「Pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

In the following developing step, an alkaline developing solution is used to develop the photoresist film 30 processed in the exposure step to from a resist pattern 30B', and an area 22A exposing over the resist pattern 30B' in the protection layer 22 is removed, so that the protection layer 22 is etched.例文帳に追加

そして、次の現像工程において、アルカリ性現像液を用いて、上記露光工程を経たフォトレジスト膜３０を現像してレジストパターン３０Ｂ’を形成すると共に、防護層２２における該レジストパターン３０Ｂ’から露出している領域２２Ａを除去して防護層２２のエッチングを行なう。 - 特許庁

When it is determined that a variation display pattern of identification information has a specific variation display pattern when a game medium passes through a start area, specific presentation is performed, before a condition for starting identification information variation display to be determined.例文帳に追加

始動領域を遊技媒体が通過したときに、識別情報の可変表示パターンが特定の可変表示パターンとなると判定された場合に、当該判定対象となった識別情報の可変表示の開始条件が成立する以前に、特定演出を実行する。 - 特許庁

To provide a pattern synchronization circuit which rearranges parallel signals resulting from applying serial/parallel conversion to a frame signal received by a pattern evaluation device so as to match a head position of the frame with a position of a bit 0 of the parallel signals, the mount area of which can be configured small.例文帳に追加

パターン評価装置に入力されるフレーム信号のシリアル−パラレル変換後のパラレル信号を並び替えて、フレームの先頭位置をパラレル信号のBIT０の位置に合わせるパターン同期回路において、実装面積が小さく構成することが可能となるパターン同期回路の提供。 - 特許庁

That is, they have the head mounting part 43 where the magnetic head 44 is mounted thereon, a wiring pattern 47 extended from this head mounting part 43, and the convex patterns which are formed in the area where the magnetic head 44 on the head mounting part 43 is to be positioned and are isolated from the wiring pattern 47.例文帳に追加

磁気ヘッド４４が搭載されるヘッド搭載部４３と、このヘッド搭載部４３から延出する配線パターン４７と、前記ヘッド搭載部４３上の磁気ヘッド４４が位置決めされる領域に形成され、前記配線パターン４７から隔離された凸パターンとを有する。 - 特許庁

Meanwhile, in the case of a RAM disk or a hybrid disk, the length of the recording information is decided by a data amount decision part 78 and when it is not the required length, a test pattern generated in a test pattern generator 62 of a media side EN/D and servo circuit 60 is written into a RAM area of the disk.例文帳に追加

しかし、ＲＡＭディスクやハイブリッドディスクの場合は、データ量判定部７８によって記録情報の長さが判定され、これが必要な長さでない場合は、メディア側ＥＮ／Ｄ＆サーボ回路６０のテストパターン発生器６２で発生したテストパターンをディスクのＲＡＭ領域に書き込む。 - 特許庁

To provide a threshold matrix where the regularity of a dot pattern in a local area is enhanced so as to improve problems of the uniformity and a virtual image thereby obtaining a visually excellent dot pattern and to provide a grey level reproducing method and device utilizing the matrix.例文帳に追加

局所領域内のドットパターンの規則性を高めることによって、一様性および虚像の問題を著しく改善し、視覚的に優れたドットパターンを得られるようにした閾値マトリックス、及びそれを利用した階調再現方法とその装置を提供を目的とする。 - 特許庁

To accurately correct misregistration of an image even if a pattern for detecting the misregistration of the image greatly shifts from a pattern read area owing to abnormality of an apparatus, abrupt environmental change, etc., during installation.例文帳に追加

本発明は、画像形成装置の設置時、当該装置の異常や急激な環境変化等に起因して、画像位置ずれを検出するためのパターンがパターン読み取り領域から大きく外れることがあっても、画像の位置ズレ補正を正確に実施することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The camera calibration device determines whether or not the calibration pattern is observed by the plurality of cameras based on the photographing results, creates the designation contents for putting the calibration pattern in the common photographing area and observing the same by the plurality of cameras based on the photographing results on deciding that the pattern is not observed, and informs an operator for performing calibration pattern arrangement work of the designation contents.例文帳に追加

カメラ校正装置は、前記撮影結果に基づいて前記校正パターンが前記複数のカメラによって観測されているか否かを判断し、観測されていないと判断した場合、前記校正パターンを前記共通撮影領域内に収めて前記複数のカメラにて観測させるための指示内容を前記撮影結果に基づいて作成し、その指示内容を校正パターンの配置作業を行う作業者に対して通知する。 - 特許庁

This package is provided with a plurality of wiring patterns 2 formed across a divided groove 6 between adjacent wiring board areas and a conduction pattern 5 formed over the divided groove 6 between the adjacent wiring patterns 2 and connected to only one wiring board area with respect to one wiring pattern 2, and the conduction pattern 5 is almost orthogonal to the divided groove 6 and curved between the wiring pattern 2 and the divided groove 6.例文帳に追加

隣接する配線基板領域の間で分割溝６を横切って形成された複数の配線パターン２と、隣接する配線パターン２間で分割溝６を越えて形成され、かつ１本の配線パターン２に対して一方のみの配線基板領域において接続されている導通パターン５とを具備し、この導通パターン５は、分割溝６に対して略直交し、かつ配線パターン２と分割溝６との間で湾曲している。 - 特許庁

The cell sheet 300 is a film made of a CAB, and is comprised of an opaque area 310 where a pattern is gravure printed with an opaque ink, and a transparent area 320 kept transparent without a print and facing a part of a liquid crystal screen and a winning ball collecting gutter assembly 400.例文帳に追加

セルシート３００は、ＣＡＢからなるフィルムであって、絵柄を不透明インクによりグラビア印刷された不透明領域３１０と、印刷を行うことなく透明体のままとされた、液晶画面および入賞球集合樋アッセンブリ４００の一部に対向する透明領域３２０からなる。 - 特許庁

On the other hand, when the drive of the movable piece 142 is controlled in a winning route from the side of a normal pattern start port 96, the game ball which enters the internal area of the mechanical drawing device is received in a specified area (flow-down route 343) by the extremely high probability.例文帳に追加

これに対し、普通図柄始動口９６側からの当たりルートにて可動片１４２の駆動制御が行われるときは、機械抽選装置の内部領域に入球した遊技球は極めて高い確率で特定領域（流下経路３４３）に受け入れられる。 - 特許庁

When the drawing instruction does not consider the resolution (S225: NO), the printer driver executes a drawing processing by increasing the width of a line used as a drawing object or the size of a unit pattern used for fill at magnification equivalent to a ratio of the resolution of a drawing area for display to that of a drawing area for print (S235).例文帳に追加

解像度を考慮していない場合は（Ｓ２２５：ＮＯ）、表示用描画領域と印刷用描画領域との解像度比に相当する倍率で、描画対象となる線の太さないし塗りつぶしに使う単位パターンの大きさを拡大して、描画処理を実行する（Ｓ２３５）。 - 特許庁

This storage device is provided with a storage device module 13, which has a data area for writing contents data and an identifier area for writing an identifier, and a storage device module holding frame 11 holding the storage module 13 and carrying an attached graphic pattern 14 matching the identifier and visually recognizable from the outside.例文帳に追加

コンテンツデータが書き込まれるデータ領域および識別子が書き込まれる識別子領域を有する記憶装置モジュール１３と、記憶装置モジュール１３を保持するとともに、識別子に対応し、かつ外部から視認可能な絵柄１４が付されている記憶装置モジュール保持枠１１と、を備える。 - 特許庁

With an internodal communication speed exponent of each dimensional direction of an n-dimensional data area, parallel processing performances by arbitrary nth partition patterns are computed and compared, and an internodal data communication time is minimized, so that an area partition pattern maximizing parallel processing performance can be decided.例文帳に追加

Ｎ次元データ領域の各次元方向毎のノード間通信速度指数を用いて、任意のｎ分割パターンに対する並列処理性能を算出比較してノード間のデータ通信時間を最小化することにより並列処理性能を最大化する領域分割パターンを決定することができる。 - 特許庁

The disclosed method includes steps of: acquiring image information; analyzing the image information; specifying a simulated search column area corresponding to a predetermined pattern simulating a search column; and extracting a search keyword from the simulated search column area, wherein the search keyword is used to perform search processing or the pre-processing of a search.例文帳に追加

画像情報を取得し、前記画像情報を解析し、検索欄を模した所定パターンに該当する擬似検索欄領域を特定し、前記擬似検索領域から検索キーワードを抽出するステップし、前記検索キーワードを用い、検索処理又は検索の前処理を行う。 - 特許庁

The surface of the disk 12 held in a vertical attitude is irradiated with illumination light of an illumination light pattern serving as an irradiation range of almost the same shape as an inspection area including an edge, from lighting systems 112, 114, 116, 118, and reflected light from the inspection area portion including the edge is imaged by cameras 102, 104.例文帳に追加

垂直姿勢で保持されたディスク12の面に対し、照明装置112，114,116,118からエッジを含んだ検査領域の形状と略同一形状の照射範囲となる照明光パターンの照明光を照射し、当該エッジを含んだ検査領域部分からの反射光をカメラ102,104によって撮像する。 - 特許庁

Therefore, although the eight kinds of sheets, when visually observed, seem to have the same pattern which is recognized as a design glittered by reflected light in the grooves, codes embedded therein can be recognized with the area of the thick black line as "1" and the area of the thin black line as "0" by mechanical image reading.例文帳に追加

このため、肉眼観察時には、８種類のシートは、同一の模様を有し、溝内の反射光によりキラキラ光るデザインとして認識されるが、機械により画像を読み取れば、太い黒線の領域が「１」、細い黒線の領域が「０」として、埋め込まれたコードが認識される。 - 特許庁

When an image display 110 for displaying an image interlocking with a display image on a special pattern display 50 inside a game area 4 is arranged on the outside of the game area 4, degrading in the game property due to decrease of the obstacle nails accompanying increase in the size of the display screen can be prevented.例文帳に追加

遊技領域４内の特別図柄表示装置５０の表示画像と連動した画像を表示する画像表示装置１１０を前記遊技領域４外に設けたので、表示画面の大型化に伴う障害釘の減少等によるゲーム性の低下を回避することができる。 - 特許庁

Thereby, a photosensitive film pattern is formed including a first portion positioned in a channel area between the source electrode and the drain electrode and having a first thickness, and a second portion having a larger thickness than the first thickness and positioned in a wire area corresponding to the data line and a drain electrode.例文帳に追加

これにより、ソース電極及びドレイン電極の間のチャンネル領域に位置して第１の厚さを有する第１部分と、第１の厚さよりも厚い厚さを有してデータ線及びドレイン電極に対応する配線領域に位置する第２部分とを有する感光膜パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an optical disk drive and its control method in which a laser diode is controlled stably without affecting to other data by recording a test pattern in at least one region out of a run-in area and a run-out area of a recording unit block and detecting the characteristics of the laser diode.例文帳に追加

記録単位ブロックのラン−イン領域とラン−アウト領域のうち少なくとも一つにテストパターンを記録し、レーザーダイオードの特性を検出することで、他のデータに影響を及ぼすことなく、レーザーダイオードを安定的に制御する光ディスクドライブ及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

A curved line vector data substitution part 71 of the division drawing part 7 preferably replaces a curved line vector data existing outside the partial drawing area with a straight line vector data, out of the vector data constituting a pattern serving as an object of division drawing in every partial drawing area, and carries out paint-out processing.例文帳に追加

好ましくは、分割描画部７の曲線ベクターデータ置換部７１は、部分描画領域ごとに分割描画の対象となる図形を構成するベクターデータのうち、その部分描画領域の外にある曲線ベクターデータを直線ベクターデータに置き換えて、塗りつぶし処理を行う。 - 特許庁

Since relative difference in the exposure range of the photoresist film is generated based on existence of the reflection suppressing layer 31 between the area F1 and an area F2, a tilt angle ωR of a defined surface 35RM of the photoresist pattern 35 is made larger than a tilt angle ωL of a defined surface 35LM.例文帳に追加

領域Ｆ１，Ｆ２間において反射抑制層３１の有無に基づいてフォトレジスト膜の露光範囲に相対的な差異が生じるため、フォトレジストパターン３５の画定面３５ＲＭの傾斜角度ωＲが画定面３５ＬＭの傾斜角度ωＬよりも大きくなる。 - 特許庁

The controller 26 has a speed control pattern having a high-speed carrying area to drive the index table 22 in a non-soldering mode at a relatively high speed, and a soldering speed area to drive the index table 22 in a soldering mode at a soldering speed set according to the work W.例文帳に追加

コントローラ２６は、非はんだ付け時のインデックステーブル２２を比較的高速で駆動する高速搬送領域と、はんだ付け時のインデックステーブル２２をワークＷに応じて設定したはんだ付け速度で駆動するはんだ付け速度領域とを有する速度制御パターンを備えている。 - 特許庁

The image processing apparatus is characterized in the provision of a generating means that generates 2nd dot patterns of a plurality of kinds equivalent to a 1st area smaller than a 1st dot pattern denoting prescribed information and of an imbedding means that selectively imbeds the 2nd dot patterns by each 1st area.例文帳に追加

所定の情報を示す第１のドットパターンよりも小さい第１の領域に相当する複数種類の第２のドットパターンを発生する発生手段と、前記複数種類の第２のドットパターンを前記第１の領域毎に切り替えて埋め込む埋め込み手段とを有することを特徴とする。 - 特許庁

Namely, for example, even in such a case that a large original is scanned and a reduced image is formed, since the area (detection object area) in which the specific pattern is included is extracted in the wider range to image data on the large original, the detection accuracy is raised.例文帳に追加

すなわち、例えば、大きな原稿がスキャンされ縮小画像が形成されるような場合でも、当該大きな原稿の画像データに対して、より広い範囲で特定パターンが含まれる領域（検出対象領域）を抽出することができるため、検出精度を高めることができる。 - 特許庁

Thus, collation processing is performed while altering the fingerprint identification information by area which shows features of the fingerprints of the user, it also becomes difficult to presume the fingerprint identification information by area from the registered ID pattern X, and specification of the fingerprint information on each individual is prevented.例文帳に追加

これによりユーザの指紋の特徴を示したエリア別指紋識別情報を改変させつつ照合処理を行うことができ、かつ登録ＩＤパターンＸからエリア別指紋識別情報が推測されることも困難となり、各個人の指紋情報が特定されることを防止し得る。 - 特許庁

The structure of the gray level can be worked by controlling the quantity of exposure transmitting the binary mask 60 on the basis of the area ratio of ON/OFF of the dots 61 and exposing a worked body by density corresponding to the area ratio without faithfully reproducing the pattern of dots 61 of the mask 60.例文帳に追加

このドット６１のオン・オフの面積比率により、２値マスク６０を透過する露光量を制御することにより、マスク６０のドット６１のパターンを忠実に再現するのではなく、面積比率に対応した濃淡で被加工体を露光し、グレーレベルの構造を加工することができる。 - 特許庁

Since a head address of a memory area when writing is performed coincides with a head of the sequence patterns, the musical sound waveforms are sequentially read from the head address of the memory area synchronizing with the head of the sequence pattern in the case of reproducing, to synchronize a sequencer with waveform reading.例文帳に追加

書き込みを行ったときの記憶エリアの先頭番地が、シーケンスパターンの先頭に一致しているので、再生を行う場合はシーケンスパターンの先頭に同期して、記憶エリアの先頭番地から順次、楽音波形が読み出されてシーケンサと波形読み出しの同期が取れる。 - 特許庁

A magnification estimate section 2 uses the pattern consisting of the information relating to the partial image outputted from the partial image detection section 1, detects an area where a prescribed number of partial images are in existence and discriminates a magnification of the input image based on the information of the area.例文帳に追加

変倍率推定部２は、部分画像検出部１から出力される部分画像に関する情報によって構成されるパターンを用い、部分画像が所定数だけ存在する領域を検出し、その領域の情報から、入力画像の変倍率を判定する。 - 特許庁

In a manufacturing process for a semiconductor integrated circuit device using electron beam exposure at least in part of the process, a dummy chip area is exposed to light using a mask having a dummy chip pattern of a size equal to or smaller than a maximum opening area allowable in an electron beam exposure device.例文帳に追加

プロセス工程の少なくとも一部で電子ビーム露光を用いる半導体集積回路装置の製造工程において、ダミーチップ領域を露光する際に、電子ビーム露光装置で許容される最大開口面積以下のサイズのダミーチップ用パターンを有するマスクを用いて露光する。 - 特許庁

The mask M is provided with small-sized masks M1 to M4, and the mask stage 1 retains a plurality of small-sized masks M1 to M4, such that the sum of effective exposure area of the plurality of small-size masks M1 to M4 becomes larger than the area of one complete pattern which is exposed and transferred to the substrate W.例文帳に追加

マスクＭは複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４を備え、且つ、マスクステージ１は、複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４の有効露光面積の合計が基板Ｗに露光転写される１つの完成パターンの面積よりも大きくなるように、複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４を保持する。 - 特許庁

This peel liner having on one surface a microembossed pattern comprising many mutually connected linear protuberances is characterized in that the rate of the total area of land portions defined by the above-mentioned protuberances on the basis of the total area of the surface is 60 to 97 %.例文帳に追加

相互に接続している多数の線状隆起部により構成される微細エンボスパターンを一表面に有する剥離ライナーであって、前記表面の総面積に対する前記隆起部により規定されるランド部の面積の割合が６０〜９７％であることを特徴とする剥離ライナー。 - 特許庁

This lead frame laminate has a lead frame 10 which have multiple terminals arranged in multiple adjacent openings and makes it possible to seal the multiple chips with resin in a pattern together at a time and an adhesive tape 20 which is stuck on an area including the whole circumference outside the resin-sealed area 12.例文帳に追加

隣接した複数の開口に端子部を複数配列して、複数の半導体チップを型内で一括に樹脂封止できるようにしたリードフレーム１０と、その樹脂封止される領域１２の外側の全周を含む領域に貼着された粘着テープ２０とを備えるリードフレーム積層物。 - 特許庁

The local clean area 20 having the necessary cleanness can be formed in an arbitrary area in the clean room, by a conveying rail 5 arranged in a lattice-like pattern in the clean room, and a self-propelled fan filter unit 8 capable of being freely moved along the conveying rail 6.例文帳に追加

クリーンルーム内に格子状に配置された搬送用レール６と、搬送用レール６に沿って自由に移動させることができる自走式ファンフィルタユニット８とにより、クリーンルーム内の任意の領域に必要なクリーン度を有する局所クリーン化領域２０を形成することができる。 - 特許庁

To surely and easily perform control for properly using a mode in which an image forming apparatus itself is adjusted by singly generating a special pattern in a non-image area and a mode in which it is adjusted by every fixed number of printed sheets by using the non-image area such as space between paper and paper during actual image printing operation.例文帳に追加

非画像領域に単独で特殊パターンを生成させて画像形成装置自身の調整を行うモードと、実際の画像印字動作中に、紙間などの非画像領域を用いて一定の印字枚数毎に行うモードとの使い分け制御を確実、且つ容易に行う。 - 特許庁

A second amount of dimensional fluctuation which is the total of the first amount of dimensional fluctuation and an amount of dimensional fluctuation caused by the loading effect depending upon the pattern distribution of a second area smaller than the first area is obtained in accordance with the amount of irradiation for proximity effect correction, the first amount of dimensional fluctuation, and the ratio.例文帳に追加

近接効果補正照射量、第１の寸法変動量及び比率に応じて、第１の寸法変動量と、第１の領域よりも小さい第２の領域のパターン分布に依存するローディング効果による寸法変動量との和である第２の寸法変動量を取得する。 - 特許庁

An operator group 100 which describes a drawing object 200 formed by painting out a part of a drawing area 201 (an area of a shading pattern 202) with shading and uniformly painting out a background section 204 with a prescribed background color is replaced between a first operator group 106 and a second operator group 108.例文帳に追加

描画領域２０１の一部（シェーディングパターン２０２の領域）をシェーディングで塗り潰し、且つ、背景部２０４を所定の背景色で均一に塗り潰す描画オブジェクト２００を記述するオペレータ群１００を、第１オペレータ群１０６と第２オペレータ群１０８とに置換する。 - 特許庁

The display control part 120 reads a screen mode corresponding to the category discriminated by the discrimination section 110 and an arrangement pattern from a memory 700 in response to the content of a screen setting table, and set a display area R1 and an operation area R2 in accordance with the read screen mode (S3).例文帳に追加

表示制御部１２０は、画面設定テーブルの内容に従って、判別部１１０が判別したジャンルに対応する画面モードおよび配置パターンをメモリ７００内から読み出し、読み出した画面モードに従って、表示領域Ｒ１および操作領域Ｒ２を設定する（Ｓ３）。 - 特許庁

A pixel area for error measurement 140 of a dummy pixel area 120 in a solid state image sensing element is regarded as one of layers composing a pixel of the solid state sensing element as a reference layer and is provided with a measuring pattern displaced in phase in two dimensional (x, y) directions to the reference layer.例文帳に追加

固体撮像素子のダミー画素領域１２０の誤差測定用画素領域１４０には、固体撮像素子の画素を構成するあるレイヤーの１つを基準レイヤーとし、この基準レイヤーに対して２次元（ｘ，ｙ）方向に段階的にずらした測定用パターンが設けられている。 - 特許庁

The multi-screen display device discriminates an area of a teletext broadcast part in a reduced display of a data broadcast image pattern and displays it with focus so as to allow a user to easily understand the presence of the teletext part and displays the teletext area with magnification up to the original size when the user uses a remote commander 20 to select the focused part.例文帳に追加

データ放送画面の縮小表示では、文字放送表示部分の領域を判断し、フォーカス表示して文字部分があることを分かり易くすると共に、そのフォーカス部分をリモコン２０で選択することで元のサイズまで文字領域を拡大表示する。 - 特許庁

At the time of defining the area (average) of the boundary part of adjacent holes 1a of the base body 1 as A[μm^2] and the maximum cross section area (average) of the hole 1a as B[μm^2], the osteogenic treatment device controls the pattern of the osteogenesis corresponding to the size of the value of B/A.例文帳に追加

本発明の骨形成治療デバイスは、基体１の隣接する空孔同士１ａの境界部の面積（平均）をＡ［μｍ^２］とし、空孔１ａの最大断面積（平均）をＢ［μｍ^２］としたとき、Ｂ／Ａの値の大小に応じて、骨形成のパターンを制御し得ることを特徴とする。 - 特許庁

In this case, since the maximum area S2 of a dropping cross section CS of the molten glass is ≥0.64 time and ≤4.0 times an arrangement area Sp of a concave-convex pattern CP which is a fine structure, the molten glass can be allowed to collide onto the lower die 1 as a glass drop GD having a sufficiently large size.例文帳に追加

この際、溶融ガラスの滴下断面ＣＳの最大面積Ｓ２が、微細構造である凹凸パターンＣＰの配置面積Ｓｐの０．６４倍以上４．０倍以下であるので、溶融ガラスを十分大きなサイズを有するガラス滴ＧＤとして下型１上に衝突させることができる。 - 特許庁

A plurality of recessed and projected parts are alternately formed at a fixed cycle in an area different from an area where user information is recorded, and a clock generation pattern is formed to generate ±m-th order diffraction lights (m=0, 1, 2, etc.), when a vertically incident light is reflected.例文帳に追加

ユーザ情報が記録される領域とは異なる領域に、複数個の凹部及び凸部が一定周期で交互に形成され、かつ垂直入射した光を反射した場合に±ｍ次回折光（ｍ＝０，１，２，…）を生成するクロック生成パターンが形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an RFID antenna and a method of manufacturing the same in which costs can be reduced, by electrically connecting an inner substrate area and an outer substrate area over a loop pattern, even on a single-sided printed circuit board, without having to separately provide any jumper.例文帳に追加

片面プリント基板であってもループパターンを跨いでその内側の基板領域と外側の基板領域とを別途ジャンパーを設けることなく電気的に接続可能とすることにより、コストダウンを図ることのできるＲＦＩＤ用アンテナ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, when the set pattern is included in the log stored in the RAM area 1040 for the debug log at the set timing, the log stored in the RAM 1040 for the debug log is saved in a permanent area in an HDD 208 at the timing.例文帳に追加

さらに、前記設定されたタイミングにデバッグログ用ＲＡＭ領域１０４０に記憶されているログ内に前記設定されたパターンが含まれている場合に、前記タイミングにデバッグログ用ＲＡＭ領域１０４０に記憶されているログをＨＤＤ２０８の永続化領域に退避させる。 - 特許庁