「PL」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

In constitution for applying voltage while pressing a roller 8 to a photoconductor drum 7 by a spring 42 through a bearing 44, the bearing 44 is formed in symmetrical shape with respect to a vertical plane PL in a pressing direction.例文帳に追加

ばね４２によって軸受４４を介してローラ８を感光体ドラム７に押圧しながら電圧を印加する構成において、軸受４４の形状を加圧方向に垂直な面ＰＬに関して対称とした。 - 特許庁

The discharge pressure P of the liquid object is increased to the discharge pressure PL over the discharge pressure P when continuously coating in the area where the coating velocity V is lower than the determined velocity Vs so that discharge of the liquid object is stabilized.例文帳に追加

塗布速度Ｖが所定速度Ｖｓよりも遅い領域で、連続塗布時の吐出圧力Ｐを越える吐出圧力ＰＬまで液状体の吐出圧力Ｐを高め、液状体の吐出を安定させる。 - 特許庁

An anisotropic light diffusion layer 4 has a property of diffusing projection light PL and reflection light RL in an X direction, and an optical control layer 3 has a property of diffusing the reflection light RL in a Y direction.例文帳に追加

異方性光拡散層４が、Ｘ方向について投射光ＰＬ、反射光ＲＬを拡散する性質を有し、光制御層３は、Ｙ方向について反射光ＲＬを拡散する性質を有する。 - 特許庁

When an AC adaptor 11 is connected to an electronic apparatus main part 12, the electronic apparatus main part 12 varies the impedance on a power supply output line PL for a certain time period, to inform the AC adaptor 11 of the power supply input specifications of itself.例文帳に追加

電子機器本体１２はＡＣアダプタ１１が接続されたとき、電源出力ライン（ＰＬ）上のインピーダンスを一定時間変動させて自機器の電源入力仕様をＡＣアダプタ１１に知らせる。 - 特許庁

As described above, the PL wavelength inspection of an active layer of each of wafers used for devices is performed by a non-destructive test before putting the wafers into the wafer process, and thus, the wafer having used for the inspection can be put into the wafer process.例文帳に追加

このように、デバイス形成に用いるウェハの活性層のＰＬ波長検査をウェハプロセス投入前に非破壊検査により行うことにより、検査で用いたウェハをウェハプロセスに投入することができる。 - 特許庁

The printing plate PL attached to the plate cylinder 14 is controlled in temperature, to be expanded and contracted in each area in the peripheral direction of the plate cylinder 14 by the plurality of heating units 40 and the plurality of cooling units 45.例文帳に追加

複数の加熱ユニット４０および冷却ユニット４５によって、版胴１４に装着された印刷版ＰＬを版胴１４の周方向に沿ったエリアごとに温調して伸縮させることができる。 - 特許庁

Presence of a liquid between a tip lens (42) and a wafer (W) of a projection optical system (PL) is monitored constantly via a liquid detection sensor, provided on one of a feed pipe (21) and a recovery pipe (27) of a liquid soaking device (50).例文帳に追加

液浸装置（５０）の供給管（２１）及び回収管（２７）の一方に設けられた液体検知センサを介して、投影光学系（ＰＬ）の先端レンズ（４２）とウエハ（Ｗ）との間の液体の有無を常時監視する。 - 特許庁

A recording/reproduction control part 32 controls a shutter 13 and an half-wave plate 15 and has irradiated a multiple number of times, a hologram recording material 26 with a laser beam PL radiated from a laser beam source 11, wherein the laser beam is split by a beam splitter 16.例文帳に追加

記録／再生制御部３２は、シャッター１３および半波長板１５を制御し、ビームスプリッタ１６により分割された、レーザ光源１１から出たレーザ光ＰＬを、複数回にわたって、ホログラム記録媒体２６に照射する。 - 特許庁

The apparatus for successively manufacturing two kinds of positive type resist liquid differing in one of solid components is equipped with a manufacture line PL constituted by connecting after-mentioned parts (a) to (e) in order and a reverse washing line RL comprising (d) to (e).例文帳に追加

固体成分のいずれかが異なる２種のポジ型レジスト液を順次製造するための装置であって、下記ａ）〜ｃ）をこの順に接続した製造ラインＰＬとｄ）〜ｅ）からなる逆洗浄ラインＲＬとを備えた製造装置等。 - 特許庁

This exposure apparatus includes: a projection optical system (PL); a first stage mechanism (PS) for moving a photosensitive substrate (P) while holding it; and a second stage mechanism (MS) for moving an object (M) having a pattern while holding it.例文帳に追加

本発明の態様にかかる露光装置は、投影光学系（ＰＬ）と、感光性を有する基板（Ｐ）を保持して移動する第１ステージ機構（ＰＳ）と、パターンを有する物体（Ｍ）を保持して移動する第２ステージ機構（ＭＳ）と、を備える。 - 特許庁

To make the transmission of the information between the motor vehicle components fail-safe, at least a part of the information is also transmitted over the supply line structure (PL) in addition to over the data bus (CAN).例文帳に追加

車両のコンポーネント間の情報の伝達をできる限り故障に対して安全に形成するために，本発明によれば，少なくとも一部の情報は，データバス（ＣＡＮ）を介する他に，供給線構造（ＰＬ）を介しても伝達される。 - 特許庁

Capacitor plate lines PL are arranged so as to connect to a ferroelectric memory cell 11 of the same row, and word lines WL are arranged so as to connect to a ferroelectric memory cell 11 of a row of which the column direction is different.例文帳に追加

メモリセルアレイ１２においてキャパシタプレート線ＰＬを同一行の強誘電体メモリセル１１に接続するように配置し、ワード線ＷＬを列方向の異なる行の強誘電体メモリセル１１に接続するように配置する。 - 特許庁

The apparatus for sequentially manufacturing two kinds of positive type resist liquid differing in solvent component is equipped with a manufacture line PL constituted by connecting after-mentioned parts (a) to (e) in order and a reverse washing line RL comprising (d) to (e).例文帳に追加

溶剤成分が異なる２種のポジ型レジスト液を順次製造するための製造装置であって、下記ａ）〜ｃ）をこの順に接続した製造ラインＰＬと下記のｄ）〜ｅ）からなる逆洗浄ラインＲＬとを備えた製造装置。 - 特許庁

The second roller 120L is displaced by receiving component force of a second direction to be a direction orthogonal to the first direction to suppress roll of the seat, of resultant force acting on the abutting point PL in the direction of the load line L2 when turning the vehicle.例文帳に追加

第２ローラ１２０Ｌは、車両旋回時に当接点ＰＬに荷重線Ｌ２の方向へ作用する合力のうち、第１方向と直交し、シートのロールを抑制する方向たる第２方向の分力を受け変位する。 - 特許庁

In the former speed change, line pressure PL is decreased by ΔPL1 at a speed change command moment t1 to the line pressure PL1 in the regular speed change, and engine power is decreased by a regular torque down amount ΔTd1 at a speed change starting moment t2.例文帳に追加

前者の変速時は、変速指令瞬時ｔ_１にライン圧P_Lを通常の変速時ライン圧P_L1にしてΔP_L1だけ低下させると共に、変速開始瞬時ｔ_２にエンジン出力を通常のトルクダウン量ΔT_ｄ１だけ低下させる。 - 特許庁

The image surface of the projection optical system PL is detected at the detecting points being contained in a plurality of the detecting points set in the exposure region, and being smaller than a fixed number during the exposure treatment, and the AF surface is calibrated.例文帳に追加

露光処理の途中では、露光領域内に設定された上記複数の検出点に含まれ、且つ所定数よりも少ない検出点で投影光学系ＰＬの像面を検出し、上記のＡＦ面を較正する。 - 特許庁

Further, the carcass outline 20 protrudes outside the tire with a maximum space part 22 in which a distance L2 from the equivalent natural balance curve Z has a maximum value L2a in a lower outline 20L between the maximum carcass width point Pm and a lower point PL.例文帳に追加

又カーカス最大巾点Ｐｍと下点ＰＬとの間の下輪郭線２０Ｌにおいては、等価自然平衡形状曲線Ｚからの距離Ｌ２が最大値Ｌ２ａとなる最大離間部２２を有してタイヤ外側に突出する。 - 特許庁

To provide a color film for an organic EL device that has an improved blue color purity and small reduction of luminance (PL intensity) and is superior in haze, visible ray average transmittance and heat resistance when the film is used in the organic EL device particularly a blue organic EL device.例文帳に追加

有機ＥＬ素子、特に青色有機ＥＬ素子に使用した場合、青色色純度が向上し、輝度（ＰＬ強度）の低下が小さく、ヘーズ、可視光平均透過率、耐熱性に優れた有機ＥＬ素子用カラーフィルムを提供する。 - 特許庁

Spatial image detecting devices 20a and 20b measure the spatial image of an image processing mark IM projected through a projection optical system PL, and measure the spatial image of the index projected from the sensors 18a and 18b.例文帳に追加

空間像検出装置２０ａ，２０ｂは投影光学系ＰＬを介して投影される画像処理用マークＩＭの空間像を計測するとともに、プレートアライメントセンサ１８ａ，１８ｂから投影される指標の空間像を計測する。 - 特許庁

If PL is greater, a power limiting part 80 determines power allocated to each electric actuator 64 from the power at the power limiting value P_pmax, based on the ratio of the operating value of a lever corresponding to each electric actuator 64.例文帳に追加

Ｐ_Lが大きい場合には、電力制限部８０は、各電動アクチュエータ６４に対応するレバーの操作量の比率を基に動力制限値Ｐ_pm_axの電力から各電動アクチュエータ６４に割り当てる電力を決定する。 - 特許庁

When a stimulation responsive ink 120 transferring from a sol to a gel by stimulation is stuck on a recording medium 16 to form the image, the amount of a liquid droplet of the ink 120 is made to be 0.5-2.5 pL(pico-liter).例文帳に追加

記録媒体１６上に、刺激によりゾルからゲルに転移する刺激応答性インク１２０を付着させて画像を形成する際に、インク１２０の１ドッドの液滴量が、０．５ないし２．５ｐＬ（ピコリットル）であるようにする。 - 特許庁

A pressure sensor 18 detects the pressure of the header 8, and the generation flow rate of two dry air generating devices 2, 3 is controlled by a control means 19 so that the detected pressure is kept at predetermined values PH-PL.例文帳に追加

圧力センサ１８はヘッダ８の圧力を検出し、その検出圧力が、予め定める値ＰＨ〜ＰＬに保たれるように、２つのドライエア発生装置２，３の発生流量を制御手段１９によって制御する。 - 特許庁

This electronic musical instrument is provided with volume control keys PL, MN for instructing increase/decrease of volume, and two or more standard volume set values are pre-stored in a ROM 3 as a volume setting table VT.例文帳に追加

この電子楽器には、音量の増減を指示するための音量制御操作子ＰＬ，ＭＮが設けられており、ＲＯＭ３には、複数の標準音量設定値が音量設定テーブルＶＴとして予め記憶されている。 - 特許庁

Also, a reference level is fixed and a pulse potential given to a plate line PL is adjusted by a potential generating circuit 2 at the testing time, and the quantity of read-out electric charges from a memory cell is reduced, so that the read-out margin of a memory cell is reduced intentionally.例文帳に追加

または、リファレンスレベルを固定して、テスト時に電位発生回路２によりプレート線ＰＬに与えるパルス電位を調整し、メモリーセルからの読み出し電荷量を小さくして、メモリーセルの読み出しマージンを意図的に少なくする。 - 特許庁

A material feed device 30 is provided with first and second feed vices 36, 36 which are constituted so as to reciprocate along a pass line PL and can move from a section start point of an upper stream side to a section terminal point of a lower stream side, which are set respectively in these vices.例文帳に追加

送材装置３０は、パスラインＰＬに沿って往復動自在に構成され、夫々に設定された上流側の区間始点から下流側の区間終点まで移動可能な第一,第二送りバイス３６,３６を備える。 - 特許庁

A refractive index grating RL is formed in each photorefractive polymer 11A, 11B, 11C by control light CL and pumping light PL in a portion corresponding to any one partial image included in an input image IP.例文帳に追加

制御光ＣＬとポンプ光ＰＬとによって、フォトリフラクティブポリマー１１Ａ・１１Ｂ・１１Ｃのそれぞれに対して、入力画像ＩＰに含まれるいずれか１つの部分画像に対応した箇所に屈折率格子ＲＬが形成される。 - 特許庁

The objective lens (PL) for optical disk includes a diffraction optical element including a positive lens (Lp) having a numerical aperture of 0.4 or more and having a first diffractive optical surface and a negative lens (Ln) having a second diffractive optical surface.例文帳に追加

本発明の光ディスク用対物レンズ（ＰＬ）は、０．４以上の開口数を有し、第１回折光学面を有する正レンズ（Ｌｐ）と、第２回折光学面を有する負レンズ（Ｌｎ）とを備える回折光学素子を含んでいる。 - 特許庁

A wavefront aberration of a projection optical system PL is measured with the inspecting wavefront aberration measuring device 110, and further, after mounting on the exposure device, measured with the wavefront aberration measuring unit to find a second difference of both the wavefront aberration.例文帳に追加

投影光学系ＰＬの波面収差を、検査用波面収差測定装置１１０で計測するとともに、露光装置に搭載した後に波面収差測定ユニットで計測し、両波面収差の第２の差分を求める。 - 特許庁

This mist feeding device 420 for filter inspection includes a generation part 20 for generating a gas flow which contains a liquid particle group P and a removal part 52 for removing liquid articles PL relatively large in diameter among the liquid particle group P.例文帳に追加

このフィルタ検査用ミスト供給装置４２０は、液体粒子群Ｐを含むガス流を発生する発生部２０と、液体粒子群Ｐ中の相対的に粒径が大きな液体粒子ＰＬを除去する除去部５２と、を備える。 - 特許庁

When the reception terminal 13 starts reception of the broadcast program in this state, the reception terminal 13 compares the storage preferential level information PL attached to the broadcast program with the threshold value information PR of the storage preferential level information stored in the internal memory.例文帳に追加

この状態で放送番組の受信が開始されると、放送番組に付加されている蓄積優先レベル情報ＰＬを上記内部メモリに格納されている蓄積優先レベル情報のしきい値情報ＰＲと比較する。 - 特許庁

A testing substrate 91 formed with no resist film is mounted on a stage 10, pulse lights PL are emitted from optical heads 32a, 32d, 32g, and projection images SPI thereof are photographed by irradiation position measuring cameras 51, 52, 53.例文帳に追加

レジスト膜が形成されていない試験用基板９１をステージ１０上に載置し、光学ヘッド３２ａ，３２ｄ，３２ｇからパルス光ＰＬを照射するとともに、その投影像ＳＰＩを照射位置計測カメラ５１，５２，５３により撮影する。 - 特許庁

A circulating path is formed for inputting a line pressure PL into the coupling chamber 36 of a fluid coupling 30 from an inlet port 31a via a pressure reducing valve 60 and for discharging the oil pressure in the coupling chamber 36 via an orifice 74.例文帳に追加

流体継手３０のカップリング室３６にライン圧ＰＬを降圧バルブ６０を介して導入ポート３１ａから入力すると共にカップリング室３６内の油圧をオリフィス７４を介して排出する循環路を形成する。 - 特許庁

The last element 50 of a projection system that is a parallel plate used for sealing a projection system PL from an immersion liquid 10 by immersion lithography changes the angle of incidence of a projected beam when tilting to the optical axis of the device.例文帳に追加

液浸リソグラフィで投影系ＰＬを浸液１０から密封するのに使用される平行平板である投影系の最終要素５０が、装置の光軸に対して傾斜する場合投影ビームの入射角を変化させる。 - 特許庁

A final element 50 in a projection system that is a parallel plate used for sealing a projection system PL against an immersion liquid 10 in immersion lithography changes an incidence angle of projection beams when the final element inclines to the optical axis of the device.例文帳に追加

液浸リソグラフィで投影系ＰＬを浸液１０から密封するのに使用される平行平板である投影系の最終要素５０が、装置の光軸に対して傾斜する場合投影ビームの入射角を変化させる。 - 特許庁

Further, even when the line drawing PL is laid out at an arbitrary position, the line drawing main body area RA and color edge area RB are represented as one piece of data and then they can easily be moved in one body, so the operability is good.例文帳に追加

また、線画ＰＬを任意の位置にレイアウトする際にも、線画本体領域ＲＡと色フチ領域ＲＢとが１つのデータとして表現されていることにより、容易に一体として移動させることができるので、操作性がよい。 - 特許庁

In the structure of Fig.6(B), a via contact part is formed on the third metal layer M3 of the metal laminate on the left end of the polysilicon layer PL with the power source line 9 composed of the fourth metal layer and formed in contact with the via contact thereon.例文帳に追加

図６（Ｂ）の構造において、ポリシリコン層ＰＬの左端上のメタル積層部の第３メタル層Ｍ３上にビアコンタクト部が形成され、その上に第４メタル層からなる電源線９がビアコンタクト部に接して形成される。 - 特許庁

To provide a method and a device for moving fluid in which various kinds of fluid can be moved at a specified velocity from an ultramicro quantity of pl level to micro quantity of ml level regardless of the physical properties of the fluid.例文帳に追加

多様な種類の流体を流体の物理的性質にかかわらずにｐｌ水準の極微量からｍｌ水準の微量まで所定速度で移動させることができる流体移動方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

A condition provided with a draft angle can be made by changing an inclination of a parting face PL of the outer face and the inner face between a main body part 40 and a folding part 42 to the mold releasing direction of a mold 46 molding a door member 30.例文帳に追加

ドア部材３０を成形する金型４６の離型方向に対して、本体部４０と折曲部４２との外面及び内面のパーティング面ＰＬの傾きを変えることで、抜き勾配を設けた状態にすることができる。 - 特許庁

A reflector alignment system uses an alignment beam AB1 which is transmitted in the projection system PL having a group of mirrors for measuring dummy relative positions of two reference makers fixed to a reference frame RF on both sides of the projection system.例文帳に追加

反射体アライメント・システムは、ミラー群を備える投影システムＰＬ中を伝わるアライメント・ビームＡＢ１を使用して、投影システムの両側で基準フレームＲＦに固定された２つの基準マーカの見かけの相対位置を測定する。 - 特許庁

The optical device PL is equipped with a concentration control device 200 which controls concentration of a light absorbing material that fills the empty spaces 250 to 254 to absorb the energy beam IL, corresponding to the shape of the empty spaces 250 to 254.例文帳に追加

光学装置ＰＬは、複数の空間２５０〜２５４のそれぞれにおけるエネルギービームＩＬを吸収する吸光物質の濃度を、各空間２５０〜２５４の形状に応じて個々に制御する濃度制御装置２００を備える。 - 特許庁

Since the cushion pressure overshooting the low-pressure target value PL follows the complementary target value PC continuously and can reduce the overshooting quantity at the time reaching the high-pressure target value PH, the pressure fluctuation of the cushion pressure can be suppressed.例文帳に追加

低圧目標値ＰＬをオーバーシュートしたクッション圧はそのまま連続して補完目標値ＰＣに追従して高圧目標値ＰＨに達した時点でのオーバーシュート量を小さくできるから、クッション圧の圧力変動を抑制できる。 - 特許庁

A hard disk controller writes data in the normal area P when the detected temperature (environment temperature) of a temperature sensor is equal to or higher than a guaranteed lowest temperature, and in the the low recording density area PL when the detected temperature is less than the guaranteed lowest temperature.例文帳に追加

ハードディスクコントローラは、温度センサによる検出温度（環境温度）が保証最低温度以上の場合は通常領域Ｐに書き込み、保証最低温度未満の場合は低記録密度領域ＰＬに書き込む。 - 特許庁

Further, the left port PRT for pumping pressurized oil of the relay block BLK1 and the port PRT for pumping pressurized oil provided on an upper end of a relay block BLK3 are directly connected to each other via the pipe line PL (PT).例文帳に追加

また、中継ブロックＢＬＫ１の左側の圧油給排用ポートＰＲＴならびに中継ブロックＢＬＫ３の上端に配設されている圧油給排用ポートＰＲＴとが管路ＰＬ（ＰＴ）により直接接続されている。 - 特許庁

In the exposure method, the pattern of a mask (M) disposed on the object surface of a projection optical system (PL) is exposed on the photosensitive substrate (W) disposed on the image surface of the projection optical system to form the pattern of a desired line width on the photosensitive substrate.例文帳に追加

投影光学系（ＰＬ）の物体面に設置されたマスク（Ｍ）のパターンを、投影光学系の像面に設置された感光性基板（Ｗ）上に露光して、感光性基板上に所望線幅のパターンを形成する露光方法。 - 特許庁

In a high mode which is achieved during forward drive at high speed, the spool 202 of the speed control valve 200 is moved using a link 402 operated by a stepping motor 404, so that the speed-increasing pressure PH and the speed-reducing pressure PL vary, producing the differential pressure ΔP.例文帳に追加

高速前進時に達成させるハイモードでは、変速制御弁２００のスプール２０２を、ステップモータ４０４で操作するリンク４０２を用いて、増速圧ＰＨ及び減速圧ＰＬが変化して差圧ΔＰが生じるように移動させる。 - 特許庁