「Focus-Forming」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated space pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立スペースパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the two-position image forming object lens 26, an aberration to a light focus in the recording surface of the loaded disk is corrected, and at least one side surface of the incident surface and the exit surface is provided with the first aspherical surface and the second aspherical surface which are different each other.例文帳に追加

２位置結像対物レンズ２６はロードされるディスクの記録面における光焦点に対する収差が補正されたものであり、この入射面と出射面の少なくとも一方の面は相異なる第１非球面及び第２非球面を有する。 - 特許庁

The latter comprised a paradigm shift from the idea of all countries introducing the same measures to a new focus on measures utilizing "local power"— in other words, reflecting the nature of the local economy in promoting R&D and forming industrial agglomerations.例文帳に追加

一方、後者については、国によって程度の差はあるが、全国一律に同じ施策を導入するという発想から、その地域の特性に合わせた産業クラスターの形成や研究開発の推進を図る、いわば「地域力を活かす」施策への方向転換が含まれる。 - 経済産業省

The fabrication process includes a color filter formation step of forming the color filters 50R, 50G and 50B of respective colors sequentially, and a step of forming a predetermined layer 50W on the same layer as that of the color filters 50R, 50G and 50B according to the focus detection pixel after the first color filter formation step and before the last color filter formation step.例文帳に追加

この製造方法は、カラーフィルタ５０Ｒ，５０Ｇ，５０Ｂをその色毎に順次形成する各色のカラーフィルタ形成工程と、最初のカラーフィルタ形成工程の後であって最後のカラーフィルタ形成工程の前に、前記焦点検出用画素に対応してカラーフィルタ５０Ｒ，５０Ｇ，５０Ｂと同じレイヤにおいて、所定の層５０Ｗを形成する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in line width variation (LWR), focus latitude (DOF) and pattern profile to more stably form a high-precision fine pattern for producing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a resist composition and a resist film suitable for the method.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ（ＬＷＲ）、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びパターン形状に優れるパターン形成方法、並びにこれに好適なレジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, exposure dependence, resolution, roughness characteristics, and focus latitude, which reduces scum, and which forms a pattern with an adequate shape, and to provide a resist film and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、露光量依存性、解像力、ラフネス特性、及びフォーカス余裕度に優れ、スカムを低減し、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that can sufficiently reduce development defects in manufacturing semiconductors, particularly, in the formation of a contact hole pattern, and exhibits the superior depth of a focus (DOF), and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体製造の特にコンタクトホールパターン形成において、現像欠陥を充分に低減できるとともに、焦点深度（ＤＯＦ）に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a focus controller which is applicable to a digital image type microscope, in particular a confocal microscope, and can apply a digital image forming method only by slightly adding an adjusting operation and, the application of which to defocusing is limited to the range of about 5 to 8×λ/NA^2 in the confocal microscope.例文帳に追加

デジタル画像式顕微鏡、それも特に共焦点顕微鏡に使用でき、僅かな調整操作を加えるだけでデジタル式画像形成法が適用することができ、共焦点顕微鏡では、デフォーカシングへの適用が約５〜８×λ／ＮＡ^２の範囲に限定されるフォーカス制御装置 - 特許庁

To provide a negative-type radiation-sensitive composition that has a high resolution, has a wide depth of focus (DOF), provides a proper pattern shape, and forms a curing pattern of a low-relative dielectric constant, and to provide a curing pattern that uses the pattern and a forming method of the curing pattern.例文帳に追加

高解像度であり、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、得られるパターン形状が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

Since an image forming position to an image sensor 25 can be made constant even when the SELFOC lens 24 with a shallow field depth is in use as a result, the image sensor 25 can read an image of the whole side of the original 18 at one and the same focal position and the image reading apparatus can read the image with less out of focus.例文帳に追加

その結果、被写体深度が浅いセルフォックレンズ２４を用いても、イメージセンサ２５への結像位置を一定にすることができるので、イメージセンサ２５により原稿１８の全面の画像を同一のピント位置で読取ることができ、ピントボケの少ない画像読取が可能になる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which suppresses deterioration of resolution and a depth of focus caused when forming a fine wiring pattern using optical lithography in a connection region between regions where wiring pitches are different, reduces possibilities of occurrence of disconnection and a short circuit of the wiring pattern, and attains high integration.例文帳に追加

配線ピッチが異なる領域間の接続領域における光リソグラフィを用いた微細な配線パターンを形成する時の解像度や焦点深度の悪化を抑制し、配線パターンの断線やショートが発生する可能性を低減し、高集積化が可能となる半導体装置を提供する。 - 特許庁

In a two-position image forming object lens 26, an aberration to a light focus in the recording surface of the loaded disk is corrected, and at least one side surface of the incident surface and the exit surface is provided with a first curvature part and a second curvature part which are formed of different radiuses of curvature.例文帳に追加

２位置結像対物レンズ２６はロードされるディスクの記録面における光焦点に対する収差が補正されたものであり、この入射面と出射面の少なくとも一方の面が相異なる曲率半径より形成される第１曲率部と第２曲率部とを有する。 - 特許庁

Double focus sector units 425, 425 for deflecting the charged particle beam and an energy filter 460 for forming the potential are provided, and thereby, the charged particles of the charged particle beam are changed its direction at the potential saddle point according to the energy of the charged particles.例文帳に追加

荷電粒子ビームを偏向及び焦点合わせするための二重焦点セクターユニット４２５，４４５及び電位を形成するためのエネルギーフィルタ４６０が設けられ、これにより荷電粒子ビームの荷電粒子は、荷電粒子のエネルギーに応じて電位鞍点において方向を転換される。 - 特許庁

The focus regulating device is equipped with a driving shaft 5 which carries out rotational driving, a nut 26 which is screwed to the driving shaft 5 and is moved by the rotational driving of the driving shaft 5, an optical lens 24 which moves to an optical axis direction accompanying the movement of the nut 26 and a repulsion forming means 33.例文帳に追加

フォーカス調整装置１は、回転駆動する駆動軸５と、駆動軸５に螺合して駆動軸５の回転駆動により移動するナット２６と、ナット２６の移動に伴って光軸方向に移動する光学レンズ２４と、反発力生成手段３３と、を備える。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for a chemically amplifying resist having excellent sensitivity even at a low PEB (post exposure baking) temperature, highly balanced lithographic performances such as LWR (line width roughness) and DOF (depth of focus), and sufficient etching durability, and to provide a pattern forming method, a polymer and a compound of the composition.例文帳に追加

ＰＥＢ温度が低温であっても、感度等に優れ、ＬＷＲ、ＤＯＦ等のリソグラフィー性能が高度にバランスし、エッチング耐性をも十分に満足する化学増幅型レジスト用の感放射線性樹脂組成物、そのパターン形成方法、その重合体、及び化合物を提供する。 - 特許庁

The direct viewing type image display device is provided with an image light forming part 102 for forming image light corresponding to image signals, and a multi-focus lens 160 at substantially the same position as the pupil conjugate position by setting a pupil conjugate position optically conjugate to the position of the pupil 12 on an optical path with an emission part 148 emitting the formed image light from the image display device.例文帳に追加

直視型の画像表示装置において、画像信号に応じた画像光を形成する画像光形成部１０２と、その形成された画像光が当該画像表示装置から出射する出射部１４８との間における光路上に、瞳孔１２の位置と光学的に共役な瞳孔共役位置を設定し、その瞳孔共役位置と実質的に同じ位置に多焦点レンズ１６０を設置する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern having a large depth of focus (DOF), small line width roughness (LWR) and reduced bridge defects, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly integrated and accurate electronic device, and to provide a chemical amplification resist composition used in the method and a resist film formed from the chemical amplification resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

The image projection device includes the color illuminator, a 2nd focusing lens to focus the incident light again, a light uniformizing means to make the light passing through the scroll means uniform light, an image forming means to form an image from the light made incident through the light uniformizing means and a projection lens unit to enlarge and project the image formed by the image forming means to a screen.例文帳に追加

さらに、前記のカラー照明装置と、入射光を再集束させる第２集束レンズと、スクロール手段を経た光を均一光とする光均一手段と、光均一手段を介して入射された光から画像を生成する画像生成手段と、画像生成手段で生成された画像をスクリーンに拡大投射させる投射レンズユニットとを含むことを特徴とする画像投射装置である。 - 特許庁

The encapsulated retroreflective sheet is composed of: at least a surface protective layer; glass spheres; a retaining layer which retains the glass spheres; a focus-forming layer; and a mirror surface reflection layer, wherein the retaining layer is colored with a colorant selected from ultraviolet ray emission colorant or light accumulation colorant.例文帳に追加

少なくとも表面保護層、硝子球、該硝子球を保持する保持層、焦点形成層、及び鏡面反射層からなる封入レンズ型再帰反射シートにおいて、該保持層が紫外線発光着色剤または蓄光着色剤から選ばれる着色剤で着色されていることを特徴とする再帰反射シート。 - 特許庁

Thus, even when the optical box 21 is positionally arranged at the reference irradiating position and positioned on the frame 22 by a positioning means, the image- forming point of the laser beam is moved on the tangential plane T, so that focus fluctuation on the drum 17 at the positioning position of the optical box 21 is not caused.例文帳に追加

これによって、光学箱２１を基準照射位置へ位置調整を行って、位置決め手段で本体フレーム２２に位置決めしても、レーザー光束の結像点が接平面Ｔ内で移動することになるために、光学箱２１の位置決め位置における感光体ドラム１７上でのピント変動が生ずることはない。 - 特許庁

To obtain a radiation sensitive resin composition effectively sensitive to various radiations, having high sensitivity, also having satisfactory resolution and focus latitude in various patterns including dense lines, isolated lines and contact holes, particularly in a line pattern and capable of forming a minute pattern with low surface roughness.例文帳に追加

各種の放射線に有効に感応し、高感度であり、かつ密集ライン、孤立ライン、コンタクトホール等を含む種々のパターンで、とりわけライン系パターンにおいて、十分な解像度とフォーカス余裕度を有し、さらに膜面荒れの小さい微細パターンを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To reduce the reflection loss and improve the signal to nose ratio by focusing a measuring light near on a movable plate mirror set at specified inclination angle to reflect toward an object to be measured and forming an image of the measuring light focus on the object, thereby simplify the adjustment and avoiding the parasitic reflection.例文帳に追加

計測光の光路が簡単に確認および調整でき、また種々の構成部に現れる寄生的反射を容易に回避でき、その上計測光路内の反射損失が少なく、それにより信号対雑音比の関係も改善される、可干渉性動的焦点に基づく調整容易な光学コヒーレンストモグラフィー法 - 特許庁

The illuminator comprises a diffraction optical element forming a light pattern having a desired illuminance distribution on a predetermined plane by using the luminous flux from a light source, and a focus optical system for projecting the light pattern formed on the plane on a prescribed plane wherein the image formation optical system has a variable magnification.例文帳に追加

照明装置において、光源からの光束を用いて所望の照度分布を持つ光パターンを予め決めた平面に形成する回折光学素子と、該平面に形成される前記光パターンを所定の平面に投影する結像光学系とを有し、該結像光学系は倍率が可変であることを特徴とするようにする。 - 特許庁

To provide a lens defect inspection device capable of forming many parallel light sources having prescribed angles by the use of an illumination means comprising surface illuminations and a louver layer, setting most suitably a focus position of an imaging means, imaging accurately a defect on a lens appearance by the imaging means, and automating inspection.例文帳に追加

面照明とルーバー層からなる照明手段の使用により所定の角度を持った平行光源を多数形成できると共に、撮像手段のフォーカス位置を最適に設定し、レンズの外観上の欠陥を撮像手段で精度良く撮像して検査の自動化を図ることが可能なレンズ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation sensitive resin composition superior in line width roughness (LWR), depth of focus (DOP) and pattern profile, so as to more stably form a high-precision minute pattern for manufacturing a highly integrated high-precision electronic device, and to provide a method of forming a pattern using the same.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(ＬＷＲ)、フォーカス余裕度(ＤＯＦ)およびパターン形状に優れる感活性光線または感放射線性樹脂組成物組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the imaging apparatus, focus detection of a phase difference detection system (phase difference AF) is performed (ST8 and ST9) by forming a pair of image trains based on a charge signal obtained from the respective photoelectric conversion parts of the divided G pixel to receive subject luminous flux passing through a pair of partial areas in the exit pupil of a photographic lens.例文帳に追加

この撮像装置では、撮影レンズの射出瞳における一対の部分領域を通過した被写体光束を受光する分割Ｇ画素の各光電変換部から得られる電荷信号に基づき一対の像列を生成して、位相差検出方式の焦点検出(位相差ＡＦ)が行われる。 - 特許庁

In this case, the ordinary light Lo and extraordinary light Le which are separated and converged in the vertical scanning direction (shown by arrow Y) of the recording film F are put together to form a focus point having a nearly rectangular intensity distribution, thereby forming an image which is free of unevenness in the vertical scanning direction (shown by arrow Y).例文帳に追加

この場合、記録フイルムＦの副走査方向（矢印Ｙ方向）に分離して集光された常光Ｌｏおよび異常光Ｌｅが合成されることで、略矩形状の強度分布を有する集光点が形成され、副走査方向（矢印Ｙ方向）にむらのない画像を形成することができる。 - 特許庁

To provide an exposure device for an optical master plate capable of easily and safely adjusting the optical axis of an exposure optical system and detection focus deviation accurately with high precision even when an exposure light and an ultraviolet laser beam are used for forming a microgroove.例文帳に追加

本発明は、微細溝を形成するために露光光として紫外レーザ光を用いる場合であっても、露光光学系の光軸調整を容易かつ安全に行うことが可能であると共に、正確かつ高精度にフォーカスずれを検出することが可能な光ディスク原盤の露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition superior in sensitivity and resolution, showing small optical proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern, even in the case of an isolated line pattern, capable of ensuring sufficient focus margin for an isolated line pattern, and useful as a chemically amplified resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、化学増幅型レジストとして有用なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a projection optical system which has the focus position less varied and allows a deep focal depth to be secured and to provide an exposure device and a method of forming a circuit pattern which allow a minute pattern to be faithfully and efficiently formed by providing the projection optical system.例文帳に追加

合焦位置変動が少なく実質的に深い焦点深度を確保することができる投影光学系を提供するとともに、当該投影光学系を備えることで微細なパターンを忠実に且つ効率的に形成することができる露光装置及び回路パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an optical scanner by which high-definition printing is obtained a simple constitution by suppressing deviation in an image formation position in a main scanning direction due to wavelength fluctuation or/and the divergence of focus (specially image surface curvature movement in a subscanning direction) in the subscanning direction associated with environmental fluctuation and a color image forming device using it.例文帳に追加

波長変動による主走査方向の結像位置ずれ又は／及び環境変動に伴なう副走査方向のピントズレ（特に副走査方向の像面湾曲移動）を抑え、簡易な構成で高精細な印字を得ることができる光走査装置及びそれを用いたカラー画像形成装置を得ること。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor includes steps of: supervising the variation of the pattern dimension whenever the pattern forming is performed to a plurality of wafers 14, measuring the light exposure/focal permission region from the monitor result, and sequentially updating the center of its light exposure/focal permission region as a new target value over the light exposure and the focus.例文帳に追加

複数枚のウェーハ１４に対するパターン形成が実行されるごとにパターン寸法の変動を監視し、その監視結果から露光量・フォーカス許容領域を求め、その露光量・フォーカス許容領域の中心を露光量およびフォーカスに対する新たな目標値として逐次に更新していく。 - 特許庁

An electron beam source is made by forming the cathode K and a first control electrode G1 on the same plane in parallel with the rear face substrate SUB 1 on a rear face substrate SUB 1, and the image display of the high brightness is obtained by installing a second control electrode G2 to focus electrons taken out of this electron beam source.例文帳に追加

背面基板ＳＵＢ１上に、陰極Ｋと第１の制御電極Ｇ１を該背面基板ＳＵＢ１と平行な同一平面上に形成して電子線源とし、この電子線源から取り出される電子を集束する第２の制御電極Ｇ２を設けることにより、高輝度の画像表示を得る。 - 特許庁

To obtain a scanning optical device in which a clear and bright image is obtained by preventing the deterioration of an image caused by the stray light of unwanted diffracted light beams by setting the image formation state of the stray light of the unwanted diffracted light beams caused by a diffraction surface an out-of- focus state on a surface to be scanned and an image forming apparatus using it.例文帳に追加

回折面によって生じる不要回折光の迷光の結像状態を被走査面上でピンぼけ状態にすることにより、該不要回折光の迷光により生じる画像の劣化を防止し、クリアで鮮明なる画像を得ることができる走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を得ること。 - 特許庁

The second reflecting plate 30 is provided near a focus F2 of a curved surface E2 forming the reflective face of a first reflecting plate 22, whereby most part of the reflected light reflected by the first reflecting plate 22 and the illumination light from the light source 21 are reflected toward a mounted part 11 by the second reflecting plate 30.例文帳に追加

また、第２の反射板３０を第１の反射板２２の反射面を形成する曲面Ｅ２の焦点Ｆ２近傍に設けたので、第１の反射板２２により反射した反射光の大部分と、光源２１からの照射光は、第２の反射板３０によって被取付部１１の方向へ反射される。 - 特許庁

An image signal processing circuit 12 calculates a first evaluated value for the focus adjustment of an image-forming optical system, based on the image signal of a first area in a picked-up image, and also calculates a second evaluated value, based on the image signal of a second area included in the first area and made smaller than the first area.例文帳に追加

画像信号処理回路１２は、撮像画像中の第１領域の画像信号に基づいて結像光学系の焦点調節用の第１の評価値を算出すると共に、第１領域内に含まれる第１領域よりも小さい第２領域の画像信号に基づいて第２の評価値を算出する。 - 特許庁

In an image reading apparatus including: a visible light and infrared ray illumination means; an image forming means; an optical path length revision means; a focus means; a photo detection means; and a storage means, the optical path length revision means revises an optical path length so as to nearly match the image magnification of the infrared ray with that of the visible light.例文帳に追加

可視光と赤外光の照明手段、結像手段、光路長変更手段、合焦手段、光検出手段、記憶手段を有する画像読み取り装置において、赤外光と可視光での像倍率をほぼ一致させるように光路長変更手段により、光路長を変更させる。 - 特許庁

The X-ray tube 30 includes an anode target 35 having a target surface 35b, a cathode 36 for making an electron beam be incident on the target surface from a first direction d1 along a first plane S1 and forming a focus F on the target surface, and a vacuum envelope 31 having the X-ray radiation window 33 positioned in a second direction d2 along a second plane S2.例文帳に追加

Ｘ線管３０は、ターゲット面３５ｂを有した陽極ターゲット３５と、第１平面Ｓ１に沿った第１方向ｄ１からターゲット面に電子ビームを入射させ、ターゲット面に焦点Ｆを形成する陰極３６と、第２平面Ｓ２に沿った第２方向ｄ２に位置したＸ線放射窓３３を有した真空外囲器３１とを具備している。 - 特許庁

To select an analysis region, using a technique capable of grasping the shape of a sample face by a scanning atom probe(SAP), to focus electric field in a small range formed between the sample and an extraction electrode, using an extraction electrode working technique capable of forming a micro fine funnel-like shape, and to analize only a specified protrusion in the sample.例文帳に追加

走査型アトムプローブ(ＳＡＰ)により、試料面の形状が把握できる技術によって、分析領域の選定を行い、微細な漏斗型形状の形成が可能な引出し電極加工技術で、試料と該引出し電極間に形成される電場を狭い範囲に集中し、試料の特定の突起のみを分析する走査型アトムプローブ装置を提供する。 - 特許庁

The image pickup unit is provided with: a photoelectric conversion means that converts an optical image formed through an optical lens into an electric image signal; a gain change means that changes the gain at photoelectric conversion by the photoelectric conversion means; and an adjustment means that acts on the optical lens to focus an optical image onto an image forming face of the photoelectric conversion means.例文帳に追加

光学的レンズを通して結像された光画像を電気画像信号に変換する光電変換手段と、光電変換手段による光電変換時のゲインを変更するゲイン変更手段と、光学的レンズに作用して光電変換手段の結像面に光画像を合焦させるための調整手段とを備える。 - 特許庁

In this antenna device, the number of radiation elements constituting a feeding linear array 13, is reduced by forming the cross section shape of a dielectric lens 14 whose dielectric constant is constant into a convergent lens shape which has a focus and where a center part is thicker than an edge, and the lens 14 and arrays 13 are arranged slantly to rotate them mechanically around the axis along a zenith direction.例文帳に追加

誘電体レンズ１４の断面形状を端よりも中心で厚い収束系レンズ形状とすることによって、給電リニアアレー１３を構成している放射素子数を低減し、かつ、上記誘電体レンズ１４および上記給電リニアアレー１３を傾けて設置して天頂方向に沿う軸の周りで機械的に回転させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity and resolution, having a small light proximity effect, capable of accurately and stably forming a fine pattern even in an isolated line pattern, capable of ensuring a sufficient focus margin for the isolated line pattern and useful as a positive type or negative type chemical amplification type resist.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、かつ光近接効果が小さく、孤立ラインパターンおいても微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができ、しかも孤立ラインパターンに対して十分なフォーカス余裕度を確保しうる、ポジ型あるいはネガ型の化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the photovoltaic device comprises processes of: forming a film having an anti-etching property on a silicon substrate; irradiating the film with laser light whose focus depth is adjusted to 10 μm or above to form a plurality of fine holes in the film to expose the surface of the base silicon substrate; and etching the surface of the silicon substrate.例文帳に追加

光起電力装置の製造方法は、シリコン基板上に耐エッチング性を有する膜を形成する工程と、焦点深度が１０μｍ以上に調整されたレーザ光を照射することにより上記膜に複数の微細孔を開けて下地のシリコン基板表面を露出する工程と、上記シリコン基板の表面をエッチングする工程と、を含む。 - 特許庁

In the structure, a shutter 20 composed of distributed liquid crystal elements is arranged between a lens-barrel 16 housing a plurality of lenses 12, 14 and 15 and a diaphragm 13 and having the capability of an auto focus function, and an image-forming member 19 comprising a solid-state image sensor such as a CCD, and the distributed liquid crystal elements are provided with an IR-cut filter.例文帳に追加

複数のレンズ１２、１４、１５と絞り１３を収納してオートフォーカス機能の働きを持つ鏡筒１６とＣＣＤなどの固体撮像素子からなる結像部材１９との間に分散型液晶素子でもって構成したシャッター２０を配置し、この分散型液晶素子にＩＲカットフィルターを設けた構造にする。 - 特許庁