「PL」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a fluorescent substance by which the ternary sulfide fluorescent substance having high brightness and high efficiency for PL or EL can be produced; and to provide the fluorescent substance produced by the method.例文帳に追加

ＰＬ用およびＥＬ用として高輝度、高効率な３元系硫化物蛍光体を得ることができる蛍光体の製造方法およびそれにより製造された蛍光体を提供する。 - 特許庁

In a step 411, the logarithm likelihood PL(M) with penalty of a model M following a parameter a_jk calculated by performing an EGA arithmetic operation is calculated only from this time measurement result measured in a step 405.例文帳に追加

ステップ４１１では、ステップ４０５で計測された今回の計測結果のみによりＥＧＡ演算を行って算出されたパラメータａ_jkに従うモデルＭのペナルティ付き対数尤度ＰＬ（Ｍ）を算出する。 - 特許庁

An engine rotation speed N corresponding to the present accelerator manipulated variable Sa is obtained, while the engine rotation speed N corresponding to the present accelerator manipulated variable Sa is limited by the set maximum engine rotation speed corresponding to the present working machine load PL, and an engine adjustment means and a pump adjustment means are controlled such that the pump capacity q corresponding to the present working machine load PL is obtained.例文帳に追加

そして、現在の作業機負荷ＰLに対応する設定最大エンジン回転速度によって、現在のアクセル操作量Ｓａに対応するエンジン回転速度Ｎを制限しつつ、現在のアクセル操作量Ｓａに対応するエンジン回転速度Ｎが得られ、現在の作業機負荷ＰLに対応するポンプ容量ｑが得られるようにエンジン調整手段およびポンプ調整手段が制御される。 - 特許庁

The illuminating optical system is so positioned that its optical axis (AXi) passes the center of an illumination region on an object surface (M) and deviates from the optical axis (AXp) of a projecting optical system (PL).例文帳に追加

本発明では、照明光学装置の光軸（ＡＸｉ）が、物体面（Ｍ）での照明領域の中心を通ると共に、投影光学系（ＰＬ）の光軸（ＡＸｐ）から位置ずれするように位置決めされている。 - 特許庁

A coefficient determination unit 50 inputs a target value Tl=(Ll*, al*, bl*) on an equal color space corresponding to a certain patch Pl irradiated with a light source 22 of a predetermined class determined by a computation unit 10.例文帳に追加

係数決定部５０は、計算部１０が求めた、所定の種別の光源２２を照射したあるカラーパッチＰｌに対応する均等色空間上の目標値Ｔｌ＝（Ｌｌ^* ，ａｌ^* ，ｂｌ^* ）を入力する。 - 特許庁

Since the part adjacent to the fold-back part 75 is inclined at the predetermined angle with respect to the axial line, a filled molding material can be prevented from penetrating in the parting line PL.例文帳に追加

パーティングラインＰＬは、前記折返部７５に隣接する部分が、軸線に対して所定の角度で傾斜させられるので、パーティングラインＰＬに充填（てん）された成形材料が進入するのを防止することができる。 - 特許庁

The terminal N1 is connected to the bit lines BBL, BL through block selection transistors BST0, BST1, the terminal N2 is connected to plate lines BPL, PL, a gate of each cell transistor is connected to a word line WL.例文帳に追加

端子Ｎ１はブロック選択トランジスタＢＳＴ０，ＢＳＴ１を介してビット線ＢＢＬ，ＢＬに接続され、端子Ｎ２はプレート線ＢＰＬ，ＰＬに接続され、各セルトランジスタＴのゲートがワード線ＷＬに接続される。 - 特許庁

A projection optical system PL to be tested is a liquid-immersion type projection optical system that is designed to demonstrate a predetermined optical performance in a state where a liquid for liquid-immersion exposure is supplied to the side of an image surface.例文帳に追加

検査対象の投影光学系ＰＬは像面側に液浸露光用の液体が供給される状態で所期の光学性能を発揮するよう設計された液浸式の投影光学系である。 - 特許庁

When projecting an image having a predetermined pattern for measurement via a projection optical system PL, diffracted lights other than zeroth light L (0) and primary diffracted lights L (+1) and L (-1) are cut off using a variable aperture diaphragm AS.例文帳に追加

所定の計測用パターンの像を投影光学系ＰＬを介して投影する際に、可変開口絞りＡＳを用いて０次光Ｌ（０）、１次回折光Ｌ（＋１），Ｌ（−１）以外の回折光を遮光する。 - 特許庁

A spacer 137 is inserted from a side hole 135 communicated to a side surface of the die holder 115 onto the lower surface of the die sleeve, so the upper surface of a forming die FD is located higher than the pass line PL enabling downward forming.例文帳に追加

ダイスリーブ１２５の下面にはダイホルダ１１５の側面に連通する側穴１３５からスペーサ１３７が挿入されるので、成形ダイＦＤの上面がパスラインＰＬより上方に位置し下向き成形ができる。 - 特許庁

One inner layer cross belt 28 of a cord extended in a direction at 5-70 degree of angle against an axis crossing the equatorial plane PL extended along the circumferential direction of the crown part 18 is arranged at an inner peripheral side of the spiral belt 26.例文帳に追加

スパイラルベルト２６の内周側に、クラウン部１８の周方向に沿って延びる赤道面ＰＬと直交する軸に対して５〜７０度の角度の向きでコードが延びる内層クロスベルト２８が１枚配置される。 - 特許庁

A power line communication system includes: a first power line communication terminal 10; and a second power line communication terminal 20 connectable with the first power line communication terminal 10 via a power line PL.例文帳に追加

電力線通信システムは、第一の電力線通信端末１０と、当該第一の電力線通信端末１０と電力線ＰＬを介して接続可能な第二の電力線通信端末２０とを備えている。 - 特許庁

The programmable logic device (PLD) having one or more programmable logic (PL) regions (11) and one or more conventional input/output regions additionally has one or more peripheral areas (311-314) including specialized circuitry.例文帳に追加

１つ以上のプログラマブルロジック（ＰＬ）領域（１１）および１つ以上の従来式入力／出力領域を有するＰＬＤは、追加で特殊回路網領域を含む１つ以上の周辺エリア（３１１〜３１４）を有する。 - 特許庁

In a step 419, the value of logarithm likelihood PL(M') with penalty at the time of applying a weighted mean value a'_jk^(s) of the parameter a_jk corresponding to T_jk larger than ζ to a formula (1) is calculated by referring to a matrix T.例文帳に追加

ステップ４１９では、行列Ｔを参照し、ζより大きいＴ_jkに対応するパラメータａ_jkの重み付け平均値ａ’_jk^(s)を式（１）に適用した場合のペナルティ付き対数尤度ＰＬ（Ｍ’）の値を算出する。 - 特許庁

This side airbag device 120 inflates/deploys a main bag 122 and a sub bag 132 between the occupants PL, PS seated in a seat 10 in a vehicle cabin, and a side wall part 14 in the vehicle cabin at a collision of the vehicle.例文帳に追加

サイドエアバッグ装置１２０は、車両の衝突時に、車室内のシート１０に着座する乗員ＰＬ，ＰＳと車室内の側壁部１４との間でメインバッグ１２２及びサブバッグ１３２を膨張展開させる。 - 特許庁

To provide a hollow phosphor with a small impurity content and good PL characteristics, and a method for producing the hollow phosphor simply by few production processes without requiring a surplus raw material.例文帳に追加

不純物が少なくＰＬ特性のよい中空状蛍光体、製造工程が少なく簡単な中空状蛍光体の製造方法、及び、余分な原料の不要な中空状蛍光体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The encoded data stream is mapped in a desired arrangement, namely, in BPSK, QPSK, 8PSK, 16APSK or 32APSK in MAP 208, and a physical layer (PL) is framed in FRAME 210.例文帳に追加

エンコードされたデータストリームはＭＡＰ２０８において望みの配置、即ち、ＢＰＳＫ、ＱＰＳＫ、８ＰＳＫ、１６ＡＰＳＫまたは３２ＡＰＳＫにマップされ、物理層（ＰＬ）のフレーム化がＦＲＡＭＥ２１０において行われる。 - 特許庁

Prior to putting the wafer into the wafer process, one part of a contact layer 6 of the wafer forming a device is eliminated to form an opening 11, and an excitation laser 9 is applied from the opening 11 to perform PL wavelength inspection for the active layer 3.例文帳に追加

ウェハプロセス投入前に、デバイスを形成するウェハのコンタクト層６の一部を除去して開口部１１を形成し、開口部１１から励起レーザ９を入射して活性層３のＰＬ波長検査を行う。 - 特許庁

A mask R wherein a prescribed pattern is formed is illuminated under cross pole illumination conditions, a wafer W is exposed via a projection optical system PL by light IL projected from the mask, and a hole array is formed on the wafer.例文帳に追加

クロスポール照明条件下で所定のパターンが形成されたマスクＲを照明し、該マスクから射出される光ＩＬで投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光し、そのウエハ上にホールアレイを形成する。 - 特許庁

A high purity helium gas inside a bomb 32 on a downstairs floor F2 is supplied to the sub-chamber 6 and a projection optical sytem PL which is the main body 26 of the aligner through a pipe 31 to increase a transmittivity against the exposure light.例文帳に追加

階下の床Ｆ２上のボンベ３２内の高純度のヘリウムガスを配管３１を介してサブチャンバ６、露光本体部２６の投影光学系ＰＬ内に供給して、露光光に対する透過率を高める。 - 特許庁

The projection optical system PL is provided with a plurality of lens elements, and the lens elements other than a first specific lens element LS7 nearest to an image surface side out of the lens elements are housed in a mirror barrel 13.例文帳に追加

投影光学系ＰＬは複数のレンズエレメントを備えており、これら各レンズエレメントのうち最も像面側の第１特定レンズエレメントＬＳ７以外のレンズエレメントは、鏡筒１３内に収容されている。 - 特許庁

In a first manufacturing line, a main body module which comprises a frame caster 2, a main body support part 3, a main body column 5 and the like is assembled, and an illumination system and the projection optical system PL are mounted to this main body module.例文帳に追加

第１の製造ラインにおいて、フレームキャスタ２、本体支持部３、及び本体コラム５等からなる本体モジュールの組立を行い、この本体モジュールに照明系及び投影光学系ＰＬの搭載を行う。 - 特許庁

The mold for molding the free curved surface optical element is constituted of a fixed mold and a movable mold both of which mold the free curved surface (effective region 21) and the back face on its opposite side by the parting line PL provided along the edge face of the free curved surface optical element 14.例文帳に追加

自由曲面光学素子１４の端面に沿ったパーティングラインＰＬにより自由曲面（有効領域２１）とその反対側の裏面とを成形する固定型と可動型とで構成する。 - 特許庁

The second moving member 70 comes into contact with the base member 50 at three contact points CP1, CP2 and CP3, and can move in parallel with a reference plane PL regulated at the three contact points.例文帳に追加

また、第２移動部材７０は、ベース部材６０に対して３つの接触点ＣＰ１，ＣＰ２，ＣＰ３で接しており、当該３つの接触点で規定される基準平面ＰＬに対して平行に移動可能である。 - 特許庁

As a result, though the light source 32 emits the irradiation light PL of the non-uniform brightness, the illumination light IL of the uniform brightness is made incident on a light guide incident end 22A by the rod lens 42, and an object is illuminated.例文帳に追加

この結果、光源３２が不均一な明るさの照射光ＰＬを照射するものの、ロッドレンズ４２により、明るさが均一な照明光ＩＬが、ライトガイド入射端２２Ａに入射し、被写体を照明する。 - 特許庁

In this module type rolling mill, gear units GU1, GU2 are installed between selected rolling units in place of the rolling units RU2, RU4 which are removed from a rolling route line PL to provide gaps in the rolling sequence.例文帳に追加

モジュール型圧延機において、ギアユニットＧＵ_1、ＧＵ_2が、圧延シーケンスにギャップを提供するために圧延経路ラインＰ_Lから除去された圧延ユニットＲＵ_2、ＲＵ_4の代わりに、選択された圧延ユニットの間に設置される。 - 特許庁

In particular, each of the data lines X1-X2n is arranged so that two pieces of the display pixels PX arranged in the direction of the row in the corresponding block PL are set at an equal distance from the data line driving part 22.例文帳に追加

特に、データ線Ｘ1〜Ｘ2nの各々は対応列の画素ブロックＢＬで行方向に並ぶ２個の表示画素ＰＸをデータ線駆動部２２から互いに等しい配線距離に設定するように配置される。 - 特許庁

An opening 81a, set so as to be larger than the image of opening tr1 of a test reticle TR projected through the projection optical system PL, is formed at the central part of upper surface of the label board 81.例文帳に追加

この標示板８１の上面の中央部には、投影光学系ＰＬを通過して投影されるテストレチクルＴＲの開口部ｔｒ１の像よりも大きく設定された開口部８１ａが形成されている。 - 特許庁

At least a portion of the side panel PL and PR includes an elastic thread G sandwiched between at least two sheet-like materials S 1 and S 2 and is in a contracted state where the elastic thread is contracted, thus forming gathers.例文帳に追加

サイドパネルＰＬ，ＰＲの少なくとも一部は、少なくとも２枚のシート状物Ｓ１，Ｓ２の間に弾性糸Ｇが挟まれて形成され、かつ、弾性糸Ｇが縮んでギャザが形成された収縮状態である。 - 特許庁

The cooling lines are disposed on a plurality of planes PL oriented vertically to a central axis AC of a shell and parallel to one another and are disposed around the outer periphery of a rear surface in thermal contact with the rear surface of the shell.例文帳に追加

冷却ラインは、シェルの中心軸ＡＣに対して垂直であると共に互いに平行である複数の平面ＰＬに配置されており、シェルの背面に熱接触し、背面の外周の周囲に配置される。 - 特許庁

A main controller 70 of a laser device 1 performs charging voltage control and gas control, so that pulse energy Pin to be input to an output attenuating mechanism 50 may reach a value (target pulse energy PL) at which pulse variance becomes small.例文帳に追加

レーザ装置１のメインコントローラ７０は、出力減衰機構５０に入力される前のパルスエネルギＰinをパルスばらつきが小さくなる値（目標パルスエネルギＰL）にすべく、充電電圧制御及びガス制御を行う。 - 特許庁

A parallax control part 26 detects the dominant parallax of the panoramic images from the panoramic image PR and the panoramic image PL, and shifts the entire panoramic images according to the detected result, to adjust the parallax.例文帳に追加

視差制御部２６は、パノラマ画像ＰＲとパノラマ画像ＰＬから、これらのパノラマ画像の支配的な視差を検出し、その検出結果に応じてパノラマ画像全体をシフトさせることで、視差調整を行なう。 - 特許庁

In an ink-jet recording method, an ink containing at least a coloring material, a water-soluble organic solvent, a surfactant, and water is used in a dropping quantity of 20 pl or below for printing.例文帳に追加

少なくとも、色材と、水溶性有機溶媒と、界面活性剤と、水と、を含有し、下記（Ａ）〜（Ｃ）の条件を満たすインクを、２０ｐｌ以下のドロップ量で印字することを特徴とするインクジェット記録方法である。 - 特許庁

In the semiconductor device, transistors in an n-type logic area NL are covered with a film 50 having tensile stress, and transistors in a p-type logic area PL are covered with a film 55 having compression stress.例文帳に追加

半導体装置では、Ｎ型ロジック領域ＮＬにおけるトランジスタが引っ張り応力を有する膜５０により覆われ、Ｐ型ロジック領域ＰＬにおけるトランジスタが圧縮応力を有する膜５５により覆われている。 - 特許庁

A parameter group showing a relationship between adjustment of adjustable specific lenses 13_1 to 13_4 and change in focusing characteristics of a projection optics system PL is required, and the parameter group is preliminarily stored in a storage device 42.例文帳に追加

調整可能な特定のレンズ１３_1〜１３_4の調整と投影光学系ＰＬの結像特性の変化との関係を示すパラメータ群が予め求められ、そのパラメータ群が記憶装置４２に予め記憶されている。 - 特許庁

Consequently, even if the oil pump 2 rotates at high speed, line pressure PL is low and cavitation tends to easily occur, large quantity of oil can be supplied into the pump chamber and cavitation can be surely prevented.例文帳に追加

したがって、オイルポンプ２が高回転、かつライン圧ＰＬが低油圧時でありキャビテーションが発生しやすい場合にも、多くのオイルをポンプ室内に供給することができ、確実にキャビテーションを防止することができる。 - 特許庁

Each width of the slits 3 and 9 is same as the thickness of the sheet metal W, and the side surface parts PF, PB, PL and PR are joined with each other by fitting the slit 3 and the slit 9 from the upper part and from the lower part, respectively.例文帳に追加

各スリット３、９の幅は、板金Ｗの板厚と同じであり、上からのスリット３と下からのスリット９を嵌め込んで側面部品ＰＦ、ＰＢ、ＰＬ、ＰＲを接合して箱Ｐを作製する。 - 特許庁

Four F marks are placed in advance on a printed wiring board and relative positions between ideal mark positions A, B, C and D of the F marks on the printed wiring board before deformation, and ideal mounting positions PL for mounting electrical components are obtained.例文帳に追加

プリント配線板に予め４つのＦマークを設け、変形前のプリント配線板におけるＦマークの理想マーク位置Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄと電気部品を装着する理想装着位置ＰＬとの相対位置を取得する。 - 特許庁

The table roll device 2 can be moved vertically with a ascending and descending cylinder device 3 so that its height is adjustable from the height of the pass line (PL) at the processing of the steel strip to the height of the floor level (FL) where the processing line is installed.例文帳に追加

テーブルロール装置２は、昇降用シリンダー装置３によって、その高さを、鋼帯処理時におけるパスライン（ＰＬ）の高さから上記処理ラインが設置されるフロアレベル（ＦＬ）の高さまで昇降可能としている。 - 特許庁

Since the mark (R) is irradiated from below, an illuminating system 14 can be provided independently of the main body of exposure apparatus that includes the mask stage (RST), the projection optical system (PL), and the substrate stage (WST).例文帳に追加

この場合、照明系１４は、マスクＲを下方から照明するので、マスクステージＲＳＴ、投影光学系ＰＬ、及び基板ステージ等を含む露光装置本体１２とは分離して配置することが可能になる。 - 特許庁

When an angle formed by a perpendicular PL vertical with respect to a tangent at a contact point P between the tip member 2 and the posture operating member 31, and the center line CL2 of the rotary shaft 22 is set as α, it is set to be α>0°.例文帳に追加

先端部材２と姿勢操作部材３１の接触点Ｐにおける接線に対し垂直な垂線ＰＬと回転軸２２の中心線ＣＬ２とがなす角度をαとした場合、α＞０°である。 - 特許庁

In the imaging apparatus, a white image resulting from calibration photographing is divided into a plurality of small areas BK, and a dust present area BL including a portion PL wherein luminance is lowered by the influence of dust entering an image pickup part, is detected.例文帳に追加

撮像装置では、キャリブレション撮影で得られた白画像を複数の小エリアＢＫに分割し、撮像部に入り込んだゴミの影響により輝度が低下する部分ＰＬがあるゴミ存在エリアＢＬを検出する。 - 特許庁

A main controller 70 of a laser apparatus 1 carries out a charging voltage control and a gas control in order to make a pulse energy Pin before being input to an output attenuating mechanism 50 a value (target pulse energy PL) of little pulse variation.例文帳に追加

レーザ装置１のメインコントローラ７０は、出力減衰機構５０に入力される前のパルスエネルギＰinをパルスばらつきが小さくなる値（目標パルスエネルギＰL）にすべく、充電電圧制御及びガス制御を行う。 - 特許庁

The distortion induced by the reflective mask (MA), on the absorbing layer of which a mask pattern has been embodied, and the inclined lighting is calculated and aberration in a projection system (PL) is introduced and/or controlled in order to correct the distortion.例文帳に追加

厚い吸収層にマスクパターンを具現した反射性マスク（ＭＡ）と傾斜照明が誘起する歪みを計算し、それを補正するために投影システム（ＰＬ）に収差を導入および／または制御する。 - 特許庁

The liquid feeding mechanism 50 includes a degassing device which performs degassing so that a solved gas concentration of the liquid LQ fed between the projection optical system PL and the reflection spherical surface 8S becomes less than or equal to 6 ppm.例文帳に追加

液体供給機構５０は、投影光学系ＰＬと反射球面８Ｓとの間に供給される液体ＬＱの溶存気体濃度が６ｐｐｍ以下となるように脱気を行う脱気装置を有している。 - 特許庁