Filmsを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 13275件
The interface between a lower capacitor and a capacitor insulating film is flattened by crystallizing amorphous SRO films 14 and 17 in continuous way by heat treatment, after forming an amorphous SRO film 14 as a lower capacitor electrode, a polycrystalline BST film 16 consisting of Ba(X)Sr(1- X)TiO (3) as a capacitor insulating film, and an amorphous SRO film 17 as an upper capacitor electrode.例文帳に追加
下部キャパシタ電極としての非晶質SRO膜14、キャパシタ絶縁膜としてBa(X)Sr(1−X)TiO(3)からなる多結晶BST膜16、上部キャパシタ電極としての非晶質SRO膜17を連続的に形成した後、熱処理により非晶質SRO膜14,17を一括して結晶化する事により、下部キャパシタ電極とキャパシタ絶縁膜との界面を平担にする。 - 特許庁
To provide an electro-optical device having such a configuration that can reliably shield transistors on one substrate from light, while reducing variation in the aperture ratio among pixels in a display area by using light shielding films formed on the other substrate and also preventing variation in the pixel aperture ratio among liquid crystal devices even when a positional deviation of the other substrate with respect to the one substrate occurs in a bonding process.例文帳に追加
貼り合わせにおいて、一方の基板に対して他方の基板の位置ずれが生じたとしても、他方の基板における遮光膜によって、表示領域における各画素の開口率のばらつきを低減させ、液晶装置毎に、画素の開口率がばらつくことを防ぐとともに、一方の基板のトランジスタを確実に遮光することができる構成を有する電気光学装置を提供する。 - 特許庁
The device is provided with interlayer insulating films for rewiring 13 on a surface of an element forming face side of the semiconductor chip 10 where PD 13 is formed, EBP 21 corresponding to PD13 formed on the film, DBP 23 where corresponding PD does not exist on the chip 10, the wiring 41 connecting EBP 21 corresponding to PD13, and DB rewiring 43 connecting DBP23 with prescribed EBP 21.例文帳に追加
PD13が形成された半導体チップ10の素子形成面側の表面に更に再配線用層間絶縁膜13と、この上に形成された各PD13とそれぞれ対応するEBP21と、チップ10上に対応するPDのないDBP23と、PD13と対応するEBP21を接続する41と、DBP23と所定のEBP21とを接続するDB再配線43を備える。 - 特許庁
To provide a high-performance release agent comprising a polyvinyl carbamate or alkyl urea derivative as a main agent, which allows little gelation of a solution, even at an ordinary temperature or lower, even when the concentration of the main agent is increased, and therefore allows application to substrate films at room temperatures.例文帳に追加
ポリビニルカーバメートまたはアルキル尿素誘導体を主剤とする剥離処理剤において、常温またはそれ以下の低温条件下においても溶液のゲル化を生じ難く、主剤の濃度を高くした場合も同様に常温またはそれ以下の低温条件下においても溶液のゲル化を生じ難く、従って基材フィルムへの塗工を室温で行うことができる高性能の剥離処理剤を提供することを目的とする。 - 特許庁
A spherical surface acoustic wave element 10 includes a barrel-shaped piezoelectric crystal substrate 11, an interdigital electrode 13 formed on a surface acoustic wave circuit path 12 of the substrate 11, and heating electrode films 14 and surface acoustic wave excitation detecting electrode leads 15 formed on both polar flat surfaces of the substrate 11 having the circuit path 12 in between.例文帳に追加
球状弾性表面波素子10は、樽型形状の圧電性結晶基材11と、この基材11の弾性表面波周回径路12上に形成されたすだれ状電極13と、上記基材11の周回径路12を挟む両極の平坦面に形成された加熱電極膜14および弾性表面波励起検出用電極取り出し部15とを具備して構成される。 - 特許庁
The method for forming multilayer optical films includes the steps of: preparing first and second resins; extruding the first and second resins into a resin stream having a plurality of layers and having first and second major surfaces; and casting the resin stream so that first major surface is cast against a casting surface and the second major surface is cast against a casting surface.例文帳に追加
多層光学フィルムを形成するための方法であって、第1および第2の樹脂を提供するステップと、前記第1および前記第2の樹脂を、複数の層をなし第1および第2の主面を有する樹脂ストリームに押出すステップと、前記第1の主面がキャスティング面に対し流延され、前記第2の主面がキャスティング面に対して流延されるように前記樹脂ストリームを流延するステップと、を含む方法。 - 特許庁
The semiconductor memory device includes: a semiconductor substrate 10; the ferroelectric capacitor FC provided above the semiconductor substrate and including an upper electrode UE, a ferroelectric film FE and a lower electrode LE; and upper interlayer insulating films ILD3 and ILD4 provided enclosing a periphery of the ferroelectric capacitor, wherein a gap 50 is provided between the ferroelectric capacitor and upper interlayer insulating film.例文帳に追加
半導体記憶装置は、半導体基板10と、半導体基板の上方に設けられ、上部電極UE、強誘電体膜FEおよび下部電極LEを含む強誘電体キャパシタFCと、強誘電体キャパシタの周辺を取り囲むように設けられた上部層間絶縁膜ILD3,ILD4とを備え、強誘電体キャパシタと上部層間絶縁膜との間に間隙50が設けられている。 - 特許庁
The organic electroluminescent element comprises insulation films 12 formed on a substrate 1 and transistors 100, 200, a metal protection film 10 formed on the insulation film 12 at a non-light emitting area, a first electrode 11 formed on the insulation film 12 at a light emitting area 3, a light emitting layer formed on the first electrode , and a second electrode formed on the light emitting layer.例文帳に追加
本発明に係る有機電界発光素子は、基板1及びトランジスタ100、200の上に形成された絶縁膜12と、非発光領域の絶縁膜12の上に形成された金属保護膜10と、発光領域3の絶縁膜12の上に形成された第1電極11と、第1電極11の上に形成された発光層と、発光層上に形成された第2電極を含む。 - 特許庁
This sheet-like microorganism incubator in which a transparent film and a resin film are laminated in a state nipping a fibrous sheet having a smaller size than those of the films is characterized in that the transparent film and the fibrous sheet are adhered to each other with an adhesive coated on the transparent film and in that a gelling agent adhered to the resin sheet is intervened between the fibrous sheet and the resin sheet.例文帳に追加
透明フィルムと樹脂シートがそれらより小さいサイズの繊維質シートを挟む状態に積層されたシート状微生物培養器であって、透明フィルムと繊維質シートがその透明フィルムに塗布された粘着剤によって接着され、繊維質シートと樹脂シートとの間にその樹脂シートに付着されたゲル化剤が介在させられていることを特徴とするシート状微生物培養器。 - 特許庁
This cooling block is fabricated by joining a first aluminum base material and a second aluminum base material in a heating environment containing oxygen with zinc between the base materials, while a concave for forming a coolant channel is machined on either or both of the base materials so that a diffusion bonding layer with zinc diffused in aluminum and an anti-corrosion layer made of zinc oxidized films can be formed simultaneously.例文帳に追加
各々アルミニウムからなり、少なくともそれらの一方に冷却液の流路形成用の凹部が加工されている第1の母材及び第2の母材を、両者の間に亜鉛を介在させた状態で酸素を含む加熱雰囲気下で接合することにより、亜鉛がアルミニウム中に拡散された拡散接合層と亜鉛酸化膜からなる防食層とが同時に形成されることにより冷却ブロックを形成する。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor device acquires focus values measured for regions having different reflectance respectively due to films formed at a lower layer than a resist 6 formed above a wafer 3, brings a focus value acquired at a second region 32 having a higher reflectance than that of a first region 31 closer to a focus value acquired at the first region 31 having a lower reflectance, and carries out exposure processing.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、ウエハ3上に形成されたレジスト6より下層に形成された膜によって反射率が異なる領域について測定されたフォーカス値を取得し、反射率が低い第1の領域31について得られたフォーカス値に、前記第1の領域31よりも反射率が高い第2の領域32について得られたフォーカス値を近づけて露光処理を行う。 - 特許庁
The method of manufacturing an acoustic wave element includes processes of forming an IDT electrode 2 formed of a laminated metal film on a piezoelectric substrate 1, and performing frequency adjustment, by making a metal constituting at least one metal film out of the plurality of metal films in the IDT electrode 2 diffuse, by heating the IDT electrode or applying a high-frequency signal.例文帳に追加
圧電基板1上に、積層金属膜からなるIDT電極2を形成する工程と、IDT電極を加熱することによりまたは高周波信号を印加することにより、IDT電極2において複数の金属膜のうちの少なくとも1つの金属膜を構成している金属を拡散させることにより周波数調整を行う工程とを備える、弾性波素子の製造方法。 - 特許庁
Furthermore, various materials for fabricating nanowires, thin films including p-type doping nanowires and n-type doping nanowires, nanowire heterostructures, light emitting nanowire heterostructures, flow masks for arranging nanowires on substrates, nanowire spraying techniques for forming nanowires as a film, techniques for reducing or eliminating phonon scattering of electrons in nanowires, and techniques for reducing surface levels in nanowires are described.例文帳に追加
さらに、ナノワイヤを製造するための様々な材料、p型ドーピングナノワイヤおよびn型ドーピングナノワイヤを含む薄膜、ナノワイヤヘテロ構造、発光ナノワイヤヘテロ構造、ナノワイヤを基板上に配置するためのフローマスク、ナノワイヤを成膜するためのナノワイヤ噴霧技術、ナノワイヤにおける電子のフォノン散乱を減少または除去するための技術、および、ナノワイヤにおける表面準位を減少させるための技術が、説明される。 - 特許庁
The protective film for optical films having fine irregularities of a nano-meter order includes a substrate and an adhesive layer formed on the substrate and having a surface roughness Ra of ≤0.030 μm and a logarithmic damping factor rising temperature of ≥-35°C, measured by the rigid pendulum measurement.例文帳に追加
本発明は、ナノメートルオーダーの微細凹凸を有する光学フィルムに用いられる光学フィルム用保護フィルムであって、基板と、上記基板上に形成され、表面粗さRaが0.030μm以下であり、剛体振り子測定における対数減衰率上昇温度が−35℃以上である粘着剤層とを有することを特徴とする光学フィルム用保護フィルムを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁
The recording method includes: a drawing step of drawing the recording patterns on a recording medium using a liquid having a photocurable property which is a character facilitating curing materials in response to light irradiation; a light-irradiation step of irradiating the liquid composing the recording patterns with the light, following the drawing step; and a thinning step S22 of thinning films composing the recording patterns, following the light-irradiation step.例文帳に追加
光の照射を受けて硬化が促進する性質である光硬化性を有する液状体で記録媒体に記録パターンを描画する描画工程と、前記描画工程の後に、前記記録パターンを構成する前記液状体に前記光を照射する光照射工程と、前記光照射工程の後に、前記記録パターンを構成する膜を薄くする薄化工程S22と、を含む、ことを特徴とする記録方法。 - 特許庁
A partial pressure of the CHF-based gas in the first etching gas of the first etching condition is set in such a range as an etching rate against the high carbon concentration insulating film 114 drops while that against the low carbon concentration insulating film 116 does not change, by adding the CHF-based gas with an etching rate relative to respective films when no CHF-based gas is added to the first etching gas as a reference.例文帳に追加
第1のエッチング条件の第1のエッチングガス中のCHF系ガスの分圧は、第1のエッチングガスに当該CHF系ガスを添加していない場合の各膜へのエッチングレートを基準として、当該CHF系ガスを添加することにより、高炭素濃度絶縁膜114に対するエッチングレートが低下するとともに、低炭素濃度絶縁膜116に対するエッチングレートを変化させない範囲に設定されている。 - 特許庁
According to the thermoelectric conversion element in which the films of the thermoelectric powder are electrically connected to one another, since the film is topologically two-dimensional for a conductive carrier moving through the film consisting of the thermoelectric material and also the total thermal conductivity is reduced due to the heat treatment on the thermoelectric powder, a higher performance index ZT can be obtained compared to a thermoelectric conversion element with the conventional structure.例文帳に追加
上記熱電粉体の被膜同士が電気的に接続された本発明の熱電変換素子によれば、熱電材料から成る被膜中を移動する伝導キャリアにとって上記被膜はトポロジー的に2次元的であり、更に熱電粉体が熱処理されて全体の熱伝導度が低くなっているため、従来構造の熱電変換素子と較べ高い性能指数ZTを得ることが可能となる。 - 特許庁
By configuring the metal deposition film capacitor in this way, when the capacitor is used in a lighting circuit, or the like, of a flash lamp, even in tens of thousands of charging and discharging cycles, a dielectric barrier electric discharge generated between the metal deposition films of the capacitor element formed by wounding a metal deposition film arranged inside the metal deposition film capacitor is suppressed, and thus the electrostatic capacitance can be prevented from attenuating.例文帳に追加
金属蒸着フィルムコンデンサーをこのように構成することによって、フラッシュランプの点灯回路等に使用した際、数万回といった充放電の繰り返しによっても、金属蒸着フィルムコンデンサー内部に配置された金属蒸着フィルムを巻回し形成したコンデンサー素子の金属蒸着フィルム間に生じる誘電体バリア放電を抑制し、静電容量の減衰を防止することができる。 - 特許庁
A long roll polarizing plate has a long roll cellulose ester film and a long roll triacetyl cellulose film on both sides of a polarizer containing dichroic substance as protective films, the long roll cellulose ester film being optically biaxial, having the maximum axis with which refractive index becomes maximum in its widthwise direction, having a 30-300 nm in-plane retardation value R_0 and a 30-300 nm retardation value R_1 in its thickness direction.例文帳に追加
光学的に二軸性であって幅手方向に屈折率が最大となる軸を有する、面内リターデーション値R_0が30〜300nmであり、厚み方向のリターデーション値R_tが30〜300nmである長尺ロールセルロースエステルフィルム及び、長尺ロールトリアセチルセルロースフィルムとを、二色性物質を含有する偏光子の両面にそれぞれ保護フィルムとして有することを特徴とする長尺ロール偏光板。 - 特許庁
To provide a ketoxime ester compound usable as a new and highly sensitive photopolymerization initiator, a photopolymerizable composition useful for forming various kinds of members, etc., installed in a liquid crystal display, such as interlayer insulation films, pixels and black matrices of color filters, photo spacers, ribs (liquid crystal alignment control ribs), etc., and to provide a cured product formed of the photopolymerizable composition, and a liquid crystal display including the cured product.例文帳に追加
新規かつ高感度な光重合開始剤として利用可能なケトオキシムエステル系化合物であり、層間絶縁膜、カラーフィルターの画素及びブラックマトリックス、フォトスペーサー、リブ(液晶配向制御突起)等の液晶表示装置に備えられる各種部材の形成等に有用な光重合性組成物及び該光重合性組成物により形成された硬化物及び該硬化物を備える液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
The conductive film in the local thin-film region is completely oxidized, but the conductive film is oxidized to such a film thickness that unoxidized conductive films are left on the bottom and sidewall, and consequently the conductive film 122 on the bottom and the conductive film 126 on the sidewall are separated via a variable resistor which is an oxidized film of the conductive film in the first opening 128, thereby forming a variable resistance element 104.例文帳に追加
当該局所薄膜領域の導電膜が完全に酸化されるが、底部及び側壁部上には未酸化の導電膜が残存するような膜厚で導電膜を酸化させることにより、第1の開口部128内において、底部の導電膜122と側壁部の導電膜126が導電膜の酸化膜である可変抵抗体を介して分離され、可変抵抗素子104が形成される。 - 特許庁
The polarizing plate is obtained by disposing transparent protective films separately on both surfaces of a polarizing film, wherein the difference between a linear expansion coefficient of the polarizing film in a direction perpendicular to an absorption axis thereof and a linear expansion coefficient of the transparent protective film disposed on at least one surface of the polarizing film in a direction perpendicular to an absorption axis of the polarizing plate is ≤1.3×10^-4/°C.例文帳に追加
偏光フィルムの両面に透明保護フィルムが配置されてなる偏光板であって、上記偏光フィルムの吸収軸に直交する方向の線膨張係数と、その偏光フィルムの少なくとも一方の面に配置される上記透明保護フィルムの偏光板の吸収軸に直交する方向の線膨張係数との差が、1.3×10^-4/℃以下である偏光板が提供される。 - 特許庁
To provide a silver halide color photographic sensitive material so as to obtain the best print with high efficiency even for printing color negative films photographed under any photographing conditions, and to provide a silver halide color photographic sensitive material having decreased influences by fluctuation of the activity level of a developing solution during development, having improved print stability and little fog by leaked light due to light piping and showing preferable sharpness.例文帳に追加
あらゆる撮影条件で撮影されたカラーネガフィルムのプリントにおいて、最良プリントが高効率で得られるハロゲン化銀カラー写真感光材料を提供することにあり、さらには、現像処理時の現像処理液活性度レベルの変動による影響が低減され、プリント安定性が改良され、且つ、ライトパイピングによる漏光カブリが少なく、鮮鋭性も良好なハロゲン化銀カラー写真感光材料の提供。 - 特許庁
The laminated polarizing plate provided with a shock absorbing member and a polarizing member has a deformation preventing member made of polycarbonate (PC), triacetyl cellulose (TAC), aromatic polyimide, polyvinyl alcohol (PVA), polyethersulfone (PES), amorphous polyester, norbornene resin films or the like on the attachment surface side of the shock absorbing member and has the polarizing member on the opposite surface side of the shock absorbing member.例文帳に追加
衝撃吸収部材及び偏光部材を有する積層型偏光板であって、上記積層型偏光板は、衝撃吸収部材の貼付面側に、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、芳香族ポリイミド、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエーテルスルフォン(PES)、非晶性ポリエステル、ノルボルネン系樹脂フィルム等からなる変形防止部材を有し、反対面側に偏光部材を有する積層型偏光板。 - 特許庁
In an active matrix substrate in which pixel electrodes are formed in a matrix shape on the substrate, plural scanning lines and plural signal lines are formed in the peripheries of the pixel electrodes and thin film transistors driving the pixel electrodes are formed at the vicinities of the intersections of both the lines, metallic films whose potentials are the same as those of the pixel electrodes are formed at the edges of the pixel electrodes.例文帳に追加
基板上に絵素電極がマトリクス状に形成され、該絵素電極の周辺部を通って、複数の走査配線および複数の信号配線が形成され、両配線の交差位置近傍に、絵素電極を駆動する薄膜トランジスタが形成されたアクティブマトリクス基板において、前記絵素電極のエッジとなる部分に絵素電極と同電位の金属膜が形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
A single particle film is formed by constituting a particulate structure having a cyclic structure spreading in two dimensions on a supporting material by using two or more kinds of functional particulates whose particle sizes are uniform, single particle films are laminated to structure a three-dimensional particulate structures, and at least two or more kinds of functional particulates are composed of particulates of the same composition, thereby obtaining a particulate thin film.例文帳に追加
粒径が均一な2種類以上の機能性微粒子によって2次元方向に拡がる周期構造を有する微粒子構造体を支持材上に構成して単粒子膜を形成し、同単粒子膜を積層して3次元構造の微粒子構造体を構築し、少なくとも2種類以上の機能性微粒子が同一組成の微粒子で構成されるようにして微粒子薄膜を得る。 - 特許庁
The patterned single-layer insulating particulate films are subjected to covalent bond via a first organic film where a layer of an insulating particulate film selectively formed on the surface of the base material is formed selectively on the surface of the base material, and a second organic film formed on the surface of the insulating particulate.例文帳に追加
基材表面に選択的に1層形成された絶縁性微粒子の膜が基材表面に選択的に形成された第1の有機膜と絶縁性微粒子表面に形成された第2の有機膜を介して互いに共有結合していることを特徴とするパターン状の単層絶縁性微粒子膜、更に、これらの有機膜が互いに異なることを特徴とするパターン状の単層絶縁性微粒子膜を形成する。 - 特許庁
The IDT electrode is formed by laminated films containing a substrate layer composed of titanium nitride or titanium laminated on the single crystal piezoelectric substrate one by one and an Al layer, and the single crystal piezoelectric substrate is a lithium tantalate substrate with 46° or more rotation Y-X propagation.例文帳に追加
単結晶圧電基板の表面にIDT電極を備えかつ金属バンプを介してベース基板上にFCB実装されたSAW素子を1以上含むSAW装置で、IDT電極は、単結晶圧電基板上に順次積層した窒化チタン又はチタンからなる下地層とAl層とを含む積層膜により形成されかつ、単結晶圧電基板は46°以上の回転Y‐X伝搬タンタル酸リチウム基板である。 - 特許庁
His creative activities reached a peak from 1967 to 1970; he directed the masterpiece "Oryu sanjo" (The Appearance of Oryu), part of the "Hibotanbakuto" series, starring Junko FUJI; made successful action movies such as "By a Man's Face Shall You Know Him" and "The Eighteen-year Sentence" which starred Noboru ANDO; and directed "Showa onna bakuto" (A Showa Lady Gambler), a revenge story featuring a strange curse in which Kyoko ENAMI, a star of yakuza films who had moved from Daiei to Toei, played the lead. 例文帳に追加
その創作活動は1967年から1970年にピークを迎え、藤純子主演の『緋牡丹博徒』ではシリーズ中屈指の傑作である『お竜参上』を監督し、安藤昇を主演に迎え『男の顔は履歴書』や『懲役十八年』などのアクション映画を成功させ、大映の任侠スターだった江波杏子を東映に迎えて一種異様な怨念に彩られた復讐物語『昭和おんな博徒』を手掛けた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
However, the film director Nagisa OSHIMA, whose film was not listed, strongly protested against the office of the Cannes International Film Festival, and caused a fuss (On the background, although there was a provision that only one film could be listed officially from one country, the Motion Picture Producers Association of Japan, Inc. sent both films of Nakahira and Oshima, and the office of Cannes International Film Festival selected "Yami no naka no Chimimoryo" as the official film). 例文帳に追加
だが、これに洩れた大島渚監督が選考経緯不明瞭としてカンヌ国際映画祭事務当局に強く抗議、騒動となった(日本映画製作者連盟が正式出品作は1国につき1作品の規定にも関わらず、中平・大島両監督の作品を送り、カンヌ国際映画祭事務当局によって『闇の中の魑魅魍魎』が正式出品作として選ばれたという経緯があった)。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
Later it merged with Oizumi Films, which had achieved success in the film production industry, and Toyoko Film Company (founded in 1938) which had run movie theaters in Shibuya, Tokyo and Yokohama City in order to develop the areas along the Tokyu Toyoko line, but after World War Two it rented the former Shinko Cinema Kyoto Studio from Daiei Motion Picture Company to start film production and changed its name to Toei. 例文帳に追加
やがて映画製作に進出した太泉映画(おおいずみえいが)と1938年設立の東横映画(とうよこえいが)(東急東横線の沿線開発を目的に、東京の渋谷や横浜市で映画館を経営していたが、戦後大映(映画)より京都第2撮影所(旧新興キネマ京都撮影所)を賃借して映画製作に進出。)を吸収合併、社名を東映と改めて出発した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide an acetylene group-containing organic compound easily polymerizable by low-temperature heat or ultraviolet irradiation, to provide a method for vacuum deposition polymerization of the organic compound enabling organic thin film of uniform thickness to be obtained without producing any radial and byproduct, to provide such thin film increased in thermal stability through the above method, and to provide electroluminescent elements using the above thin films.例文帳に追加
低温の熱、あるいは紫外線により容易に重合反応を起こすアセチレン基を含む有機化合物;上記の化合物を使用して、ラジカル及び副産物を生成することなく、均一な厚さの有機薄膜を得ることができる蒸着重合法;上記の方法により製造された、熱安定性が増加した蒸着重合薄膜;及び上記の薄膜を使用した電気発光素子を提供すること。 - 特許庁
The end surfaces of the films 15, 17 which are located on the plate 5 and the plate 7, respectively, are disconnected to provide a non-contact structure consisting of the film 15 on the plate 5 and the film 17 on the plate 7.例文帳に追加
扉外板5と扉内板7のそれぞれの外縁部11を接続して形成する中空部13の内面側にアルミフィルム15,17(100〜300μm)を配設し、該アルミフィルム15,17で中空部13を作ると共に、扉外板5と扉内板7のそれぞれに設けた上記アルミフィルム15,17の端面部は非接触とし、扉外板5のアルミフィルム15と扉内板7のアルミフィルム17とを非接触構造としたものである。 - 特許庁
A linear polarization plate 1 is structured so that protection films 2 and 3 are affixed to its two surfaces, and at least one of them 2 is oriented uniaxially, and its delay phase axis 21 is positioned at an angle of 0±15° or 90±15° to the absorption axis 11 of the linear polarization plate.例文帳に追加
直線偏光板(1)の両面にそれぞれ保護フィルム(2、3)が貼着されている保護フィルム貼着直線偏光板(4)であって、少なくとも一方の面に貼着されている保護フィルム(2)は一軸に配向しており、その遅相軸(21)が直線偏光板の吸収軸(11)に対して0°±15°または90°±15°の角度をなすように貼着されていることを特徴とする保護フィルム貼着直線偏光板(4)。 - 特許庁
The antireflection filter comprises: a resin layer obtained by curing a radiation curable composition containing, as a constituent, radiation curable urethane(meth)acrylate obtained by reacting organic isocyanate having a plurality of isocyanate groups in one molecule, e.g., a compound obtained by subjecting a diisocyanate monomer to isocyanurate modification with polycaprolactone modified alkyl(meth)acrylate ; and an antireflection layer composed of a plurality of antireflection films.例文帳に追加
ジイソシアネートモノマーをイソシアヌレート変性させた化合物等の1分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとポリカプロラクトン変性アルキル(メタ)アクリレートとを反応させて得られる放線線硬化性のウレタン(メタ)アクリレートを構成成分として含有する放射線硬化型組成物を硬化させて得られる樹脂層、複数の反射防止膜よりなる反射防止層を有する反射防止フィルタ。 - 特許庁
The laminate which has the base material formed of the organic material, intermediate layers made by the vacuum film making method on one or both surfaces of the base material and the vapor deposition layers made of an inorganic oxide by the vacuum film making method on the intermediate layers and in which the intermediate layers are vapor deposition films having an organic component and an inorganic component is provided.例文帳に追加
本発明は、有機材料で形成された基材と、上記基材の片面または両面に真空製膜法で形成された中間層と、上記中間層上に無機酸化物を真空製膜法で製膜した蒸着層とを有し、上記中間層が有機成分と無機成分とを有する蒸着膜であることを特徴とする積層体を提供することにより上記目的を達成するものである。 - 特許庁
This antislipping antistatic agent for the olefin polymer films is characterized by comprising a partial ester mixture obtained from a tetra or pentahydric polyalcohol and two or more different aliphatic monocarboxylic acids having different numbers of carbon atoms and selected from 12 to 18C aliphatic monocarboxylic acids and the mixture of two or more different alkali metal alkyl sulfonates having different numbers of carbon atoms and selected from 12 to 18C alkali metal alkylsulfonates.例文帳に追加
オレフィン重合体フィルム用防滑性帯電防止剤として、4又は5価のポリオールと炭素数12〜18の脂肪族モノカルボン酸から選ばれる炭素数の異なる二つ以上の脂肪族モノカルボン酸とから得られる部分エステルの混合物と、炭素数12〜18のアルキルスルホン酸アルカリ金属塩から選ばれる炭素数の異なる二つ以上のアルキルスルホン酸アルカリ金属塩の混合物とから成るものを用いた。 - 特許庁
The optical switch has a cavity by forming a defective layer 14 consisting of the materials having the electro-optic effects, transparent electrodes 13 arranged on both sides of the defective layer 14, dielectric multilayer films 12 arranged so as to sandwich the transparent electrode 13 on a substrate 11 and makes incident light of P wave on the transparent electrode 13 incident at a predetermined slanting incident angle.例文帳に追加
電気光学(electro−optic effect)を有する材料でなる欠陥層14と、欠陥層14の両側に配置された透明電極13と、透明電極13を挟持するように配置された誘電体多層膜12と、を基板11上に形成したキャビティーを有し、透明電極13に対してP波の入射光を所定の斜入射角で入射する。 - 特許庁
The metallic films 14 and 18 of the movable electrode plate 11 and the fixed electrode plate 12 are formed like a uniform and continuous grid mesh over the whole surface.例文帳に追加
可動電極板11と固定電極板12のそれぞれの表面に形成される金属膜14,18同士を一定間隔で対向させて固定し、可動電極板11側の表面に加わる押圧力による金属膜14,18同士の接触によりスイッチ動作を行う透明タッチパネルにおいて、可動電極板11と固定電極板12の金属膜14,18は、全面にわたって均一で連続した格子網目状に形成されている。 - 特許庁
In the method for simultaneously forming the contact holes on a gate electrode on the Si active layer and via an insulating SiO_2 film, oxide films that are left in the irregularities of the Si active layer are removed effectively, by subsequently performing sputter etching by Ar gas with a sputtering device and continuously performing sputtering deposition after performing reactive ion etching by a fluorine gas system and wet etching by a buffered hydrofluoric acid.例文帳に追加
Si活性層上、及び絶縁SiO_2膜を介してゲート電極上にコンタクト孔を同時に形成する方法において、フッ素ガス系による反応性イオンエッチング及びバッファードフッ酸によるウェットエッチングの後に、引き続いてスパッタ装置によりArガスによるスパッタエッチング、及びスパッタ成膜を連続して行うことにより、Si活性層の凹凸部に残留する酸化膜を効果的に除去する。 - 特許庁
The production method of the probe element is characterized in that it contains a first step for preparing a stage having a main surface and one or more recesses, and a second step for forming, on the main surface, a first photoresist layer which is formed by laminating two or more dry photoresist films and has a projection penetrating the first photoresist layer in the thickness direction to reach the recess.例文帳に追加
プローブ要素の製造方法は、主面を有すると共に該主面に1以上の凹所を有する基台を準備する第1のステップと、フィルム状をした2以上の乾燥ホトレジストを重ねた第1のホトレジスト層であって当該第1のホトレジスト層をこれの厚さ方向に貫通して前記凹所に達する突起部を有する第1のホトレジスト層を前記主面に形成する第2のステップとを含むことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a new phenolic resin or new epoxy resin capable of being self-dispersed in aqueous media without modifying phenolic hydroxyl groups in the phenolic resin or epoxy groups in the epoxy resin and without using a large amount of an emulsifier, and to provide a phenolic resin composition or epoxy resin composition which contains the new phenolic resin or new epoxy resin, is excellent in storage stability and gives cured coating films excellent in mechanical strengths.例文帳に追加
フェノール系樹脂中のフェノール性水酸基、或いは、エポキシ樹脂中のエポキシ基を何等変性することなく、かつ、多量の乳化剤を用いることなく水性媒体中で自己分散可能な新規フェノール系樹脂又は新規エポキシ樹脂、及びこれを含有し保存安定性に優れ、かつ、その硬化塗膜の機械的強度に優れるフェノール系樹脂組成物又はエポキシ樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
In a method for holding molds during pouring molten metal into vacuum molds, in which upper and lower mold halves are mated with one another, comprising suction flasks communicating with a vacuum source via a suction pipeline, forming films, a heat-resistive granular filler, and shielding members, the pressure in the vacuum molds during pouring is detected so as to be maintained constant on the basis of the detected results.例文帳に追加
真空源に吸引配管を介して連通する吸引鋳枠、成形フィルム、耐熱性粒状充填物、及び遮蔽部材とにより造型された上下半割れ減圧鋳型を型合せして構成した減圧鋳型への注湯時における鋳型保持方法であって、前記注湯時に前記減圧鋳型内部の圧力を検知すると共にその検知結果に基づいて前記減圧鋳型内の圧力を一定に保つ。 - 特許庁
An etchant that selectively etches an oxide film containing hafnium and silicon, an oxide film containing hafnium and aluminium, an oxide film containing zirconium and silicon, or an oxide film containing zirconium and aluminium with respect to a thermally oxidized film; a method for producing an etching material that etches materials to be etched on which the above oxide films and a silicon oxide film are formed; and the etching material obtained from the method are provided.例文帳に追加
熱酸化膜(THOX)に対してハフニウムとシリコンを含む酸化物膜,ハフニウムとアルミニウムを含む酸化物膜,ジルコニウムとシリコンを含む酸化物膜又はジルコニウムとアルミニウムを含む酸化物膜を選択的にエッチングするエッチング液;該エッチング液を用いて、前記酸化物膜並びにシリコン酸化膜が形成された被エッチング物をエッチング処理するエッチング処理物の製造方法;該方法により得ることができるエッチング処理物。 - 特許庁
To provide a polishing solution for polishing hard barrier layers and layer insulation films while the surface of cupper or a cupper alloy in a recess is protected during polishing to obtain a polished superior-flatness clean substrate surface, in the manufacturing of an electronic apparatus such as a semiconductor device, and to provide a high reliability chemical/mechanical polishing method superior in microprocessing, thinning, and dimension accuracy.例文帳に追加
半導体デバイスなど電子機器の製造において、硬いバリア層や層間絶縁膜を研磨する際に、凹部の銅或いは銅合金表面を研磨中に保護することにより、研磨後に平坦性に優れた清浄な基体表面が得られる研磨液、及び前記研磨液を用いて生産性が高く、微細化、薄膜化、寸法精度に優れ、信頼性の高い化学機械研磨を行う研磨方法を提供する。 - 特許庁
The stretch label of a cylindrical shape is formed by joining both ends of a roll goods film and is mounted on the outside surface of the body of the bottle, in which the roll goods film constituting the stretch label consists of multilayered laminated films consisting of polyethylene resin layers and further consisting of a milky white polyethylene resin layer for at least one layer constituting the same and having the white cover-up property.例文帳に追加
原反フィルムの両端部を接合し、かつ、ボトル胴部の外表面に装着する筒状のストレッチラベルにおいて、該ストレッチラベルを構成する原反フィルムが、ポリエチレン系樹脂層からなり、更に、少なくとも、それを構成する一層が、乳白色のポリエチレン系樹脂層からなり、白色隠蔽性を有する多層積層フィルムからなることを特徴とするストレッチラベルに関するものである。 - 特許庁
To provide a polyester film that exhibits excellent antifogging properties on hermetical packaging and exhibits excellent antistatic performances in an ordinary temperature ordinary humidity atmosphere and further excellent processing aptitude such as antistaticity or lubricity even in a low humidity atmosphere without detriment to transparency inherent in heat shrinkable polyester films, and a heat shrinkable label.例文帳に追加
熱収縮性ポリエステル系フィルムが本来有している透明性を損なうことなく、密封包装時に防曇性が優れ、かつ常温常湿雰囲気下での帯電防止性能に優れることはもとより、低湿度雰囲気下でも帯電防止性や滑性等の加工適性に優れるため常温常湿雰囲気下での帯電防止性能に優れるポリエステル系フィルム及び熱収縮性ラベルを提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a polyester film that exhibits excellent antifogging properties on hermetical packaging and exhibits excellent antistatic performances in an ordinary temperature ordinary humidity atmosphere and further excellent processing aptitude such as antistaticity or lubricity even in a low humidity atmosphere without detriment to transparency inherent in heat shrinkable polyester films, and a heat shrinkable label.例文帳に追加
熱収縮性ポリエステル系フィルムが本来有している透明性を損なうことなく、密封包装時に防曇性が優れ、かつ常温常湿雰囲気下での帯電防止性能に優れることはもとより、低湿度雰囲気下でも帯電防止性や滑性等の加工適性に優れ、温常湿雰囲気下での帯電防止性能にも優れるポリエステル系フィルム及び熱収縮性ラベルを提供することを目的とする。 - 特許庁
A method for making multilayer optical films includes: preparing first and second resins; extruding first and second resins into a resin stream comprising a plurality of layers and having first and second major surfaces; and casting the resin stream so that the first major surface is cast against a casting surface and the second major surface is cast against a casting surface.例文帳に追加
多層光学フィルムを形成するための方法であって、第1および第2の樹脂を提供するステップと、前記第1および前記第2の樹脂を、複数の層をなし第1および第2の主面を有する樹脂ストリームに押出すステップと、前記第1の主面がキャスティング面に対し流延され、前記第2の主面がキャスティング面に対して流延されるように前記樹脂ストリームを流延するステップと、を含む方法。 - 特許庁
In this manufacturing method of a semiconductor laser element, by forming the same antireflection films 11 on a plurality of samples 1 having oscillation wavelengths different from one another, the wavelength dependency of the antireflection film 11 can be obtained in a wide wavelength range over tens of nm unlike the conventional case where reflectivity of an antireflection film formed on a semiconductor laser element becoming a product is directly measured.例文帳に追加
この半導体レーザ素子の製造方法では、発振波長が異なる複数のサンプル1に同一の反射防止膜11を成膜することにより、製品となる半導体レーザ素子に形成した反射防止膜の反射率を直接測定する従来の場合とは異なり、数十nmにわたる広い波長範囲において反射防止膜11の波長依存性を求めることが可能となる。 - 特許庁
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