「PL」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

The array substrate and counter substrate have a pair of electrodes which are covered with alignment films AL respectively and opposed to define a rectangular display region DA, and the polarizing plate PL has an axis of absorption nearly parallel or nearly perpendicular to respective sides of the display region DA.例文帳に追加

アレイ基板および対向基板は配向膜ＡＬでそれぞれ覆われて矩形の表示領域ＤＡを規定するように対向した一対の電極を有し、偏光板ＰＬは表示領域ＤＡの各辺に対して略平行または略直角な吸収軸を有する。 - 特許庁

This device comprises substituting means 18, 19 and 20 for substituting at least one of optical paths for guiding a first laser beam PL and second laser beam IL to the surface of a material to be inspected 3 by a fluid easily transmitting the wavelength of a first laser beam source 1 and the wavelength of a second laser beam source 4.例文帳に追加

第１のレーザ光ＰＬと第２のレーザ光ＩＬの被検査材３表面に至る光路の少なくとも一方を、第１のレーザ光源１の波長および第２のレーザ光源４の波長が透過し易い流体で置換する置換手段１８，１９，２０を有する。 - 特許庁

A pressure receiving area on one end side of the plunger 70 to which the reverse range pressure PR is actuated is set to be larger than a pressure receiving area on the other end side of the plunger 70 to which a line pressure PL is actuated, and the plunger 70 is moved to discharge foreign matter only when the reverse range pressure PR is actuated.例文帳に追加

このリバースレンジ圧ＰＲが作用するプランジャ７０の一端側の受圧面積を、ライン圧ＰＬが作用するプランジャ７０の他端側の受圧面積よりも大きく設定し、上記リバースレンジ圧ＰＲが作用した場合に限り、プランジャ７０が移動して異物排出動作を行うようにする。 - 特許庁

An abutting portion of the pump driving rocker arm 60 on the pump cam 58 and an abutting portion of the pump driving rocker arm 60 on the input part 62 are arranged in parallel to the operating axis of the input part 62 on the same side relative to a plane PL passing through the rocking center of the pump driving rocker arm 60.例文帳に追加

ポンプ駆動用ロッカアーム６０のポンプ用カム５８への当接部と、ポンプ駆動用ロッカアーム６０の入力部６２への当接部とが、入力部６２の作動軸線と平行にしてポンプ駆動用ロッカアーム６０の揺動中心を通る平面ＰＬに対して同一側に配置される。 - 特許庁

Thereby, even when the exposure space between a substrate holder PH and a projection optical system PL is narrow in the vertical direction, the delivery of the substrate for the exposure device 10 can be performed in a wide space and the substrate can be efficiently carried to the substrate holder.例文帳に追加

これにより、基板ホルダＰＨと投影光学系ＰＬとの間の露光空間が上下方向に狭い場合であっても、露光装置１０に対する基板の受渡を広い空間で行うことが可能となり、基板ホルダに対する基板の搬送を効率的に行うことが可能となる。 - 特許庁

In the PL evaluation step, a solar cell 10 to be evaluated among a plurality of solar cells 10 is evaluated by detecting the intensity of photoluminescent light L2 emitted from the solar cell 10 through light irradiation from a light source 20 on the solar cell 10.例文帳に追加

ＰＬ評価工程は、複数の太陽電池１０のうちの評価対象の太陽電池に光源２０から光照射することにより当該太陽電池１０から発せられたフォトルミネッセンス光Ｌ２の強度を検出することにより当該太陽電池１０の評価を行う工程である。 - 特許庁

When the pattern of a reticle R is exposed to light via a projection optical system PL, the position of the reference marks 34A and 34B is detected by TTL-system reticle alignment microscopes 5A and 5B, and a wafer stage 23A is driven based on the detection result and the relative position being obtained before.例文帳に追加

レチクルＲ１のパターンを投影光学系ＰＬを介して露光する際には、ＴＴＬ方式のレチクルアライメント顕微鏡５Ａ，５Ｂによって基準マーク３４Ａ，３４Ｂの位置を検出し、この検出結果と先に求めた相対位置とに基づいてウエハステージ２３Ａを駆動する。 - 特許庁

When the light source unit 20 is turned clockwise or counterclockwise around its center section at the approximately same angle θ, the light-distributing patterns P are switched to the light-distributing pattern PL for left-side traveling and the light-distributing pattern PR for right-side traveling in left-right symmetry.例文帳に追加

光源ユニット２０を、その中心部分を中心に時計回り、または反時計回りに略同一の角度θに回動すると、配光パターンＰが左側走行用配光パターンＰＬと、右側走行用配光パターンＰＲとに左右対称的に切り替えられる。 - 特許庁

In addition, the wiring board with built-in capacitor includes a power source line PL for electrically connecting a power source pad for supplying power to the IC chip and each of the upper electrodes 142 and 242, and a ground line GL for electrically connecting a ground pad and each of the lower electrodes 141 and 241.例文帳に追加

また、コンデンサ内蔵配線基板は、ＩＣチップに電源を供給する電源パッドと各上部電極１４２，２４２とを電気的に接続する電源ラインＰＬと、グランドパッドと各下部電極１４１，２４１とを電気的に接続するグランドラインＧＬとを備えている。 - 特許庁

The vehicular drive unit includes: an inverter 20 that is connected between a positive electrode bus line PL and a negative electrode bus line NL and drives a motor M1 by a switching operation; an electrical leak detector 70 for detecting an electrical leak in the inverter 20 or the motor M1; and a controller 30 for controlling the inverter 20.例文帳に追加

車両の駆動装置は、正極母線ＰＬと負極母線ＮＬとの間に接続され、スイッチング動作によりモータＭ１を駆動するインバータ２０と、インバータ２０またはモータＭ１の漏電を検出する漏電検出装置７０と、インバータ２０を制御する制御装置３０とを備える。 - 特許庁

The worn article includes an absorber body portion 20 including an absorbent core 25 and covering a front torso area, a crotch area and a rear torso area of a wearer, and a pair of side panels PL and PR attached to the body portion 20 and located between the front and rear torso areas when the worn article is worn.例文帳に追加

本発明の着用物品は、吸収性コア２５を有し、前胴回り域、股下域および後胴回り域を覆う吸収体本体部２０と、本体部２０に接合され、着用時に前後の胴回り域の間に位置する一対のサイドパネルＰＬ，ＰＲとを備える。 - 特許庁

When the wafer W on the fine movement stage WFS1 supported by a coarse movement stage WCS1 is exposed via a projection optical system PL with an illumination light IL at the exposure station 200, the position of the fine movement stage WFS1 within an XY plane is measured with good precision by a measurement system 70A.例文帳に追加

露光ステーション２００で、粗動ステージＷＣＳ１に支持された微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷが照明光ＩＬで投影光学系ＰＬを介して露光される際に、計測系７０Ａにより微動ステージＷＦＳ１のＸＹ平面内の位置を精度良く計測する。 - 特許庁

By moving the brush shutters onto the dies D indexed and positioned to machining positions and then lifting the brush shutters corresponding to the dies D (lifter pipes) to be used in machining, the brush shutters are made to enter openings 31a of a fixed table 31, and the upper edges of the brushes are aligned with a pass line PL of a work W.例文帳に追加

加工に使用するダイＤ（リフタパイプ）に対応するブラシシャッタを、加工位置に割り出し位置決めされたダイＤ上に位置させた後、上昇させることで、該ブラシシャッタを固定テーブル３１の開口部３１ａに入り込ませ、ブラシの上端をワークＷのパスラインＰＬに一致させる。 - 特許庁

Further, transmittance T of the output attenuating mechanism 50 is controlled on the basis of a signal transmitted from an exposure device 200 and indicating the target pulse energy Pt so that output energy of the laser device 1 may reach target pulse energy Pt (<target pulse energy PL) required in the exposure device 200.例文帳に追加

また、レーザ装置１の出力エネルギを、露光装置２００で要求される目標パルスエネルギＰt（＜目標パルスエネルギＰL）に一致させるべく、露光装置２００から送信された目標パルスエネルギＰtを示す信号に基づき、出力減衰機構５０の透過率Ｔを制御する。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes a substrate table WT for holding a substrate W, a projection system PL for projecting a patterned beam onto a target portion of the substrate W, and an independent reference frame MF for providing a reference surface with which the position of the substrate W is measured.例文帳に追加

基板Ｗを保持するための基板テーブルＷＴ、基板Ｗの目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムＰＬ、および基板Ｗが測定される基準面を供給するための独立基準フレームＭＦを備えるリソグラフィ装置。 - 特許庁

The film peeling conveyance device 100 is provided with an upper side belt mechanism 20 including an upstream lower belt pulley 21 arranged most nearest to a conveyance face PL of the substrate P from above and an upstream endless belt 23 wound around the upstream lower belt pulley 21 and extended upward.例文帳に追加

基板Ｐの搬送面ＰＬに上方から最も接近して配置された上流側下部ベルト車２１と、上流側下部ベルト車２１に巻き掛けられて上方に向かって延在する上流側無端ベルト２３とを含む上側ベルト機構２０を備えているフィルム剥離搬送装置１００。 - 特許庁

Additionally, the fail-safe valve 190 is switched so that the line hydraulic pressure PL is supplied to the drive side pulley 41 by an ON-OFF solenoid valve SL1 and a linear solenoid valve SLT at the time of failure of the shift hydraulic control valve 120, or a linear solenoid valve SLP controlling this.例文帳に追加

フェールセーフバルブ１９０は、変速油圧コントロールバルブ１２０のフェール時や、これを制御するリニアソレノイドバルブＳＬＰのフェール時などには、ＯＮ−ＯＦＦソレノイドバルブＳＬ１とリニアソレノイドバルブＳＬＴによってライン油圧ＰＬを駆動側プーリ４１へ供給するように切り換えられる。 - 特許庁

The design coating 3 is printed on the design surface 3 of the resin substrate 2 by ink-jet printing of liquid droplet with a volume of below 30 pl consisting of UV-hardening type coloring ink and hardening the sprayed droplet assembly by ultraviolet irradiation within one second from jetting of droplet.例文帳に追加

意匠皮膜３は、樹脂基板２の意匠面３に、ＵＶ硬化型着色インクからなる容積３０ｐｌ以下の液滴をインクジェット印刷によって印刷し、液滴の噴射から１秒以内に、噴射された液滴の集合体を紫外線照射により硬化させてなる。 - 特許庁

At least one element selected from a group of mask table MT, substrate table WT, projection system PL and isolated reference frame MF is surrounded at least partially and at least one temperature control member VC, TE, TB for controlling the temperature of the surrounded elements is included.例文帳に追加

マスクテーブルＭＴ、基板テーブルＷＴ、投影システムＰＬおよび隔離した基準フレームＭＦからなる群から選択した少なくとも１個の要素を少なくとも部分的に囲み、囲まれた要素の温度を制御する少なくとも１個の温度制御部材ＶＣ，ＴＥ，ＴＢを含む。 - 特許庁

A first pressure detector 51 and a second pressure detector 52 are installed before and after a re-heating passage 28 formed on a pre-cooling re-heater 22 of a dehumidifier 1 to output pressure values PH, PL detected by both pressure detectors 51, 52 into a controller 5.例文帳に追加

除湿装置１の予冷・再熱器２２に形成された再熱通路２８の前後に第１圧力検出器５１と第２圧力検出器５２を設置し、両圧力検出器５１，５２によって検出された圧力値ＰＨ，ＰＬをコントローラ５に出力するようにした。 - 特許庁

A measuring beam RL including an image of pin-hole PH of a test reticle Rt is controlled to be incident to the wave-front aberration measuring unit 75 to measure the wave- front aberration information of the projected optical system PL and this measuring beam RL is developed to various elements including the defocus element using the polynomial of Zernike.例文帳に追加

テストレチクルＲｔのピンホールＰＨの像を含む測定光ＲＬを波面収差測定ユニット７５に入射させ、投影光学系ＰＬの波面収差情報を測定するとともにツェルニケの多項式を用いてデフォーカス成分を含む種々の成分に展開する。 - 特許庁

An inclination SE of a graph obtained when setting a horizontal axis as displacement and a vertical axis as Pl^3/3I (I is cross-sectional secondary moment to a load direction of load P) and plotting measurement values is found out, and the elastic modulus and/or thickness of each layer of the hair is evaluated from the inclination SE.例文帳に追加

横軸を変位、縦軸をＰｌ^３／３Ｉ（Ｉは荷重Ｐの負荷方向に対する前記毛髪の断面二次モーメント）として測定値をプロットしたときのグラフの傾きＳＥを求め、その傾きＳＥから毛髪の各層の弾性率および／または厚みを評価する。 - 特許庁

An ink jet discharge element for spraying and admistering a liquid medicine and a storage tank for discharge a liquid medicine, a battery for a drive power supply and an arithmetic circuit for controlling the admistration of a liquid medicine are arranged to the frame part of glasses and an eyewash is precisely administered at a level of several pL by the foaming of a bubble jet (R).例文帳に追加

メガネのフレーム部分に、薬液噴出投与用のインクジェット吐出素子と吐出用薬液の貯蔵タンクと、駆動電源用電池、薬液投与制御用の演算回路などを配置して、バブルジェット（Ｒ）発泡により、精緻に数ｐＬのレベルで目薬を投与する構成とする。 - 特許庁

At a GPS satellite 100 and a PL transmitter 200, carrier waves in L1, L2, and L5 wave bands are modulated by an SOC modulation system and a BOC modulation system on the basis of C/A and P codes, and positioning signals up to twelve kinds are generated and emitted into space.例文帳に追加

ＧＰＳ衛星１００およびＰＬ送信機２００において、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ５波帯の搬送波をＣ／ＡコードおよびＰコードに基づきＳＯＣ変調方式、およびＢＯＣ変調方式で変調して最大で１２通りの測位信号を生成し、空間に放射する。 - 特許庁

Also, the device has a common line path transistor PT connected between a bit line BL and a supply node of the prescribed voltage, and drive circuits 5, 10A, 12 driving the memory cell by controlling each of a BL voltage, a PL voltage, a prescribed voltage, and a voltage of a control node of the common line path transistor PT.例文帳に追加

ビット線ＢＬと所定電圧の供給ノード間に接続された共通線パストランジスタＰＴと、ＢＬ電圧、ＰＬ線電圧、所定電圧、および、共通線パストランジスタＰＴの制御ノードの電圧をそれぞれ制御して、メモリセルを駆動する駆動回路５,１０Ａ,１２と、を有する。 - 特許庁

Grooves 5a and 5b for embedded wiring are formed in an inter- layer insulation film IL formed on a substrate 1, then a barrier metal film 6 and a wiring film 7 are laminated on the inter-layer insulation film IL and in the grooves 5a and 5b, and a protective film PL is formed over the whole surface of the wiring film 7.例文帳に追加

基板１上に形成された層間絶縁膜ＩＬに埋め込み配線用の溝５ａ，５ｂを形成し、次に層間絶縁膜ＩＬ上および溝５ａ，５ｂ内部にバリアメタル膜６、配線膜７を積層し、配線膜７上の全面に保護膜ＰＬを形成する。 - 特許庁

In the hydraulic control device 50, line pressure PL is set by a primary regulator 51 which uses, as a line pressure setting signal pressure, either one of pressures Pur respectively based on secondary solenoid pressure Psls from a secondary solenoid valve SLS and lock-up solenoid pressure Pslu from a lock-up solenoid valve SLU.例文帳に追加

油圧制御装置５０では、セカンダリソレノイドバルブＳＬＳからのセカンダリソレノイド圧ＰｓｌｓとロックアップソレノイドバルブＳＬＵからのロックアップソレノイド圧Ｐｓｌｕに基づく圧力Ｐｕｒとの何れか一方をライン圧設定用信号圧として用いるプライマリレギュレータバルブ５１によりライン圧ＰＬが設定される。 - 特許庁

With magnet units 22A-22C, etc., magnet units 24A and 24B, etc., and magnet units 26A and 26B, etc., a projection optical system PL, mask stage devices RST and 16, and substrate stage devices WST and 18 are supported in non-contact to a reference structure body, respectively.例文帳に追加

磁石ユニット（２２Ａ〜２２Ｃ等）、磁石ユニット（２４Ａ、２４Ｂ等）及び磁石ユニット（２６Ａ、２６Ｂ等）により、投影光学系ＰＬ、マスクステージ装置（ＲＳＴ、１６）及び基板ステージ装置（ＷＳＴ、１８）が、それぞれ基準構造体１４に対しが非接触で支持されている。 - 特許庁

Energy density measurement for receiving an energy beam LB injected from a light source 16 by the integrator sensor 46 and the reference illumination meter in a state that the reference illumination meter is arranged on an image surface (stage 58) of a projecting optical system PL is repeated while sequentially changing the dimming ratio of a dimmer 20.例文帳に追加

投影光学系ＰＬの像面（ステージ５８）上に基準照度計を配置した状態で、光源１６から射出されたエネルギビームＬＢをインテグレータセンサ４６と基準照度計とで受光するエネルギ密度計測を、減光装置２０の減光率を逐次変更しながら繰り返し行う。 - 特許庁

In a second film forming step, a reflecting film RM is formed in consideration of the incident characteristics of projection light PL and incident characteristics of outside light OL, projection light is efficiently reflected, and the reflection of the outside light OL by the reflecting film RM is suppressed.例文帳に追加

また、第２成膜工程において、投射光ＰＬの入射の特性と外光ＯＬの入射の特性とを考慮して反射膜ＲＭを形成することで、効率的な投射光の反射を行うとともに、反射膜ＲＭにおける外光ＯＬの反射を抑制するものとする。 - 特許庁

A method for manufacturing a device includes a step of placing a wafer stage 12 movably on a wafer base 14, installing a wafer table 11 for holding a wafer W on the wafer stage 12 via Z-axis actuators 13A, 13B, 13C, and transferring of a pattern of a reticle R on the wafer W via a projection optical system PL.例文帳に追加

ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。 - 特許庁

A ferroelectric transistor FYR has a ferroelectric film FF at a gate insulation film, one side of source/drain is connected to a read word line RWL, the other side of source/drain is connected to a read bit line RBL, and a well NW is connected to a plate line PL.例文帳に追加

強誘電体トランジスタＦＴＲは、ゲート絶縁膜に強誘電体膜ＦＦを有し、読み出しワード線ＲＷＬにソース／ドレインの一方が接続され、読み出しビット線ＲＢＬにソース／ドレインの他方が接続され、プレート線ＰＬにウエルＮＷが接続されている。 - 特許庁

An EL light emission distribution W_EL(x) of a luminescent layer in the organic EL element can be estimated based on fairly reliable data, for instance, measurement data I_EL(λ) of an EL spectrum, measurement data I_PL(λ) of a PL spectrum, calculation data η(λ, x) of light-taking-out efficiency.例文帳に追加

十分に信頼できる各データ、例えば、ＥＬスペクトルの測定データＩ_ＥＬ（λ），ＰＬスペクトルの測定データＩ_ＰＬ（λ），光取出し効率の算出データη（λ，ｘ）に基づいて、有機ＥＬ素子における発光層のＥＬ発光分布Ｗ_ＥＬ（ｘ）を推定することができる。 - 特許庁

The memory device includes: a memory cell MC to connect a variable cell resistor Rcell and an access transistor AT in series between a plate line PL and a bit line BL; a drive controller; a sense latch circuit 71; and a verify pass latch 74 for an inhibit control and transfer gate circuits TG1.例文帳に追加

可変セル抵抗ＲcellとアクセストランジスタＡＴをプレート線ＰＬとビット線ＢＬとの間に直列接続させているメモリセルＭＣと、駆動制御部と、センスラッチ回路７１と、インヒビット制御のためのヴェリファイパスラッチ７４およびトランスファゲート回路ＴＧ１と、を有する。 - 特許庁

In addition, the main controller 70 controls the transmission factor T of the output attenuating mechanism 50 based on a signal showing a target pulse energy Pt transmitted from an exposing apparatus 200, in order to accord the output energy of the laser apparatus 1 to the target pulse energy Pt (smaller than the target pulse energy PL) required by the exposing apparatus 200.例文帳に追加

また、レーザ装置１の出力エネルギを、露光装置２００で要求される目標パルスエネルギＰt（＜目標パルスエネルギＰL）に一致させるべく、露光装置２００から送信された目標パルスエネルギＰtを示す信号に基づき、出力減衰機構５０の透過率Ｔを制御する。 - 特許庁

In a plane normal to a bus line of the cylindrical surface, directions Cr, Cl with the highest contrast at both end parts Pr, Pl of the display surface S are inclined to the outside with respect to directions Nr, Nl normal to the display surface S when seen from a center part Pc of the display surface S.例文帳に追加

この柱面の母線と直交する平面内では、表示面Ｓの両端部Ｐｒ・Ｐｌにおいて、コントラストの最も高くなる方向Ｃｒ・Ｃｌが、表示面Ｓの法線方向Ｎｒ・Ｎｌに対して表示面Ｓの中央部Ｐｃからみて外側に傾いている。 - 特許庁

The exposure device 100 includes a cleaning light source CS which is provided on at least one of the optical members included in an illumination optical system 2 and an projection optical system PL and emits cleaning light CL to the reflection surface of the optical member from a plurality of directions.例文帳に追加

照明光学系２および投影光学系ＰＬが備える光学部材の少なくとも一つに設けられ、光学部材の反射面に対して複数の方向から、洗浄光ＣＬを射出する洗浄用光源ＣＳを備える露光装置１００を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the upper case 2 can be taken out of a mold without causing a scratch on the side surface part 11 positioned on the side of the parting line PL of the upper case 2 and deep and coarse satin patterns can be well formed on the side surface part 11 of the upper case 2.例文帳に追加

従って、上ケース２を成形用金型から取り出すときに、パーティングラインＰＬ側に位置する上ケースの側面部１１がすり傷を付けずに取り出すことができ、これにより良好に上ケース２の側面部１１に深くて粗い梨地模様を形成することができる。 - 特許庁

End-PL-equipped floor panels 21, 22, 23, 21a, 22a, 23a each comprise a floor panel part short beam 1 and a floor panel part long beam 2 arranged along two of X- and Y-axes and welded to floor panel part corner blocks 3 each having two of upper and lower horizontal end PLs 12.例文帳に追加

エンドＰＬ付き床パネル（以下床パネルと略す）２１・２２・２３、２１ａ・２２ａ・２３ａは、上下２枚の水平エンドＰＬ１２を有する床パネル部コーナーブロック（以下ブロックと略す）３にＸＹ２軸配置の床パネル部短梁１と床パネル部長梁２を溶接して構成する。 - 特許庁

An electric power path PL for backup is intercepted with the electric power switch 204 for backup, only when the detected content of the auxiliary monitoring signal OS satisfies the predetermined condition in accordance with the operation stop state on the assumption that the interception of the main electric power path IGL is detected.例文帳に追加

そして、主電力経路ＩＧＬの遮断検出を前提として、補助監視信号ＯＳの検出内容が、運転停止状態に対応した所定の条件を満たした場合にのみ、バックアップ用電源スイッチ２０４により、バックアップ用電力経路ＰＬを遮断する。 - 特許庁

The fresh air carrying passage 15 has portions where passage axes PL are close to each other toward a downstream, that is, a left side fresh air passage 17a and a right side fresh air passage 17b, and a confluent part 19 joining fresh air circulated through the fresh air passages 17a, 17b.例文帳に追加

新気搬送通路１５は、その通路軸線ＰＬが下流に向かって相接近する部分、すなわち左側新気通路１７ａ及び右側新気通路１７ｂと、それら新気通路１７ａ，１７ｂを流通した新気を合流させる合流部１９とを有する。 - 特許庁

In an exposure device which employs immersion exposure, an immersion region ALq is formed of a liquid supplied to between a wafer W and a projection optical system PL, on an upper surface of the wafer W; and a plurality of encoders 60A to 60D are disposed on a moving table holding the wafer W.例文帳に追加

液浸露光方式の露光装置において、投影光学系ＰＬとの間に供給される液体によってウエハＷ上面に液浸領域ＡＬｑが形成され、そのウエハＷを保持する移動テーブル上に、複数のエンコーダヘッド６０Ａ〜６０Ｄが配置されている。 - 特許庁

A first peripheral part of the cloth seal may include a part of the cloth assemblage 62 and/or the shim assemblage 64 in contact with the high pressure region PH, and a second peripheral part may include a part of the cloth assemblage 62 in contact with the low pressure region PL.例文帳に追加

クロスシールの第１周辺部分は、高圧領域（Ｐ_H）に接触するクロス集合体（６２）の一部及び／又はシム集合体（６４）を含むことができ、第２周辺部分は低圧領域（Ｐ_L）に接触するようにされたクロス集合体（６２）の一部を含むことができる。 - 特許庁

In the projection optical system PL, a second partial lens barrel 8 for accommodating a group G2 of lenses and a concave reflector CM is interlocked so that the projection optical system nearly orthogonally crosses a first partial lens barrel 7 for supporting a group G1 of lenses, a light path-bending mirror FM, and a group G3 of lenses.例文帳に追加

投影光学系ＰＬは、レンズ群Ｇ１、光路折り曲げ鏡ＦＭ、及びレンズ群Ｇ３を支持する第１の部分鏡筒７に対して、ほぼ直交するようにレンズ群Ｇ２及び凹面反射鏡ＣＭを収納する第２の部分鏡筒８を連結して構成されている。 - 特許庁

The head lamp device control part divides a light distribution pattern PH for a high beam, formed by light irradiation of the light source, into a plurality of regions and controls light irradiation from each of the divided individual regions PHa to PHe so as to additionally irradiate light to a light distribution pattern PL for a low beam.例文帳に追加

前照灯装置制御部は、光源の光照射によって形成されるハイビーム用配光パターンＰＨを複数に分割して、分割された個別領域ＰＨａ〜ＰＨｅについて光の照射を制御し、ロービーム用配光パターンＰＬに付加的に照射するように制御する。 - 特許庁