「Pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a panel structure in which barrier ribs can be formed with a pattern and a height just as designed in a display area, without generating protrusions causing hindrance to adhesion of substrates themselves.例文帳に追加

基板どうしの密着に支障となる突起を生じさせることなく、表示領域にパターンおよび高さが設計どおりの隔壁を形成することのできるパネル構造を提供する。 - 特許庁

On the basis of the reciprocatory printing deviation amount for each area detected on the basis of this test pattern, a plurality of correction values for independently correcting a printing timing at the plurality of areas are set.例文帳に追加

このテストパターンに基づいて検出されたエリア毎の往復印字ずれ量に基づいて複数のエリアで独立に印字タイミングを補正するための複数の補正値が設定される。 - 特許庁

To form a rugged pattern in a header area, wherein the detection in a near field optical recording device is satisfactorily performed and the reading of a track number during the seek operation can be also performed with high precision.例文帳に追加

近接場光記録装置での検出が良好でシーク中のトラック番号読み取りも高精度で行なうことが可能なヘッダー領域の凹凸パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a wiring substrate permitting the widening of the pitch of a wiring pattern even when the area of an insulating film is not increased, and to provide its manufacturing method and an electronic device.例文帳に追加

絶縁性フィルムの面積を増やさなくても、配線パターンのピッチを広くすることができるようにした配線基板及びその製造方法、並びに、電子デバイスを提供する。 - 特許庁

Thereafter, an organic semiconductor layer 7 is evaporated and the organic semiconductor layer 7 is patterned to the insulating film 4 exposed after the photoresist pattern 8a is removed and is left at the area near such insulating film 4.例文帳に追加

その後、有機半導体層７を蒸着し、フォトレジストパターン８ａが除去されて露出された絶縁膜４及びその近傍に残るように有機半導体層７をパターニングする。 - 特許庁

Similarly, a metal film 23 is laminated only in an area outside the seal part 4 of the extension electrode pattern 22 to reduce a wiring resistance difference between other-side electrodes 18.例文帳に追加

同様に各他方電極１８の間にて、配線抵抗差を減少させるべく、延在電極パターン２２のシール部４外の領域のみに対し、金属膜２３を積層する。 - 特許庁

A wiring pattern 30 electrically connected with the electrode 14 is formed in the area where the conductive particles 24 are exposed on the upper end surface of the layer 20 through an electroless plating step.例文帳に追加

無電解メッキ工程によって、層２０の上端面における導電粒子２４が露出した領域に、電極１４と電気的に接続された配線パターン３０を形成する。 - 特許庁

The area of the substrate occupied by the wiring pattern for the heating part 102 is decreased by composing an electrode wiring from a first and a second electrode wiring layers 103 and 104.例文帳に追加

電極配線を第１および第２電極配線層１０３，１０４で構成することで、発熱部１０２に対する配線パターンが基板上で占める面積を小さくする。 - 特許庁

When a rejected character pattern exists in a recognition result, the character recognition processing is performed by changing the attributes of the area and selecting the recognition dictionary 61 or 62 again according to the attributes.例文帳に追加

認識結果にリジェクトされた文字パターンが存在すると、その領域の属性を変更しその属性に従って再度、認識辞書61または62を選択して文字認識処理を行なう。 - 特許庁

The graphic pattern is printed with special ink transmitting visible light and emitting light with a predetermined wavelength when being illuminated by light with a specific wavelength out of visible light area.例文帳に追加

図形パターンは、可視光を透過するインクであって、可視光の領域にない特定波長の光が照射されると所定波長の光を放射する特殊インクで印刷する。 - 特許庁

A semiconductor layer 14 has a forward mesa inclined surface area MJ where the width of one direction [0-1-1] of a pattern of the semiconductor layer 14 is increased toward an electron emission layer 13.例文帳に追加

半導体層１４は、電子放出層１３に向かうに従って半導体層１４のパターンの一方向［０−１−１］の幅が広くなる順メサ斜面領域ＭＪを有している。 - 特許庁

A pattern for preventing filming is formed at both ends other than an image forming area outputting a toner image on transfer paper, and the toner retained on the developing roller is moved.例文帳に追加

転写紙上におけるトナー像を出力する画像形成領域以外の両端部にフィルミングを防止するパターンを形成させて、現像ローラ上に滞留したトナーを移動させる。 - 特許庁

The fixed pattern noise generated by an imaging device 102 is detected in addition readout mode wherein a plurality of pixels are added and read out or a non-addition readout mode wherein all the pixels area readout.例文帳に追加

複数の画素を加算して読み出す加算読み出しモード、または全画素を読み出す非加算読み出しモードにより、撮像素子１０２で生じる固定パタンノイズを検出する。 - 特許庁

The size of the two-dimensional pattern P shows the area of an input fingerprint picture and inner concentration shows the gradation degree of the input fingerprint picture and a position shows the position of the input fingerprint picture.例文帳に追加

この２次元パターンＰは、その大きさが入力指紋画像の面積を示し、内部の濃度が入力指紋画像の濃淡度を示し、位置が入力指紋画像の位置を示す。 - 特許庁

To shift to the normal position, (S345:NO), a pattern of the demonstration figures to be displayed is selected from among the ordinary figure patterns stored in an ordinary probability figure memory area 52q (S349).例文帳に追加

通常状態とする場合には（Ｓ３４５：ＮＯ）、通常確率図柄記憶エリア５２ｑに記憶された通常図柄パターンの中から表示するデモ図柄のパターンを選択する（Ｓ３４９）。 - 特許庁

A switching position is set according to a test pattern which is formed by recording by using one recording element selected in the overlapped area of the adjacent head modules and a recording element of the other head module.例文帳に追加

隣接するヘッドモジュールの重複領域において選択された１つの記録素子と他のヘッドモジュールの記録素子で記録した記録したテストパターンから切換位置を設定する。 - 特許庁

A driving intention of the driver is detected from an accelerator pedal operation state, and when the driver shows an acceleration intention, a control pattern is changed so that a control operation area becomes shorter.例文帳に追加

アクセルペダルの操作状態から運転者の加減速意図を検出し、運転者の意図が加速意図を示す場合は、制御パターンを変更し、制御作動領域を短くしていく。 - 特許庁

To improve the interest of a player by changing the prize winning area of a second starting means when stopped picture patterns after fluctuation on a first picture pattern display means become prescribed picture patterns.例文帳に追加

第１図柄表示手段の変動後の停止図柄が所定図柄となったときに第２始動手段の入賞領域が変化し、遊技者の興趣を向上できるようにする。 - 特許庁

A shape of an area in the vicinity of a pattern edge is digitized, based on an image data of a sky photograph obtained by the scanning microscope, to evaluate the tapering tendency of the cross-sectional shape.例文帳に追加

走査型顕微鏡で得られた上空写真の画像データから、パターンエッジ近傍の領域の形状を数値化することによって断面形状のテーパ傾向を評価する。 - 特許庁

To provide a method of correcting an optical proximity which improves speed and accuracy in calculating a wide area of mask pattern to correct the optical proximity effect.例文帳に追加

光近接効果を補正するために大領域のマスクパターンの像計算を高速かつ精度よく行うことができる光近接効果補正の方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

When an inspection line is set in the estimated inspection area group, a solid line pattern L1 at the outer periphery of a two-dimensional code 101 can be immediately found, and the code existing region can be calculated.例文帳に追加

この推定された検査区域群中にて検査線を設定すれば、すぐに２次元コード１０１の外周の実線パターンＬ１が見つかり、コード存在領域も計算できる。 - 特許庁

To objectively and statistically confirm easiness in the establishment of timing to operate a pattern display device, and to utilize it for adjusting nails, or the like, on a game area on the side of a game parlor.例文帳に追加

図柄表示装置の作動契機成立の容易さを客観的かつ統計的に確認可能にして遊技場側での遊技領域の釘などの調整に利用可能にする。 - 特許庁

Further, in the special pattern image display area 32c of the liquid crystal display device 32, the variable display and stop display of identification information 94a, 94b and 94c for a performance are performed.例文帳に追加

さらには、液晶表示装置３２の特図画像表示領域３２ｃにおいては、演出用の識別情報９４ａ，９４ｂ，９４ｃの変動表示及び停止表示が行われる。 - 特許庁

To enable generating a reproduced clock by detecting phase error information without inserting a special recording pattern for phase error detection into a recording area in reproducing multi-value information.例文帳に追加

多値情報再生において、記録領域に位相誤差検出用の特別な記録パターンを挿入することなく、位相誤差情報を検出し、再生クロックの生成を可能とする。 - 特許庁

To provide a panel structure capable of forming a barrier rib having a pattern and a height in accordance with design in a display area without generating projections interfering with adhesion between substrates.例文帳に追加

基板どうしの密着に支障となる突起を生じさせることなく、表示領域にパターンおよび高さが設計どおりの隔壁を形成することのできるパネル構造を提供する。 - 特許庁

The terminal 3 generates an image exhibiting a normal pattern of the substrate based on CAD data as a reference image for supporting an operation of identifying an area to be visually inspected.例文帳に追加

目視端末３では、目視を行うべき場所を特定する作業を支援するための参照用画像として、ＣＡＤデータに基づき基板の正常パターンを示す画像を生成する。 - 特許庁

The converted contents are displayed in a converted character display area 112 so that the character contents can be confirmed by the user, and that pattern characters or symbols or the like can be additionally edited according to the taste of the user.例文帳に追加

この変換内容が変換文字表示エリア１１２に表示されるので、ユーザは確認できると共に、ユーザの好みにより絵文字や記号などの追加編集ができる。 - 特許庁

From the image data of a sky photograph obtained by the scan type microscope, the shape of the area in the vicinity of the pattern edge is digitized to evaluate the taper gradient of the sectional shape.例文帳に追加

走査型顕微鏡で得られた上空写真の画像データから、パターンエッジ近傍の領域の形状を数値化することによって断面形状のテーパ傾向を評価する。 - 特許庁

To effectively enhance illumination efficiency by providing a projection system in which the projection pattern of a light beam projected to an optical path switching device is fully enclosed by the light receiving area of the optical path switching device.例文帳に追加

光路スイッチング装置へ投影された光線の投影パターンが、光路スイッチング装置の受光域に完全に入れる投影システムを提供し、照明効率を効果的に高める。 - 特許庁

When the ratio of the area of the first portion to the whole area of the first pattern is denoted as R1 and the ratio of the area of the third portion to the whole area of the second pattern is denoted as R2, the relationship: R1≥R2×1.2 is satisfied.例文帳に追加

第１パターンを構成する面２１，２２を、平均表面粗さが１０ｎｍ以上である第１部分ｐａ１と、平均表面粗さで１０ｎｍ未満である第２部分ｐａ２とから構成し、第２パターンを構成する面２３，２４を、平均表面粗さが１０ｎｍ以上である第３部分ｐｂ１と、平均表面粗さで１０ｎｍ未満である第４部分ｐｂ２とから構成し、第１部分の第１パターンの全体に対する面積割合をＲ１とし、第３部分の第２パターンの全体に対する面積割合をＲ２として、Ｒ１≧Ｒ２×１．２の関係が成立している。 - 特許庁

When a recessed part formation area for shifter part formation is patterned, photoresist is applied on one surface of a substrate directly or via a metal film, the recessed part formation area of the photoresist is selectively exposed by a photorepeater, and further development processing is carried out to form a resist pattern having the recessed part formation area opened.例文帳に追加

シフター部形成用の掘り込み部形成領域のパタンニングの際、フォトレジストを、基板の一面上に、直接あるいは金属膜を介して塗布形成し、フォトリピータで、前記フォトレジストの掘り込み部形成領域を選択的に露光し、更に現像処理を施し、掘り込み部形成領域を開口したレジストパタンを形成するレジストパタン形成工程を有す。 - 特許庁

After a semiconductor element 114 is inserted into a substrate 122 by a semiconductor parts press-in device 173, a contact area increasing part 115 is formed in a bump 13 of the semiconductor element by contact area increasing devices 150 and 154, and a circuit pattern 116 is formed in the circuit connection part provided with the contact area increasing part so as to complete mounting.例文帳に追加

半導体部品押圧装置１７３にて半導体素子１１４を基材１２２に挿入後、半導体素子のバンプ１１３に対して接触面積増加装置１５０、１５４にて接触面積増加部１１５を形成し、該接触面積増加部を有する上記回路接続部に対して回路パターン１１６を形成することで実装を完成させる。 - 特許庁

To provide a base board for pattern coating, which can prevent supplied ink from being mixed with each other outside an area in which barrier ribs are formed, and at the same time, can prevent ink supplied outside the area in which the barrier ribs are formed from flowing into an area in which barrier ribs are formed, in selectively supplying ink by a coating method.例文帳に追加

塗布法によってインキを選択的に供給する際に、供給されたインキが、隔壁が形成される領域外で混ざり合うことを防ぐとともに、隔壁が形成される領域外に供給されたインキが、隔壁の形成された領域に流れ込むことを防ぐことができるパターン塗布用基板を提供することである。 - 特許庁

In a period of the right generation state, in the case that the normal pattern starts to vary again and the game ball is guided to the special area and detected in the special area switch, since the game ball is guided to the special area again in the period of the right generation state, the right generation state disappears at the point of time.例文帳に追加

権利発生状態である期間中において、再度、普通図柄が変動を開始し、遊技球が特別領域に誘導され特別領域スイッチで検出された場合には、権利発生状態となっている期間中に再度遊技球が特別領域に誘導されたので、その時点で権利発生状態は消滅する。 - 特許庁

In the image display device for the slot machine or the pachi-slo machine provided with a function which draws the inside of the predetermined rectangle area which consists of a plurality of pixels in a mosaic pattern, the mosaic encaustic drawing equipment 7 is provided which fills the rectangle area with the color which is the average of colors of the two arbitrary pixels within the rectangle area to be rendered in mosaic.例文帳に追加

複数のピクセルからなる所定の矩形領域内をモザイク模様に描画する機能を備えたスロットマシーン又はパチスロ機の画像表示装置において、モザイク化する矩形領域内の任意の２つのピクセルの色を平均化した色で、矩形領域内を埋めるモザイク模様描画装置７を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

Information padding in arbitrary images is enabled by preparing an area having a fixed scanning configuration irrespective of change, in a modulus of scanning area in a screen shape used in a screen processing to reproduce a gradation image on a printed matter, to make the scanning configuration of the area a suitable graphic for pattern matching or frequency characteristic.例文帳に追加

印刷物上で階調画像を再現する処理であるスクリーン処理の際に用いるスクリーン形状に、画線面積率の増減にかかわらず、一定の画線構成を有する領域を設け、その領域の画線構成がパターンマッチングや周波数特性に適した図形とすることによって、任意の画像に情報の埋め込みを可能とする。 - 特許庁

A plurality of line segments radially arranged concentrically with an intersection of diagonal lines of the sheet 100 as a base point are formed on the area A, and a plurality of line segments different (at angle) in a direction at each adjacent area are formed on the area B, and a ground pattern layer 10 uniformly printed is provided on the overall surface of the sheet 100.例文帳に追加

領域Ａには、商品券用紙１００の対角線の交点を基点とした同心円状に放射状に配列された複数の線分が形成され、領域Ｂには、隣り合う領域毎に方向（角度）の異なる複数の線分が形成され、また、商品券用紙１００の全面に均一に印刷される地紋層１０を設けて形成される。 - 特許庁

When the lines 95a and 95b cross the area 92 at the same speed, they have equal covering area per unit time from starting covering the area 92 until perfectly covering it up, and detection output from the sensor becomes trapezoidal waveform and a boundary between a belt surface and a pattern surface is sharp, whereby detecting accuracy is improved.例文帳に追加

直線９５ａ、９５ｂが同一速度で検出領域９２を横切った場合、いずれも、検出領域を覆い始めてから覆い尽くすまでの間、単位時間当たりの覆い隠す面積は等しくなり、センサーからの検出出力は台形の波形となり、ベルト面とパターン面の境界線が鮮明で、検出精度が向上する。 - 特許庁

When a microcomputer 4 detects an error, the microcomputer 4 selects a display pattern by each error occurrence location stored in a memory area of a ROM 5 based on the detected error and selects a restoration level stored in the memory area of the ROM 5 and applies display control to the display section provided to an operation panel 7 at the restoration level at which the display pattern is selected.例文帳に追加

マイクロ・コンピュータ４はエラーを検出すると、その検出したエラーに基づいて、ＲＯＭ５のメモリエリアに記憶されているエラーの発生場所毎の表示パターンを選択すると共にＲＯＭ５のメモリエリアに記憶されている復帰レベルを選択し、選択した表示パターンを選択した復帰レベルでオペレーションパネル７に設けられた表示部の表示制御をする。 - 特許庁

In the computer, the first setting means and the second setting means set a reading area and a reading sequence of the original by the image reading means according to a reading pattern selected from the pattern database in order to prepare one group of digital data from the original, and the image reading means reads the original in a reading sequence with the set reading area set therein.例文帳に追加

そして，コンピュータでは，原稿から１群のディジタルデータを作成するために，第１設定手段及び第２設定手段が，パターンデータベースから選択された読み出しパターンにしたがって，画像読取手段による原稿の読取領域及び読取順序を設定し，画像読取手段が，設定された読取領域を設定された読取順序で原稿を読み込む。 - 特許庁

To convert a size of a drawing pattern in an image processing command based on the available capacity of a detected storage area to reduce a painting-out pattern so as to be developable size, and to process image data including painting-out patterns which require a storage area greater than the available capacity, without memory overflow.例文帳に追加

検知した記憶領域の使用可能容量に基づいて画像処理のコマンドにおける描画パタンのサイズを変換するようにして、展開可能な大きさに塗りつぶしパタンを縮小することができ、記憶領域の使用可能容量を超える領域を必要とする塗りつぶしパタンを含む画像データを、メモリオーバーフローを引き起こすことなく処理することができるようにする。 - 特許庁

A printer controller as the image processing device for executing dither processing for printing input image data determines whether or not interference between a pattern of a dot area included in the input image data and a pattern of an output screen to be used for the dither processing exists or not (S103), and executes smoothing processing for the dot area in which the existence of interference is determined (S106, S107).例文帳に追加

印刷用の入力画像データに対してディザ処理を実行するための画像処理装置としてのプリンタコントローラは、入力画像データに含まれる網点領域のパターンとディザ処理に用いられる出力スクリーンのパターンとの干渉の有無を判定し（Ｓ１０３）、干渉有りと判定された網点領域に対してスムージング処理を実施する（Ｓ１０６、Ｓ１０７）。 - 特許庁

The area irradiated with the specific wavelength light is extracted from a plurality of shot frames, the predetermined pattern series is generated from the modulation state of the extracted specific wavelength light irradiation area, the control information is generated from the generated predetermined pattern series, and a display means for displaying the shot frames is controlled according to the control information.例文帳に追加

また、撮影された複数のフレームより特定波長光が照射された領域を抽出し、抽出された特定波長光照射領域について、その変調状態から前記所定のパターン系列を生成し、生成された所定のパターン系列より制御情報を生成し、その制御情報に基づいて、撮影されたフレームを表示する表示手段を制御する。 - 特許庁

An interval between the wiring conductor 85 and the wiring pattern 71 is widened so that an electric field intensity may be less than 1 MV/m between the wiring conductor 85 arranged in the mounting area of the driving IC and the wiring pattern 71 on a mounting face of the driving IC.例文帳に追加

そして、前記駆動用ＩＣ実装領域内に配置された配線導体８５と、前記駆動用ＩＣの実装面の配線パターン７１との間は、その電界強度が１Ｍ（メガ）Ｖ／ｍ以下となるように、配線導体８５と配線パターン７１との間隔を広げた。 - 特許庁

A portion of the phase shift mask above the contact holes is covered with one of patterns, a portion of the phase shift mask above respective transistors and the anti-electrostatic-discharge protecting circuit in the active area has a low light transmissivity pattern, and other parts of the phase shift mask have a high light transmissivity pattern.例文帳に追加

そのうち、コンタクトホール上方の一部の位相シフトマスクはいずれのパターンにも被覆されず、アクティブ領域内の各トランジスタ上方と抗静電放電保護回路上方の一部の位相シフトマスクは低透光率パターンを具え、位相シフトマスクのその他の部分は高透光率パターンを具えている。 - 特許庁