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PL 法の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 48



例文

Corporate risk rose due to the establishment of PL (Product Liability) law.例文帳に追加

PL法の制定により、企業リスクが高まった。 - Weblio英語基本例文集

After specifying the coronal image data CI_h-CI_m, a segmentation method or the like is applied, and the candidate points PL_h-PL_m of the lower end of the liver are determined for each of the coronal image data CI_h-CI_m.例文帳に追加

コロナル画像データCI_h〜CI_mを特定したら、セグメンテーション法などを適用して、コロナル画像データCI_h〜CI_mごとに、肝臓の下端の候補点PL_h〜PL_mを決定する。 - 特許庁

The ink jet recording method comprises printing to a coated paper by an ink jet ink comprising a non-volatile component of at least 10 mass% and less than 50 mass% and having a droplet volume of at least 0.1 pL and not more than 0.5 pL.例文帳に追加

不揮発成分が10質量%以上、50質量%未満であるインクジェットインクを、液滴量として0.1pL以上、0.5pL以下で印刷用塗工紙に印字することを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nitride semiconductor light emitting element capable of stably obtaining high PL emission intensity.例文帳に追加

高いPL発光強度を安定して得ることが可能な窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a production method of surface-emitting semiconductor laser for correctly finding out the PL spectrum of an active layer of the surface-emitting semiconductor laser.例文帳に追加

面発光半導体レーザの活性層のPLスペクトルを正確に知ることができる面発光半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a manufacturing method of a group III-V compound semiconductor substrate, capable of improving the PL strength of the group III-V compound semiconductor substrate.例文帳に追加

III−V族化合物半導体基板のPL強度を向上できるIII−V族化合物半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Lastly, the non-aqueous ink is discharged on the recording sheet in quantity V_d(pl/m^2) satisfying the condition of formula (V_d≤V_I) by the inkjet method.例文帳に追加

最後に、非水系インクを、数式(V_d≦V_I)の条件を満たす量V_d(pl/m^2)で、インクジェット法により前記記録用紙に吐出する。 - 特許庁

To determine an objective criteria in covering expenses incurred for the exchange or repair of an article to be borne by a manufacturer in accordance with a PL(Product Liability) law by insurance.例文帳に追加

PL法で製造者が負担する物品の交換や修理等で発生した費用を保険で補填する場合の客観的な基準を決める。 - 特許庁

Then the protective film PL is left only in a hollow H1 in, for example, a CMP(chemical-mechanical polishing) method, and with it as a cover, the wiring film 7 is etched isotropically.例文帳に追加

その後、例えばCMP法により空隙H1にのみ保護膜PLを残し、それをカバーとして配線膜7を等方性エッチングする。 - 特許庁

例文

To provide a method for manufacturing a resin molding in which the molding having an undercut can be inexpensively molded without forming a PL.例文帳に追加

アンダーカットのある樹脂成形品を、PLが形成されず且つ低コストで成形できる樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

In the method for producing the aromatic polycarbonate comprising a diphenyl carbonate production step, a bisphenol A production step, and an aromatic polycarbonate production step, the PL distillation residue resulting from the PL distillation step is sent to a DPC distillation step.例文帳に追加

ジフェニルカーボネート製造工程、ビスフェノールA製造工程、芳香族ポリカーボネート製造工程を含む、芳香族ポリカーボネートの製造方法において、PL蒸留工程で生じるPL蒸留残渣を、DPC蒸留工程に送ることを特徴とする。 - 特許庁

An approximated straight line AL is found from the data on the displaced state of the designed surface by a least-squares method, perpendicular lines PL are drawn from respective measuring points on the displaced state of the rear face to the straight line AL, and the lengths of the perpendicular lines PL are regarded as the thicknesses of the skin.例文帳に追加

意匠面の変位状態のデータから最小二乗法により近似直線ALを求め、その近似直線ALに対して裏面の変位状態の各計測点から垂線PLを引き、その垂線PLの長さをもって表皮の厚さとする。 - 特許庁

To maintain the production efficiency of a PC as a whole by limiting the water content of byproduct PL produced in the PC production process as a method for dealing with byproduct phenol to maintain the production efficiency of a BPA production process and DPC production process where the byproduct PL is returned.例文帳に追加

副生フェノールの対処法として、PC製造工程において生じる副生PLの含水率を所定範囲内に限定することにより、送られるBPA製造工程及びDPC製造工程での製造効率を保持し、全体として、PCの製造効率を保持することを目的とする。 - 特許庁

In this method, a low limit position PL of the piston 18, below which the cylinder wall 26 will get wet by the fuel jet from the injector 20, is found, an actual position of the piston 18 with respect to the low limit position PL is specified, and a fuel injection parameter is regulated in compliance with the actual position of the piston 18 to the low limit position PL.例文帳に追加

本発明によれば、本方法は、下限位置PLよりも下方のシリンダの壁26がインジェクタ20からの燃料ジェットで濡れるであろうピストン18の下限位置PLを求めることと、このピストン18の実際の位置を求めることと、下限位置PLに対するピストン18のこの実際の位置を特定することと、下限位置PLに対するピストン18の実際の位置に応じて燃料噴射パラメータを調節することとからなる。 - 特許庁

Furthermore, a unit lattice being a minute three-dimensional area is set around an attention focused position on the standard plane PL, and a finite difference method is substituted for a differential operation about the attention focused position by using a plurality of original data sets in the unit lattice on the standard plane PL, thereby obtaining a component of the velocity gradient tensor at the attention focused position.例文帳に追加

さらに、基準平面PLの上の着目位置の周囲に3次元の微小領域である単位格子を設定し、単位格子内における基準平面PLの上の複数個の原データを用いて着目位置に関する微分演算を有限差分法で代用することにより着目位置の速度勾配テンソルの成分を求める。 - 特許庁

Further, the groove part DH is formed on the dry film 14 on a pattern inclusion layer PL by the photolithography method by which the back face 11r of the glass substrate 11 is exposed to light by using the pattern inclusion layer PL composed of the residual part of the gold 15 and the dry film 14 as a mask, and further the gold 15 is imbedded to the groove part DH.例文帳に追加

さらに、この金15とドライフィルム14の残部から成るパターン含有層PLをマスクとし、ガラス基板11の裏面11rから露光するフォトリソグラフィー法で、このパターン含有層PL上のドライフィルム14に溝部DHを形成し、さらに金15でその溝部DHを埋める。 - 特許庁

To provide a hollow phosphor with a small impurity content and good PL characteristics, and a method for producing the hollow phosphor simply by few production processes without requiring a surplus raw material.例文帳に追加

不純物が少なくPL特性のよい中空状蛍光体、製造工程が少なく簡単な中空状蛍光体の製造方法、及び、余分な原料の不要な中空状蛍光体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The arrangement pitches PL are selected correspondently to the widthwise dimension S and the arrangement pitches PS are selected correspondently to the lengthwise dimension L.例文帳に追加

長辺方向配列ピッチPLは短辺方向寸法Sに応じて選択され、かつ、短辺方向配列ピッチPSは長辺方向寸法Lに応じて選択されている。 - 特許庁

In the ink jet image recording method, ink containing a phthalocyanine dye having a specific structure is ejected on a recording material as ink drops so that a jet drop volume becomes 0.1-100 pl.例文帳に追加

特定構造のフタロシアニン染料を含有したインクを、記録材料上に0.1pl以上100pl以下の打滴体積で打滴することを特徴とするインクジェット画像記録方法。 - 特許庁

The method of adjusting the aligner has a projection optical system (PL) for forming the pattern image of a reticle (R) illuminated by pulse emission laser beams on a photosensitive substrate (W).例文帳に追加

パルス発光のレーザー光により照明されたレチクル(R)のパターン像を感光性基板(W)に形成する投影光学系(PL)を備えた露光装置の調整方法。 - 特許庁

In an ink-jet recording method, an ink containing at least a coloring material, a water-soluble organic solvent, a surfactant, and water is used in a dropping quantity of 20 pl or below for printing.例文帳に追加

少なくとも、色材と、水溶性有機溶媒と、界面活性剤と、水と、を含有し、下記(A)〜(C)の条件を満たすインクを、20pl以下のドロップ量で印字することを特徴とするインクジェット記録方法である。 - 特許庁

There are provided a manufacturing method for the hub for positioning a parting line PL of slide types 20, 21 at the rear face 5a of each of the brake disc mounting sections 5, and a wheel equipped with the hub.例文帳に追加

そして、スライド型20,21のパーティングラインPLを、ブレーキディスク取付け部5の背面5aに位置させるハブの製造方法および該ハブを備えるホイール。 - 特許庁

A die (5) is molded from a hot-melting material by using a hot-melder so as to mold directly a seal (7) on a substrate plate etc., whereby a production time and cost can be reduced and an action for PL law can be conducted.例文帳に追加

ホットメルダーを用いて、ホットメルト材で、金型(5)成型を行い、基板等に直接シール(7)を成形し、生産時間・コストの削減、又、PL法対策のできる技術を特徴とします。 - 特許庁

To precisely discharge a minute amount of a sub pl-fl order of a solution by a simple structure on a minute solution discharge member, a minute solution discharge device and a minute solution discharge method.例文帳に追加

微少溶液吐出部材、微少溶液吐出装置、及び、微少溶液吐出方法に関し、簡単な構成によりサブpl〜flオーダーの微少量の溶液を精度良く吐出する。 - 特許庁

To provide a method for producing an aromatic polycarbonate with which a PL distillation residue is sent to a specific site, effective ingredients contained therein are completely utilized, the overall efficiency is improved, and the environmental burden is reduced.例文帳に追加

PL蒸留残渣を所定の場所に送り、これらに含まれる有効成分を完全利用し、全体の効率が向上させることができ、かつ、環境負荷を低減させることができる芳香族ポリカーボネートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To compatibly achieve controllability by setting a high target lower limit pressure PL and relief performance by setting a low target upper limit pressure PH without increasing the axial size of a solenoid valve.例文帳に追加

目標下限圧PLを高く設定して制御性を確保することと、目標上限圧PHを低く設定して、リリーフ性能を確保することの両立を図ることを、電磁弁の軸方向寸法を大きくすることなく達成すること。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系(PL)の物体面に設置されたマスク(M)のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板(W)上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

To provide a method and a device for moving fluid in which various kinds of fluid can be moved at a specified velocity from an ultramicro quantity of pl level to micro quantity of ml level regardless of the physical properties of the fluid.例文帳に追加

多様な種類の流体を流体の物理的性質にかかわらずにpl水準の極微量からml水準の微量まで所定速度で移動させることができる流体移動方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

Alternately, grid structure of the photonick crystal 20 is tetragonal lattice or rectangular lattice and one out of pl, pm, pg or cm in a classification method of 2-dimensional pattern.例文帳に追加

あるいは、フォトニック結晶20の格子構造は正方格子又は直交格子であり、2次元文様の分類方法でp1、pm、pg又はcmのいずれかである。 - 特許庁

The plurality of used reaction pipes each have a diameter D in a range of D≤0.3R, where R is a distance between a virtual center line PL and an inner peripheral wall face 3.例文帳に追加

仮想中心線PLと内周壁面3との間の距離をRとしたときに、複数の反応管としてその直径寸法DがD≦0.3Rの範囲に入るものを用いる。 - 特許庁

In the inkjet recording method, the ink having the colorant density of 8-20 mass% is employed for recording onto a recording paper by the amount of ink droplets of 0.10-0.50 pl.例文帳に追加

色材濃度が8〜20質量%のインクを、インク液滴量0.10〜0.50plで記録用紙に記録することを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a fluorescent substance by which the ternary sulfide fluorescent substance having high brightness and high efficiency for PL or EL can be produced; and to provide the fluorescent substance produced by the method.例文帳に追加

PL用およびEL用として高輝度、高効率な3元系硫化物蛍光体を得ることができる蛍光体の製造方法およびそれにより製造された蛍光体を提供する。 - 特許庁

To provide a simpler and highly-accurate PL quantum yield measurement method on a light emitting material and its device with measurement time shortened and measurement accuracy enhanced by using an integrating sphere, and with a calibration method used with uncertain assumption excluded therefrom in absolute sensitivity calibration on the whole of a measuring instrument.例文帳に追加

積分球を使用することにより測定時間の短縮および測定精度の向上を図り、かつ測定装置全体の絶対感度校正において不確かな仮定を排除した校正方法を用いることにより、より簡便で高精度な発光材料のPL量子収率測定方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for vapor growth which is capable of growing well-reproductively an epitaxial layer of a compound semiconductor such as InGaAsP on a semiconductor substrate such as InP in a desired element composition and of manufacturing stably a semiconductor element with a definite PL wavelength.例文帳に追加

InP等の半導体基板上にInGaAsP等の化合物半導体からなるエピタキシャル層を所望の元素組成で再現性よく成長させ、一定のPL波長を有する半導体素子を安定して製造することのできる気相成長方法を提供する。 - 特許庁

In a plane normal to a bus line of the cylindrical surface, directions Cr, Cl with the highest contrast at both end parts Pr, Pl of the display surface S are inclined to the outside with respect to directions Nr, Nl normal to the display surface S when seen from a center part Pc of the display surface S.例文帳に追加

この柱面の母線と直交する平面内では、表示面Sの両端部Pr・Plにおいて、コントラストの最も高くなる方向Cr・Clが、表示面Sの法線方向Nr・Nlに対して表示面Sの中央部Pcからみて外側に傾いている。 - 特許庁

To provide a method of measuring impurity concentration in a substrate improved so that the three-dimensional distribution of impurity density can easily, inexpensively and nondistructively be measured by using a PL intensity measuring instrument capable of measuring an optional place inside of a substrate.例文帳に追加

基板内部の任意の場所を測定できるPL強度測定装置を用い、簡便、低コスト、非破壊で不純物濃度の3次元分布を測定できるように改良された基板中の不純物濃度測定方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁

A photodetector, which aims at executing this light-detecting method is constituted by arranging the photodetecting means (a) which can detect light rays having wavelengths in the range of 650-750 nm is arranged, so that the means (a) can receive the PL light ray L2 emitted from the crystal 1.例文帳に追加

本発明の光検出装置は、この光検出方法を実施するための装置であって、波長650nm〜750nmの光を検出し得る光検出手段aを、サファイア結晶1から発せられるPL光L2を受光し得るように配置したものである。 - 特許庁

This manufacturing method of the slurry for texture processing a magnetic recording medium adds a diamond dispersed acid liquid containing diamond grain abrasives to a coolant containing higher fatty acid, wherein the diamond dispersed liquid is added in droplets of 100 pL or less in volume.例文帳に追加

高級脂肪酸を含むクーラントに対して、ダイアモンド砥粒を含む酸性のダイアモンド分散液を添加する際に、ダイアモンド分散液が体積100pL以下の液滴として添加されることを特徴とする磁気記録媒体のテクスチャー加工用スラリーの製造方法。 - 特許庁

In the exposure method which exposes a substrate P by radiating exposure light on a substrate P via a projection optics system PL and liquid LQ, affinity to the liquid LQ on the surface of the substrate P is set so as to reduce force in which the liquid LQ on the substrate P exerts on the substrate P.例文帳に追加

投影光学系PLと液体LQとを介して基板P上に露光光を照射して基板Pを露光する露光方法において、基板P上の液体LQが基板Pに及ぼす力が低減されるように、基板Pの表面の液体LQに対する親和性を設定する。 - 特許庁

The method for inkjet recording uses a UV-curable ink comprising a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator and a UV-absorbing agent, and fixes the ink deposited by irradiating it with ultraviolet rays, is characterized by making the size of droplets of the ink20 pL, and recording the image by an interleave manner which forms the image by multiple scannings.例文帳に追加

光重合性モノマー、光重合開始剤及び紫外線吸収剤を含有する紫外線硬化型のインクを用い、紫外線を照射することで着弾した該インクを定着させるインクジェット記録方法であって、該インクの液滴サイズを20pl以下とし、複数回の走査により画像を形成するインターリーブ方式で画像記録することを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

In the ink jet recording method where recording is performed by ejecting ink containing at least fine resin particles, a water soluble dye, water and a water soluble organic solvent toward an ink jet recording medium provided with a layer having an air gap structure on a support, the quantity of ink liquid per single ejecting operation is set in the range of 0.5-3.0 pl (pico liter).例文帳に追加

支持体上に、空隙構造を有する層を設けたインクジェット記録媒体に、少なくとも樹脂微粒子、水溶性染料、水及び水溶性有機溶媒を含有するインクを吐出させて記録するインクジェット記録方法であって、一吐出動作当たりのインク液滴量が0.5〜3.0pl(ピコリットル)であることを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

In the ink jet recording method by which the ink is discharged, in the form of micro-liquid droplets from a recording head, it is characterized in that the ink to be discharged contains carbon black having 15 wt.% or less volatile component content and 100 m2/g or more nitrogen adsorption specific surface area, a dispersant and a solvent and the volume of the micro-liquid droplets is 6 pl or less.例文帳に追加

記録ヘッドよりインクを微小液滴として吐出するインクジェット記録方法において、吐出する該インクが、揮発成分の含有量が15質量%以下であり、且つ、窒素吸着比表面積が100m^2/g以上であるカーボンブラックと分散剤及び溶媒を含有し、該微小液滴の体積が6pl以下であることを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁

The image recording method displays an image by producing drops of an image display recording liquid comprising water and water insoluble fine particles depending on a print pulse and then moving the liquid drops onto the surface of a recording medium wherein the image display recording liquid is ejected from the free surface thereof to produce liquid drops having size of 0.1-5 pl.例文帳に追加

少なくとも、水、及び、水に不溶の微粒子を含む画像表示記録液を印字パルスに応じて液滴化した後、記録媒体表面に移動させることにより画像を表示する画像記録方法であって、前記液滴化が、画像表示記録液を、該画像表示記録液の自由表面から噴射することにより、0.1〜5plの液滴サイズとなるように行われることを特徴とする画像記録方法である。 - 特許庁

In a method for manufacturing an aligner, a reticle R1 held by a reticle stage system RST is illuminated via illumination systems IL1, IL2 with exposed lights from an exposure light source 16, and images of a pattern of the reticle R1 are projected on a wafer W1 held by a wafer stage system WST via a projection optical system PL.例文帳に追加

露光光源16からの露光光で、照明系IL1,IL2を介してレチクルステージ系RSTに保持されているレチクルR1を照明し、レチクルR1のパターンの像を投影光学系PLを介してウエハステージ系WSTに保持されているウエハW1上に投影する露光装置の製造方法である。 - 特許庁

In the ink used in an inkjet printing method comprising injecting an ink onto a base material to a droplet size of10 pl, and then polymerizing, curing, and fixing the ink on the base material by irradiation with active energy rays, the ink comprises a polymerizable compound and 10-30 mass% photopolymerization initiator.例文帳に追加

10pl以下の液滴サイズでインクジェットノズルより基材上にインクを射出し、次いで活性エネルギー線を照射することにより該インクを重合、硬化、該基材に定着させるインクジェット記録方法に用いるインクにおいて、該インクが重合性化合物及び10〜30質量%の光重合開始剤を含有することを特徴とするインク。 - 特許庁

The manufacturing method of an olefinic polymer comprises processing an olefin polymer (PO-X) having as a main constitutional unit a repeat unit originated from at least one kind of the olefins selected from the olefins containing a halogen atom and having 2 to 20 carbon atoms, and a polar polymer (PL-M) containing a dissociable metal atom.例文帳に追加

また、ハロゲン原子を含有する、炭素原子数2〜20のオレフィンから選ばれる少なくとも1種以上のオレフィンに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするオレフィン重合体(PO−X)と、解離性金属原子を含んでなる極性重合体(PL−M)を処理して製造することを特徴とするオレフィン系重合体の製造方法。 - 特許庁

The image recording method displays an image by producing drops of an image display recording liquid comprising water, a coloring agent and a surfactant and satisfying following conditions depending on a print pulse and then moving the liquid drops onto the surface of a recording medium wherein the image display recording liquid is ejected from the free surface thereof to produce liquid drops having size of 0.1-5 pl.例文帳に追加

水、着色剤、及び、界面活性剤を含み、下記条件を満たす画像表示記録液を、印字パルスに応じて液滴化した後、記録媒体表面に移動させることにより画像を表示する画像記録方法であって、前記液滴化が、画像表示記録液の液滴を、該画像表示記録液の自由表面から噴射することにより、0.1〜5plの液滴サイズとなるように行われることを特徴とする画像記録方法である。 - 特許庁

例文

In the inkjet recording method for recording an image by ejecting ink from a plurality of nozzles toward a recording material, ink drops are ejected with a phase difference from adjacent nozzles when the centre distance d (μm) between adjacent nozzles among the plurality of nozzles satisfies a relation d<45×a/10 {where a is the average quantity of two ink drops (unit: pl)}.例文帳に追加

複数のノズルからインクを吐出させて被記録材に着弾させ、画像を記録するインクジェット記録方法であって、上記複数のノズルのうち、隣接するノズル間の中心距離d(μm)が、d<45×a/10(但し、aは2滴のインク滴量の平均値(単位:pl))である場合、該隣接するノズルから位相差を持たせてそれぞれインク滴を吐出させることを特徴とするインクジェット記録方法及びインクジェット記録装置。 - 特許庁

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