意味 | 例文 (540件) |
W Hの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 540件
A work W is constituted by fitting an integrated formed part of a rubber elastic body R which is the mount main body and a coupling A to a cylindrical housing H from above.例文帳に追加
マウント本体であるゴム弾性体R及び連結金具Aの一体成形品を、円筒状のハウジングHに上方から嵌め入れて、ワークWを構成する。 - 特許庁
Data of magnetic flux density (H-B curve) in a magnetic field and the iron loss (W-B curve) are stored in a database 3 using the angle θ and a stress σ as parameters.例文帳に追加
磁界に対する磁束密度(H−B曲線)及び鉄損(W−B曲線)のデータは、角度θと応力σをパラメーターとしてデータベース3に格納しておく。 - 特許庁
A top plate load deriving part 381 derives the load W applied to the top plate 31 from the detected compressive load applied to the piston rod 352 and the detected height position H of the upper part frame 32.例文帳に追加
天板荷重導出部381は、検知されたピストンロッド352に掛かる圧縮荷重と、検知された上部フレーム32の高さ位置Hとに基づいて、天板31に掛かる荷重Wを導出する。 - 特許庁
Preferably, the width W of the variable electric potential region H for forming one dot is set to the extent that temperature of the whole region becomes substantially uniform.例文帳に追加
1ドットを形成する電位変化領域Hの幅Wは、この領域全体の温度が実質的に均一になる程度に設定することが好ましい。 - 特許庁
For example, in a Japanese syllabary input mode, consonant phonemes "A, K, S, T, N" are set in a first group L palette, and "H, M, Y, R, W" are set in a second group L palette.例文帳に追加
例えば仮名入力モードの場合、子音音素の「A,K,S,T,N」は第1群Lパレットに、「H,M,Y,R,W」は第2群Lパレットに設定される。 - 特許庁
The effective length W of the guide rail 22 is made two times or more the width H, L, N of the doctor roll 12, doctor blade 13 and the main carrier 20.例文帳に追加
ガイドレール22の有効長さWは、ドクターロール12とドクターブレード13と主キャリア20の幅H・L・Nの2倍以上にする。 - 特許庁
A plurality of electrode circuits are formed in areas between the key top parts 3a and the key top parts 3b and in areas where the interval width dimension W thereof is smaller than the height (h) of the key top.例文帳に追加
キートップ部3aとキートップ部3bの間領域であって、その間隔幅寸法Wがキートップ部の高さhよりも小さい領域に、複数の電極回路を敷設している。 - 特許庁
The hash forming section 32 forms hash h by mapping the key padding host data w with a monodirectivity function and imparts the hash to an encrypting section 34.例文帳に追加
ハッシュ生成部32は、鍵埋め込みホストデータwを一方向性関数で写像することによりハッシュhを生成し、暗号化部34に与える。 - 特許庁
To provide a coaxial cable improved in flexibility and shielding performance, in particular, shielding performance at SW-FM bands, and achieving integration with a wiring harness (W/H).例文帳に追加
ケーブルの可撓性及び遮蔽性能、特にSW帯域〜FM帯域における遮蔽性能を向上させ、ワイヤーハーネス(W/H)との統合化を図ることができる同軸ケーブルを提供する。 - 特許庁
Next, the wire harness W/H is directly laid down on the surface of the door inner panel along the wire support part 13b projected from the surface of the door inner panel 11.例文帳に追加
次いで、ドアインナーパネル11の表面から突出する電線受部13bに沿ってワイヤハーネスW/Hを表面上に直接布線する。 - 特許庁
To achieve throttling as one method of the temperature control of a CPU only by an S-I/O(serial input/output module) having only a basic H/W(hardware) monitor function and a BIOS operation without executing polling.例文帳に追加
CPUの温度制御の一方法であるスロットリングを、ポーリングを実施せずに、基本的なH/W(ハードウェア)モニター機能のみを有するS−I/O(シリアル入出力モジュール)とBIOS動作のみで実現する。 - 特許庁
The low frequency component of the texture has a high frequency component superposedly formed thereon and the texture of the high frequency component preferably has 0.1 to 20 nm width W' and 0.1 to 1 nm height H'.例文帳に追加
低周波成分には高周波成分が重畳的に形成され、その高周波成分のテクスチャーの幅W´は0.1〜20nmで、高さH´は0.1〜1nmであることが好ましい。 - 特許庁
The width h where an exposure head is relatively moved in a sub-scanning direction with respect to a substrate 9 between a preceding scanning exposure and a succeeding scanning exposure is shorter than the width w of one scanning region As in the sub-scanning direction.例文帳に追加
先行の露光走査と後続の露光走査との間で基板9に対して露光ヘッドを副走査方向に相対移動する幅hは、一つの走査領域Asの副走査方向の幅wよりも短くなっている。 - 特許庁
Additionally, the scaffolding 6 is repeatedly built on the new surface part W, and the unit 2 is sequentially moved upward at almost the same pitch P as the height H of the unit 2.例文帳に追加
さらに、この新たな壁面部Wに足場6の組み立てを繰り返し、足場枠ユニット2を、順次、上方へ、足場枠ユニット2の高さHと略同一のピッチPで上昇させてゆく。 - 特許庁
Both terminals of the metal chain 2 are buried into the nonmetallic chain 3 to be constituted integrally, and the metal chain 2 is set at least within 40-70% of a tread width H of the tire W.例文帳に追加
前記金属製チェーン2の両端末部は、非金属チェーン3に埋設されて一体的に構成され、金属製チェーン2は、タイヤの接地幅Hの少なくとも40〜70%に設定されている。 - 特許庁
This mounting tool 1 has an anchor holder 10 for positioning an anchor 5 into a prepared hole H formed in concrete W, and a push-in rod 20.例文帳に追加
コンクリートWに形成した下穴H内にアンカー5を位置決めするアンカー保持具10と、押込み棒20とを有する取付工具1である。 - 特許庁
Therein, the average interval (d), film thickness (H), average width (W) and inclination angle for the basic body of the plate-shaped metals 42 in the plate-shaped structure are set in a visible light wavelength region so as to obtain a satisfactory polarizing performance.例文帳に追加
その板状構造体における板状金属42の平均間隔(d)、膜厚(H)、平均幅(W)、および基体に対する傾斜角を可視光波長領域において十分な偏光性能が得られるように設定する。 - 特許庁
Each of the fibers for the second web 3 is formed so that a width w/height h ratio in the cross section in the direction orthogonal to the length direction is ≤0.5.例文帳に追加
第2ウェブ3の繊維6は、長さ方向に直交する方向の断面における幅wと高さhとの比h/wが0.5以下に形成される。 - 特許庁
Thus, antenna spatial volume "W×H×D-LW×LH×LD", including the antenna element 5 and a feeding point 18, to the camera shield plate 16, is expanded.例文帳に追加
これにより、アンテナエレメント5および給電点18を包含しカメラシールド板16までのアンテナ空間体積「W・H・D−LW・LH・LD」を広くすることができる。 - 特許庁
The periphery of the head 12H is excavated in a width dimension W and a depth dimension H, and the soil-cement improvement body 12 and the foundation slab 23 are joined with concrete 27.例文帳に追加
頭部12Hの周囲は、幅寸法W、深さ寸法Hで掘削され、コンクリート27でソイルセメント改良体12と基礎スラブ23が接合されている。 - 特許庁
The coil main body 10 is housed in the casing C, and the electric wire W fetched out from the one end of the coil main body 10 is drawn outside of the casing C through an opening H provided to the casing C.例文帳に追加
コイル本体10は、ケースC内に収容され、その一端から導出した電線WがケースCに設けられた開口部Hを通してケースC外へと引き出されている。 - 特許庁
Then, at a vertically lower portion than the lens 10d, there is provided a dewatering protrusion 12c which prevents the washing fluid W having flowed from the lens 10d side from flowing around into the lower side of the housing H.例文帳に追加
そして、レンズ10dよりも鉛直方向下側部位には、レンズ10d側から流れてきた洗浄液WのハウジングHの下側への回り込みを回避する水切突起12cが設けられる。 - 特許庁
A rectangular parallelepiped protrusion 21 having height H_B and width W_B is formed on a silicon substrate and a gate oxide film is formed partially on the top surface and the side wall face of the protrusion 21.例文帳に追加
シリコン基板上に高さH_Bで、幅がW_Bの直方体状の突出部21を形成し、突出部21の頂面及び側壁面の一部にゲート酸化膜を形成する。 - 特許庁
The apparatus for producing a gas hydrate in a high concentration comprises reacting water (w) with a gas (g) to produce a gas hydrate (h) and then dehydrating the gas hydrate.例文帳に追加
水wとガスgとを反応させてガスハイドレートhを生成した後、このガスハイドレートを脱水して高濃度のガスハイドレートを製造する装置である。 - 特許庁
Processing for generating intermediate data from PDL data, and processing for converting the intermediate data into image data are executed by respective hardwares (CPU 106, a drawing processing H/W 109).例文帳に追加
PDLデータから中間データを生成する処理と、中間データを画像データに変換する処理とを、別々のハードウェア(CPU106、描画処理H/W109)で実現する。 - 特許庁
The suction device 15 and the peeling means 17 are formed so as to intermittently peel off the protection sheet H from the wafer W by relatively moving while alternately performing peeling operation and non-peeling operation.例文帳に追加
吸着装置15及び剥離手段17は、剥離動作と反剥離動作とを交互に行いながら相対移動することにより、保護シートHをウエハWから断続的に剥離するように設けられている。 - 特許庁
Further, the unit 20 moves the guide roller 12 toward the guide roller 14 to draw the peeling tape so that the protective tape united with the peeling tape H is peeled from the edge of the semiconductor wafer W on both sides of the cut.例文帳に追加
またユニット20は、ガイドローラ12をガイドローラ14へ向けて移動させることで、剥離テープHと一体となった保護テープが切込の両側で半導体ウェーハWの縁部から剥がれるように剥離テープを引っ張る。 - 特許庁
The level of the end of a pipe 14 through which clean water flows out of the cleaning means 13 is disposed at a position higher than the maximum underground water level W_H in the outside area.例文帳に追加
浄化手段13からの浄水流出用配管14の末端のレベルは、外側領域の最高地下水位W_Hよりも高位置に位置している。 - 特許庁
The bathtub water temperature lowering time Δt_W is calculated on the basis of the heat resistivity H, the bathtub water temperature T_WP, a bath heat retaining operation start temperature T_WS, and the average outside air temperature T_fAve.例文帳に追加
そして、この熱抵抗率H、浴槽水温度T_WP、風呂保温動作開始温度T_WS、および平均外気温度T_fAveに基づいて、浴槽水温度低下時間Δt_Wを算出する。 - 特許庁
The pipe member 24 is formed into a cross sectional shape in which the length H in a substantially perpendicular direction under the floor is shorter than the length W in a substantially horizontal direction under the floor.例文帳に追加
パイプ部材24は、床下略直交方向の長さHが床下略平行方向の長さWよりも短い断面形状に形成されている。 - 特許庁
In a second grinding step, the side end edge of the metal ring W is ground while the grinding brush 2 is arrested at the second predetermined position H.例文帳に追加
次いで、研削ブラシ2の第2の所定位置Hを拘束した状態で金属リングWの側端縁に研削加工を施す第2の研削工程を行う。 - 特許庁
Thus, the hole H is locked by the projection 15e and the elastic repulsion force of the bottom spring 17 acts as a force for pushing up the peripheral wall W, so a holding force to the shield case C and electric conduction become extremely excellent.例文帳に追加
穴Hを突起15eにて係止し、底バネ部17の弾性反発力が周壁Wを押し上げる力として作用するので、シールドケースCに対する保持力も、電気的な導通も極めて優れたものになる。 - 特許庁
The projecting part 11 is extended to go along a human body height direction H in the left abdomen-corresponding region L and the right abdomen-corresponding region R, and extended to go along a human body width direction W in the upper side abdomen-corresponding region U.例文帳に追加
突起部11は、左下腹部対応部L及び右下腹部対応部Rでは、人体身長方向Hに沿うように延設され、上方下腹部Uでは、人体幅方向Wに沿うように延設されたものである。 - 特許庁
The electronic component 1 has a size of ≤1,005 M, namely, a dimension W of ≤1.05 mm in a longitudinal direction (shown by an arrow L) and a dimension H of ≤0.55 mm in a lateral direction (shown by an arrow S).例文帳に追加
電子部品1の寸法は1005M以下、すなわち、長手方向(矢印Lで示す方向)における寸法Wは1.05mm以下、短手方向(矢印Sで示す方向)における寸法Hは0.55mm以下である。 - 特許庁
The semi-finished article M is pushed out from the steel sheet W, and the outer circumferential surface 85 and temporary hole h of the semi-finished article M are corrected while the front and rear surfaces of the semi-finished article M are sandwiched.例文帳に追加
この鋼板Wから中間品Mを押し出すと共に、中間品Mを表裏から挟んだ状態として、当該中間品Mの外周面85及び仮穴hを矯正する。 - 特許庁
In outer dimensions of an eccentric shaft 29B, a dimension H of a portion parallel to an eccentric direction D1 is controlled to be smaller than a dimension W of a direction perpendicular to the eccentric direction D1 and to an axial direction of the eccentric shaft 29B.例文帳に追加
偏心軸29Bの外形寸法のうち、径方向D1と平行な部位の寸法Hを偏心方向D1及び偏心軸29Bの軸線方向D2と直交する方向の寸法Wよりも小さくする。 - 特許庁
The color elements R, G, B and W of the plurality of colors are repetitively arranged in a prescribed order in a short side direction of the display area H and the color elements of the same color are arranged in a stripe shape in a long side direction.例文帳に追加
表示領域Hの短辺方向において、複数色の色要素R,G,B,Wが所定の順序で繰り返し配列されるとともに、長辺方向において、同色の色要素がストライプ状に配列されている。 - 特許庁
The web 4 of the first steel member 2 is joined by welding w or bolted to the web 6 of the second steel member 4 so that the members are integrated into an H-shaped cross-sectional configuration having a predetermined radius of curvature R.例文帳に追加
第1の鋼材2のウェッブ4と、第2の鋼材4のウェッブ6とを溶接wまたはボルト接合して、所定の曲率半径Rを有するH形断面形態に一体化する。 - 特許庁
Further, the width W of the chain conveyor 38 is made smaller than a diameter ϕD of the container 20, whereas the height H of the guide device 40 from the upper face of the chain conveyer 38 is made larger than a diameter ϕD of the container 20.例文帳に追加
また、チェーンコンベア38の幅Wを容器20の直径φDよりも小さくする一方、チェーンコンベア38上面からのガイド装置40の高さHを容器20の直径φDより大きくする。 - 特許庁
To sufficiently enhance the operationability of a surface treatment method with electric discharge for an inner circumferential surface of a hole H of a valve guide W, while shortening a discharge-suspended period.例文帳に追加
放電中断時間の短縮化を図りつつ、バルブガイドWの穴Hの内周面に対する放電表面処理の作業性を十分に向上させること。 - 特許庁
When the event is detected, the value of a low limit threshold "below whose value a normal operation is made available" is reset from a normal H/W Monitor low limit threshold.例文帳に追加
イベントが検出されると通常のH/W Monitor下限閾値から「この値以下であれば正常動作可能」という下限閾値の値を再設定する。 - 特許庁
The depth (h) of the groove 8 is 5-20 mm, the width (w) is 5-20 mm, a dimension (t) of one side of the top surface is 5-20 mm, and the area of the top surface is 25-400 mm^2.例文帳に追加
溝8の深さhは5〜20mm、幅wは5〜20mm、頂面の一辺の寸法tは5〜20mm、頂面の面積は25〜400mm^2である。 - 特許庁
The average value h is calculated by finding an area of the bright part image 25 within the inspection objective part 26, and by dividing the area with the X-axis direction full length W of the bright part image 25.例文帳に追加
平均値hは、検査対象部26内の明部像25の面積を求め、この面積を検査対象部26のX軸方向の全長Wで除することにより算出する。 - 特許庁
A large number of parallel fine grooves 10 are made helically in the inner surface and the ratio of the groove width W along the axial direction of a tube/the groove depth H is set in a range of 1-2.例文帳に追加
内面に平行な多数の微細な溝10が螺旋状に形成され、前記溝10は管軸方向に沿う溝幅W/溝深さH=1〜2であることを特徴とする。 - 特許庁
A tape 12 is wound on a range from a position of the step difference of the elastic segment 10a to the base side, and the connector 10 is fixed to a bus line K of a wire harness W/H.例文帳に追加
コネクタ10は、弾性片10aの段差10cの位置より基部側への範囲にテープ12を巻き付けてワイヤハーネスW/Hの幹線Kに固定している。 - 特許庁
It is favorable that the width (w) of the projection ridge 2 per one for the peripheral length of the inner peripheral surface is beyond 0% and less than 25%, and its height (h) is within the range from 0.5 mm upto the thickness (t) of the pipe material.例文帳に追加
また、内周面の円周長さに対する1個当たりの凸条2の幅wが、0%を越え25%未満であり、かつ凸条2の高さhが、0.5mmからパイプ材の肉厚tまでの範囲内にあることが、好ましい。 - 特許庁
The liquid crystal layer side surface of the CF substrate 51 has a projection 33 of height H and width W, while the liquid crystal layer side surface of the TFT substrate 52 in the region facing the projection 33 has a recess 34 of a depth D and a width W2.例文帳に追加
CF側基板51の液晶層側表面には高さH、幅W1の凸部33を有し、TFT側基板52の液晶層側表面であって凸部33に対向する領域には深さD、幅W2の凹所34を有する。 - 特許庁
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