprises a plurality of division color wheel bodies formed in a fan shape so that disk shape whose center section has a mounting hole is achieved; the different optical films formed on the surface of the division color wheel body; an identification means for identifying the front and back of the division color wheel body; and a support for supporting the division color wheel body in the disk shape.例文帳に追加

中央部に取付孔を有する円盤状となるように複数個の扇状に形成された分割カラーホイール本体と、この分割カラーホイール本体の表面にそれぞれ成膜された異なる光学膜と、前記分割カラーホイール本体の表面と裏面とを識別する識別手段と、前記分割カラーホイール本体を円盤状に支持する支持具とでカラーホイールを構成している。 - 特許庁


例文

To provide a method for manufacturing a sublimation dye thermal transfer recording sheet in which an intermediate layer and a dye receiving layer both consisting of powder coating films and having excellent heat insulating properties and cushioning properties exist in this order on a base material and heat from a thermal head is effectively used without missing it to the base material to be able to form a thermal transfer image with a high density and being clear.例文帳に追加

基材上に共に粉体塗料の塗膜からなり、断熱性とクッション性にすぐれる中間層と染料受容層をこの順序で有し、かくして、サーマルヘツドからの熱を基材へ逃がすことなく、熱転写に有効に用いて、高濃度で鮮明な熱転写画像を形成することができる昇華性染料熱転写記録シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

The organic EL element 10 is manufactured by forming organic thin films having dipole moment at either or both of the base plate 1 on which the first electrode 2 is formed and the base plate 7 on which the second electrode 6 is formed, and by arranging the both base plates so that the electrodes face to each other, and by forming the luminescent layer 4 by injecting the liquid crystalline organic material for the luminescent layer between the electrodes.例文帳に追加

この有機EL素子10は、第1電極2が形成された基板1と第2電極6が形成された基板7の一方又は両方に双極子モーメントを有する有機薄膜を形成し、その両基板を電極が向き合うように対向させ、電極間に発光層用の液晶性有機材料を注入して発光層4を形成することにより製造する。 - 特許庁

To provide a release film capable of stably sealing foreign substances caused by an oligomer on a film surface, which is suitable for a substrate film composing an adhesive layer protecting release film used when producing a liquid crystal member such as polarizing panel, retardation plate, and suitable for several purpose substrate films used in producing LCD (liquid crystal display), PDP (plasma display panel), organic EL (electroluminescence), etc.例文帳に追加

液晶偏光板、位相差板等の液晶構成部材製造時に使用する粘着剤層保護用離型フィルムを構成する基材フィルム、LCD、PDP、有機EL等の表示部材製造時に使用される各種光学用途の基材フィルム等に好適な、フィルム表面のオリゴマー起因の異物を安定的に封止できる離型フィルムを提供する。 - 特許庁

A plurality of micro inductors 2 which are thin enough to be able to be mounted on a semiconductor wafer or a chip, are simple films having a structure for adjusting an inductance amount in a heat-resistant insulating substrate 1 or are of the same inductance or of different inductance amounts and wiring electrode sections 4 for conducting a required electrical connection with the semiconductor are formed.例文帳に追加

本発明は課題の解決のために半導体ウエハーまたはチップ上に搭載が許されるほどに薄い、耐熱性絶縁基板1にインダクタンス量調整用の構造3を持った膜状の単一の、もしくは同じかあるいは異なるインダクタンス量の複数個の微小インダクター2と半導体と必要な電気的結線をするための配線用電極部4を形成するものである。 - 特許庁

例文

Namely, using the ink jet method eliminates the need to process the liquid crystal panel 20 under reduced pressure, and even when the substrate (for example, second substrate 2) of the liquid crystal display panel 20 before the conductive film forming stage is made thin, the conductive films 33 and 34 can be formed on the liquid crystal display panel 20 without causing breakage of the substrate etc.例文帳に追加

すなわち、インクジェット法を用いることにより、液晶表示パネル20に対して減圧下での処理を行う必要がなく、導電膜形成工程前の液晶表示パネル20の基板(例えば、第2の基板2)に対して薄型化処理を行った場合にも、基板の破損等を発生させることなく液晶表示パネル20上に導電膜33,34を形成することができる。 - 特許庁

例文

In a method for manufacturing an AlGaAs semiconductor laser having a window structure, oxide films are removed from the end faces 8 of a resonator by heat-treating the end faces 8 in a phosphorus-containing atmosphere and, at the same time, the end faces 8 are nonactivated by forming phosphorus adsorbing layers 10 after the end faces 8 are formed in a semiconductor layer constituting a laser structure.例文帳に追加

窓構造を有するAlGaAs系半導体レーザの製造方法において、レーザ構造を形成する半導体層に共振器端面8を形成した後、共振器端面8をリンを含む雰囲気中で熱処理して、共振器端面8から酸化膜9を除去すると共に、共振器端面8をリン吸着層10によって非活性化する。 - 特許庁

This flexible wiring board 10 is provided with a first wiring film 21 and a second wiring film 22, The thickness of the first wiring film 21 is larger than that of the second wiring film 22, so that the section and electric resistance value of the first wiring film 21 can be made larger accordingly even if the widths of the first and second wiring films 21 and 22 are almost the same.例文帳に追加

本発明のフレキシブル配線板10は、第一の配線膜21と第二の配線膜22とを有しており、これらの配線膜のうち、第一の配線膜21の厚みは第二配線膜22よりも大きいので、第一、第二の配線膜21、22の幅が略等しい場合でも、その厚みの大きい分第一の配線膜21の断面積と電気抵抗値とを大きくすることができる。 - 特許庁

To provide an etchant and an etching method which can suppress side etching without corroding electronic members, various lamination films and the like on a substrate, for the substrate which has a lamination structure of tungsten and/or titanium-tungsten alloy which are used for electrodes and interconnection lines for a semiconductor device and a thin film transistor of a liquid crystal display or for interconnection lines and barrier metal for the electrodes.例文帳に追加

半導体装置や液晶表示装置の薄膜トランジスタの電極や配線、またこれらの電極の配線やバリアメタルとして用いられているタングステン及び/又はチタン−タングステン合金の積層構造を有した基板において、基板上の電子部材、各種積層膜等を腐食することなく、サイドエッチングを抑制したエッチング液及びエッチング方法を提供する。 - 特許庁

In the conjugated conductive fiber comprising a non-conductive layer A and a conductive layer B, the non-conductive layer occupies at least 70% of the fiber surface; the non-conductive layer is a polyester prepared by copolymerizing a metal sulfonate group-containing isophthalic acid with a polyalkylene glycol; and the conductive layer is a thermoplastic polymer containing titanium dioxide particles having conductive coating films.例文帳に追加

非導電層Aと導電層Bとからなる複合導電性繊維であって、非導電層が繊維表面の少なくとも70%を占めてなり、非導電層が、金属スルホネート基含有イソフタル酸とポリアルキレングリコールとを共重合したポリエステルであり、導電層が、導電性皮膜を有する酸化チタン粒子を含む熱可塑性重合体である複合導電性繊。 - 特許庁

In the liquid crystal display element comprising a polymer dispersed liquid crystal filled between two transparent substrates respectively having transparent electrode films with desired electrode shapes formed on respective inside surfaces, the polymer dispersed liquid crystal display element is characterized by applying an opaque coating material containing a white pigment to the part other than the part to become liquid crystal display electrodes on the surface side transparent substrate.例文帳に追加

内側表面にそれぞれ所望の電極形状で透明電極膜を形成した2枚の透明基板の間に高分子分散液晶を充填してなる液晶表示素子において、表面側透明基板の液晶表示電極となる部分以外の部分に白色顔料を含有する不透明塗料を塗布したことを特徴とする高分子分散液晶表示素子。 - 特許庁

The method of manufacturing the variable capacitor includes the steps of: forming a first electrode on a substrate; forming a first sacrificial film above the first electrode; forming a second electrode on the first sacrificial film; forming a second sacrificial film on the second electrode; forming a stopper on the second sacrificial film; and removing the first and the second sacrificial films.例文帳に追加

本発明の可変キャパシタ製造方法は、基材上に第1電極を形成する工程と、第1電極の上位に第1犠牲膜を形成する工程と、第1犠牲膜上に第2電極を形成する工程と、第2電極上に第2犠牲膜を形成する工程と、第2犠牲膜上にストッパ部を形成する工程と、第1および第2犠牲膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for forming a semiconductor element in which the semiconductor element having a structure that many silicon thin films are laminated can be efficiently formed, and to further provide a method for forming the semiconductor element having little unevenness in the characteristics between lots and more excellent uniformity and characteristics and the semiconductor element having excellent adhesive properties, environmental resistance, etc.例文帳に追加

本発明は、多数のシリコン系薄膜が積層された構成をもつ半導体素子を、効率よく形成することができる半導体素子の形成方法、さらには、ロット間の特性のばらつきが少なく、より優れた均一性と特性をもつ半導体素子の形成方法、および密着性、耐環境性などに優れた半導体素子を提供することを目的としている。 - 特許庁

A second thermal oxidation film is formed even at the surface of the thin oxide film 20, and the same conditions are selected for interfaces between the first thermal oxide film and second thermal oxidation films, and the substrate to form a flat substrate having no step on the surface after the first thermal oxide film and second oxide film are removed.例文帳に追加

この第二の熱処理により薄い酸化膜20の表面部分にも第二の熱酸化膜が形成され、このとき第一の熱酸化膜及び第二の熱酸化膜の基板との界面が等しく条件を選択することによって、第一の熱酸化膜と第二の熱酸化膜を除去した後には表面には段差のない平坦な基板を形成することが可能となる。 - 特許庁

The display surface protection plate is obtained by making the laminate by bonding at least two plastic films through an adhesive layer comprising a thermosetting resin and/or an ionizing radiation curable resin, and after mold stamping into a laminate of predetermined configuration, processing the laminate with heat and/or ionizing radiation exposure to cure the adhesive layer.例文帳に追加

少なくとも2枚以上のプラスチックフィルムを熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線硬化型樹脂からなる接着層を介して貼り合せて積層板を作製し、前記積層板に型抜き処理を行い、所定の形状に成形された積層板とした後、加熱及び/又は電離放射線照射する工程を行い、接着層を硬化させ表示装置用表面保護板を得る。 - 特許庁

This method for forming the transistor of the semiconductor element comprises a step for forming a plurality of gate stacks 110 on a semiconductor substrate 100, and a step for forming spacer oxide films 118 on a plurality of the gate stacks 110 by supplying trimethyl aluminum and tris- (tert-alkoxy) silanol in a gas state alternately to the semiconductor substrate 100.例文帳に追加

半導体基板100上に複数のゲートスタック110を形成する段階と;前記半導体基板100上に気体状態のトリメチルアルミニウム及びトリス(tert-アルコキシ)シラノールを交互に供給することで、前記複数のゲートスタック110上にスペーサ酸化膜118を形成する段階と;を含んで半導体素子のトランジスタ形成方法を構成する。 - 特許庁

To provide a polylactic acid-based aqueous dispersion which has excellent transparency, excellent solvent resistance, excellent chemical resistance, and rich flexibility, can form films at room temperature, can easily be coated and impregnated, has good biodegradability, and has excellent film formability and adhesiveness at low temperature, to provide fine particles obtained by drying the polylactic acid-based aqueous dispersion, and to provide a coating film thereof.例文帳に追加

ポリ乳酸系水分散体に関して、透明性、耐溶剤性、耐薬品性に優れ、柔軟性に富み、室温で成膜が可能であり、かつ塗工及び含浸が容易で生分解性が良好で低温での製膜性や接着性に優れるポリ乳酸系水分散体、ポリ乳酸水性分散体乾燥することにより得られる微粒子及びその被膜を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加

画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して4倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁

A cation exchange film 3 and an anion exchange film 4 are arranged by one between a cathode 1 and an anode 2 to form a concentration chamber and cathode chamber 5 between the cathode 1 and the cation exchange film 3, to form a concentration chamber and anode chamber 6 between the anode 2 and the anion exchange film 4 and to form a disalting chamber 7 between the cation and anion exchange films 3 and 4.例文帳に追加

陰極1と陽極2との間にカチオン交換膜3とアニオン交換膜4とを1枚ずつ配置し、陰極1とカチオン交換膜3との間に濃縮室兼陰極室5を形成し、陽極2とアニオン交換膜4との間に濃縮室兼陽極室6を形成し、カチオン交換膜3とアニオン交換膜4との間に脱塩室7を形成している。 - 特許庁

To provide a method for detecting failure of database patterns of a photomask in which different space widths are applied according to critical dimensions of lines of the patterns of the photo mask to detect patterning failure varied according to illuminating systems, sub-films and thicknesses of resist, and to preliminarily detect failure, such as collapse or bridges, generated from the different lengths of pattern lines having the same critical dimension.例文帳に追加

フォトマスクパターンのライン臨界大きさ別に差等的なスペース幅を適用することで、照明系、サブ膜、レジスト厚さなどによって変わるパターニング不良を検査することができ、同一の臨界大きさを有するが、パターンラインの相異なる長さにより発生する崩れまたはブリッジなどの不良を予め検査できるフォトマスクデータベースパターンの不良検査方法を提供する。 - 特許庁

A flexible thin film graphite having a thickness of21 μm is obtained by directly laminating two or more raw material films and heat-treating the laminate at ≥2,600°C while (1) an outgas material inducing foaming in the final stage of graphitization is made to retain in the film and (2) an effect of metal impurities that inhibit foaming is suppressed.例文帳に追加

本願発明で筆者らは、1)黒鉛化の最終段階で発泡を引き起こすアウトガスをフィルム中に留めこと、2)発泡を阻害する金属不純物の作用を抑制すること、が重要であることを突き止め、原料フィルムを2枚以上直接積層して、2600℃以上の温度で熱処理することで、厚み21μm以下で柔軟な薄膜グラファイトを得ることができた。 - 特許庁

The detection method of the etching end point in the dry semiconductor etching step is to search for the etching end point from the surfaces of a semiconductor substrate and of a film selected from among multilayer films on the substrate, while spectrally analyzing the beam, in terms of etching time, which is emitted in the course of a plasma etching step onto the semiconductor substrate introduced into the processing chamber.例文帳に追加

本発明の半導体乾式エッチング工程でエッチング終了点の検出方法は、工程チェンバー内に投入された半導体基板上にプラズマエッチング工程を進行する過程で発生された光をエッチング時間によるスペクトル分析で、半導体基板上及びその基板上の多層膜の中で選択された膜上からエッチング終了点を探すものである。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device includes the steps of: forming an isolation groove (105) on a semiconductor substrate (101), embedding an embedded insulation film (106) constituted of a single or multiple insulation films in the isolation groove, and annealing the embedded insulation film in a vacuum or inert gas atmosphere equal to or higher than 300°C and lower than 700°C.例文帳に追加

本発明の一形態の半導体装置の製造方法は、半導体基板(101)にアイソレーション溝(105)を形成する工程と、前記アイソレーション溝中に単一または複数の絶縁膜からなる埋め込み絶縁膜(106)を埋め込む工程と、300℃以上700℃未満の真空または不活性ガス雰囲気中で前記埋め込み絶縁膜に対してアニールを行う工程と、を含む。 - 特許庁

This polarized organic electroluminescent device is formed by providing, at least a lower electrode, a luminescent layer, and an upper electrode on a substrate, and is characterized in that the lower electrode is stuck and made of metal films between a plurality of muscle-shaped parts formed by rubbing a polymer material against the substrate and the metal film is disposed as a micro wire structure having one-directional conductivity.例文帳に追加

基板上に、少なくとも下部電極、発光層及び上部電極を設けてなり、該下部電極は、該基板上に高分子材料を擦り付けることにより形成された複数の筋状部の間に、金属膜が付着形成され、一方向に導電性を有する微細配線構造として配設されていることを特徴とする偏光有機電界発光素子。 - 特許庁

Each of the field-effect transistors has a gate trench formed in a second region of the semiconductor substrate 10, gate insulating films formed on the bottom face and side faces of the gate trench, a gate electrode that touches the insulating-film liner 18a and the gate insulating film formed in the gate trench, and source and drain regions formed in the semiconductor substrate 10 and adjacent to the gate electrode.例文帳に追加

電界効果トランジスタは、半導体基板10の第2部位内に形成されたゲートトレンチと、ゲートトレンチの底面上及び側面上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲートトレンチ内に形成され絶縁膜ライナー18a及びゲート絶縁膜と接触するゲート電極と、半導体基板10内に形成されゲート電極と隣接するソース/ドレイン領域とを有する。 - 特許庁

The adhesive layer used for transparent conductive films is characterized in that the adhesive layer is formed of a water-dispersion type acrylic adhesive agent comprising an aqueous dispersion containing a water-dispersion type (meth)acrylic polymer and a water-soluble polymer and the adhesive layer has 2.5-7 wt.% of saturated moisture absorption rate at 60°C and 90% R.H.例文帳に追加

透明導電性フィルムに用いられる粘着剤層であって、前記粘着剤層は、水分散型の(メタ)アクリル系ポリマーおよび水溶性ポリマーを含有する水分散液からなる水分散型アクリル系粘着剤から形成されたものであり、かつ、前記粘着剤層は、60℃、90%R.H.における飽和吸湿率が2.5〜7重量%であることを特徴とする。 - 特許庁

The inside double refraction plates 35 and 37 of both Babinet-Soleil phase plates are laminated with an incident side polarizer 38, an inside reflection film 40 and an emission side polarizer 39 interposed therebetween, and outside polarizers 42 to 44 and 46 to 48 and outside reflection films 45 and 49 are arranged on the respective principal surfaces of outer double refraction plates 34 and 36 along the advance direction of light beam.例文帳に追加

両バビネソレイユ位相板は、内側の複屈折板35,37同士をその間に入射側偏光子38と内側反射膜40と出射側偏光子39とを挟んで積層し、外側の複屈折板34,36の各主面にそれぞれ外側偏光子42〜44,46〜48と外側反射膜45,49とを光の進行方向に沿って配置する。 - 特許庁

Alternatively, a high-quality protective film, having a higher resistance against plasma etching than protective films formed in the other sections than the substrate placing section have, is formed on the surface of the substrate placing section, by causing the section to have higher temperature suitable for forming the protective film than the other sections have, by impressing a bias voltage on the section or heating the section.例文帳に追加

また、基板載置部にバイアスを印加することにより、或いは、基板載置部を加熱して、基板載置部の表面温度を基板載置部以外の部分の温度よりも、保護膜の形成に適した高温にすることにより、基板載置部以外の部分に形成される保護膜よりも、前記プラズマエッチングに対する耐性の高い良質な保護膜を、基板載置部の表面に形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that does not generate development residue while maintaining a high residual film ratio even when an aqueous tetramethylammonium hydroxide solution of 2.38 mass% is used as a developer in a patterned film formation step, and can form a patterned film with excellent low dielectric property without impairing physical characteristics of coating films such as light transmittance and solvent resistance even after high temperature baking.例文帳に追加

パターン膜の形成工程において、2.38質量%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を現像液として用いても、高い残膜率を維持したまま、現像残渣がなく、高温ベーキング後においても光透過率、耐溶剤性等の塗膜物性を損なうことなく、低誘電特性に優れたパターン膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

In the structure for supporting to a pack supporting member 4, the ink pack 3 which has an essential part constituted of two nearly rectangular films 21a and 21b in a bag-like form, the pack supporting member 4 supports the ink pack 3 in a horizontally laid posture in landscape orientation with an ink inlet 17 and an ink outlet 18 positioned horizontally and a pack body 16 laid horizontally.例文帳に追加

主要部を略長方形の2枚のフィルム21a,21bで袋状に構成したインクパック3を、パック支持部材4に支持するインクパック3の支持構造において、パック支持部材4は、インクパック3を、インク流入口17およびインク流出口18を水平に位置させ且つパック本体16を水平に寝かせた横向き水平姿勢で支持しているものである。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrode plate for a lithium secondary battery includes using cutting blades for a slitter, wherein coating films of blade edges of first and second blades are made of diamond like carbon film (DLC) and the thickness of the coating film is 0.5 to 2.0 μm.例文帳に追加

前記従来の課題を解決するために、本発明のリチウム二次電池用電極板の製造方法は第1刃および第2刃の刃先の被覆膜がダイヤモンドライクカーボン膜(DLC)からなり、前記被覆膜の厚みが0.5μm〜2.0μmのスリッタ用切断刃を使用することでリチウム二次電池極板として安全性が高く、電池容量バラツキの少ない電池を提供することができる。 - 特許庁

This composition for recovering floor polishes contains a metal compound and/or a metal salt which can be dissolved in water to generate a polyvalent metal ion, and is used for recovering solid contents from a floor polish composition containing an α,β-unsaturated carboxylic acid-based polymer having carboxyl groups or their salts in the molecule or from a liquid in which coating films obtained from the composition is dissolved or dispersed.例文帳に追加

水中でイオン解離する多価金属を有する金属化合物及び/又は金属塩を含有することを特徴とする、カルボキシル基又はその塩を分子内に有するα,β−不飽和カルボン酸系ポリマーを含有するフロアーポリッシュ組成物又は該組成物から得られる皮膜を溶解若しくは分散した液から固形分を回収するためのフロアーポリッシュ回収用組成物。 - 特許庁

The stretched packaging film comprises a three-layer laminate obtained by laminating an at least one type of a film selected from a noncrystalline polyolefin resin, a vinyl aromatic elastomer as well as a petroleum resin, a terpene resin, a cumarone-indene resin, a rosin resin and their hydrogen-added derivatives as a center layer, and linear low density polyethylene films laminated as outer layers on both surfaces of the center layer.例文帳に追加

ストレッチ包装用フィルムが、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ビニル芳香族系エラストマー、並びに、石油樹脂、テルペン樹脂、クマロン−インデン樹脂、ロジン系樹脂及びこれらの水素添加誘導体の中から選ばれた少なくとも1種からなるフィルムを中心層とし、この中心層の両面に外層として、直鎖状低密度ポリエチレンフィルムが積層された三層積層体よりなる。 - 特許庁

The integrated circuit patterns are transferred to pattern transfer regions 12a to 12e of the product mask Md 4 by reduction stepping processing using plural sheets of the IP masks and thereafter the connection between the patterns of the pattern transfer regions 12a to 12e adjacent to each other is performed by the light shielding patterns 2j consisting of organic films formed by exposure processing using energy beams.例文帳に追加

複数枚のIPマスクを用いた縮小投影露光処理によって製品マスクMd4のパターン転写領域12a〜12eに集積回路パターンを転写した後、互いに隣接するパターン転写領域12a〜12eのパターン間の接続をエネルギービームを用いた露光処理によって形成された有機膜からなる遮光パターン2jで行うようにする。 - 特許庁

This photographing unit constituted so that an unexposed film housing part 31, an exposed film housing part 32 and a photographing space 40 are prepared in a housing whose inside is shielded from light, the plural number of cut sheet-like photographic films are prepared in a stack state, and a photographing action is executed by feeding the photographic film to a photographing part 61 by a film feeding mechanism.例文帳に追加

内側を遮光状態に維持するハウジング内に、未露光フィルム収納部、露光済みフィルム収納部、撮影用スペースとを用意し、該未露光フィルム収納部に複数枚のカットされたシート状写真フィルムを積層状態に用意すると共に、フィルム送り機構に写真フィルムを撮影部に送り撮影を行なう構成であることを特徴とする撮影ユニットである。 - 特許庁

The liquid crystal display device is disclosed which has a liquid crystal panel having a plurality of pixel regions arrayed in a matrix by arranging 1st and 2nd substrates 15 and 14 having conductor films formed on inner surface sides opposite each other and arranging a liquid crystal layer 12, a reflecting film having a through hole 21 formed, and a color filter 16 in the gap between both the substrates.例文帳に追加

本発明は内面側に導体膜を形成した第1及び第2の基板15、14を対向して配置するとともに、前記両基板の間隙に液晶層12と透過孔21を形成した反射膜とカラーフィルター16とを夫々配置し、マトリックス状を配列された複数の画素領域を有する液晶パネルを有する液晶表示装置である。 - 特許庁

To provide a method of correcting the ink compounding ratio of an ink composition which can simply correct the standard compounding of a production lot ink composition with high precision by using computer color matching(CCM) without using a small test printing machine in order to render the color matching of the production lot prints against sample prints within limits in the commercial production of prints such as wall papers and constructional films.例文帳に追加

壁紙や建材フィルムなどの印刷物の工業生産において、見本印刷物に対する生産ロット印刷物の色の合致度を限度内にするために、小型試験印刷機を使用することなく、CCMを用いて生産ロットインキ組成物の基準配合を簡便、且つ高精度に修正することができるインキ組成物の配合比率の修正方法を提供すること。 - 特許庁

When an electron emission element having conductive films 4 containing electron emission parts 5 between element electrodes 2, 3 is manufactured, the electron emission part 5 made of a high resistance part is formed in the conductive film 4, and a substrate 1 is heated in a mixed gas of olefinic hydrocarbon and nitrogen, and at the same time, voltage is applied to the element electrodes 2, 3 as activation treatment.例文帳に追加

素子電極2,3間に、電子放出部5を含む導電性膜4を有する電子放出素子の製造に際し、導電性膜4に高抵抗部からなる電子放出部5を形成した後、オレフィン系炭化水素と窒素から構成される混合気体中で、基板1を加熱しながら素子電極2,3間に電圧を印加して活性化処理を施す。 - 特許庁

Moreover, by providing the container in which the evaporation material is accommodated, the heating medium accommodated in the container with pores, an evaporation source filled up with the evaporation material in the porous parts, and a heating means to heat the evaporation material, and by making the evaporation material evaporate by the heating means, the evaporation films are deposited on a substrate.例文帳に追加

また、蒸着材料を収容する容器と、容器内に収納され、空孔を含む加熱媒体と、空孔内に蒸着材料が充填された蒸着源と、蒸着材料を加熱する加熱手段とを具備し、加熱手段によって蒸着材料を蒸発させることにより、基板上に蒸着膜を堆積するように構成した蒸着装置とした。 - 特許庁

The method for producing the latent curing agent comprises stirring and simultaneously thermally dissolving the epoxy compound, the imidazole-based compound, and ethyl cellulose in a prescribed saturated hydrocarbon-based solvent to effect an adduct reaction between the epoxy compound and the imidazole-based compound to prepare the adduct particle slurry, cooling the slurry, and then charging a multi-functional isocyanate compound to cross-link the ethyl cellulose films.例文帳に追加

エポキシ系化合物とイミダゾール系化合物とエチルセルロースとを、所定の飽和炭化水素系溶剤中で撹拌しながら加熱して溶解させ、更にエポキシ系化合物とイミダゾール系化合物との間にアダクト反応を生じさせて、アダクト体のスラリーを得、そのスラリーの温度を冷却した後、多官能イソシアナート化合物を投入してエチルセルロース膜を架橋する。 - 特許庁

The piezoelectric thin-film resonator supported with a substrate has a piezoelectric film held between electrodes in an upper part of a gap formed on the substrate, and comprises a first frequency temperature coefficient correcting film between the substrate and the lower electrode, and a second frequency temperature coefficient correcting film on the upper electrode surface, to hold the piezoelectric film between the frequency temperature coefficient films from above and below.例文帳に追加

基板に支持されてそこに形成された空隙の上部に電極に挟まれた圧電膜を具えた圧電薄膜共振子において、基板と下部電極間に第1の周波数温度係数補正膜を具えるとともに、上部電極の表面に第2の周波数温度係数補正膜を具えて圧電膜を上下から周波数温度係数補正膜で挟んだ構造とする。 - 特許庁

The hollow waveguide 60 is constituted by axially connecting flexible hollow waveguides 61 and 65 formed into internally hollow long shapes, the inner surfaces of which hare coated with dielectric films 67 and which guide the laser beam 57a and the hollow waveguide 65 on an emitting end side is formed of a material more flexible than that of the hollow waveguide 61 on a light source side.例文帳に追加

中空導波路60は、内部中空の長尺状に形成されて内面が誘電体薄膜67で被覆されレーザ光57aを導光する可撓性のある中空導波路61,65を軸方向に接続して構成され、出射端側中空導波路65が光源側中空導波路61に比べて柔軟性のある素材で形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a flat bag-shaped cassette bag for soft ice cream which is made up by bag-making out of films, and to provide a package made up by filling the cassette bag with soft ice cream mix.例文帳に追加

保管や流通過程における取り扱いが容易であり、諸装置のシンプル化およびコンパクト化が図られ、内容物の吐出操作時にトラブルを起こさず、廃棄物の嵩や量も少ないカセット材料、より具体的には、フィルムを製袋した扁平な袋の形のソフトアイスクリーム用カセット袋を提供すること、およびそのカセット袋にミックスを充填した包装体を提供することを目的とする。 - 特許庁

Kabuki Eiga Pro,' in cooperation with Nakane Pro and YAMAGUCHI's 'Yamaguchi Toshio Productions,' Kobunji acted in the first films that were produced by these two production companies and Yoshinosuke ICHIKAWA (later known as Kiyoshi SAWADA), who had come from Ayameike Studio of Ichikawa Utakemon Productions (Uta Pro) in Nara and joined 'Kabuki Eiga Pro,' also acted in "Aizo Ketsurui" (Love and Hate, Blood and Tears) produced by Chie Pro, but YAMAZAKI's 'Kanshu Renmei' fell apart early at the end of July in 1928. 例文帳に追加

「歌舞伎映画プロ」は、中根プロ、および山口の「山口俊雄プロダクション」に協力し、小文治はそれらの第1作に出演、奈良の市川右太衛門プロダクションあやめ池撮影所(右太プロ)から「歌舞伎映画プロ」に参加した市川芳之助(のちの沢田清)も千恵プロの『愛憎血涙』に出演したが、同年7月末に早くも山崎らの「館主連盟」が瓦解してしまった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This semiconductor device is provided with a gate electrode which consists of alminum on a substrate, films which consist of alminum oxide on the gate electrode, an amorphous silicon film on the film which consists of the alminum oxide, and a silicon nitride film over the gate electrode, and an amorphous silicon film of ntype on the silicon nitride film and the amorphous silicon film.例文帳に追加

基板上のアルミニウムから成るゲイト電極と、前記ゲイト電極上のアルミニウムの酸化物から成る薄膜と、前記アルミニウムの酸化物から成る薄膜上のアモルファスシリコン膜と、前記アモルファスシリコン膜上であって、前記ゲイト電極上方の窒化珪素膜と、前記窒化珪素膜上および前記アモルファスシリコン膜上のN型のアモルファスシリコン膜とを有することを特徴とする半導体装置。 - 特許庁

例文

To improve the productivity in molding fibers (filtration pressure rise and fiber breakage), films, and bottles by finely dividing deposited particles caused mainly by a metallic atom such as aluminum which deposits in the polyester polycondensation step in using an aluminum compound as the major metal component of a catalyst which is free of an antimony compound or a germanium compound as the catalyst major component.例文帳に追加

本発明は、アンチモン化合物又はゲルマニウム化合物を触媒主成分として含まず、主たる触媒金属成分としてアルミニウム化合物を用いる場合において、ポリエステルの重縮合工程で析出する主としてアルミニウムなどの金属原子に起因する析出粒子を微細化せしめ、繊維(濾過圧上昇、糸切れ)、フィルムおよびボトル成形時の生産性を改善する。 - 特許庁




  
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