「amorphous」に関連した英語例文の一覧と使い方(145ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a microscopic crystal silicon thin film solar battery, which can be formed using a deposition process that can be utilized at this point of time by forming an n-type hydrogenated amorphous silicon layer on the side of the reflection electrode of the n-type hydrogenated microscopic crystal silicon layer, and improved output characteristic can be exhibited.例文帳に追加

ｎ型水素化微結晶シリコン層の反射電極側にさらにｎ型水素化アモルファスシリコン層を形成することによって、現時点で利用可能な堆積プロセスを使用して形成されることができる、改善された出力特性を発揮できる微結晶シリコン薄膜太陽電池を提供する。 - 特許庁

In the method, the organic layer is constituted in such a way that (a) it comprises organic compounds of two types or above which are selected from a group formed of an n-type organic compound and a p-type organic compound, and (b) the organic compounds of two types or above coexist in the amorphous state.例文帳に追加

その方法は、前記有機層を、（ａ）ｎ型有機化合物およびｐ型有機化合物からなる群から選択される二種以上の有機化合物を含有する、および（ｂ）それら二種以上の有機化合物のいずれもがアモルファス状態で混在する、をいずれも満たすように構成することを特徴とする。 - 特許庁

A coating liquid containing an amorphous metal oxide is applied onto a conductive substrate 3 and further the particle of the metal oxide is applied without any crystallization, and then both of them are heat-treated simultaneously, so that a ground layer 7 made of a fine crystallization particle and a porous metal oxide layer 8 are formed in the method for manufacturing a semiconductor electrode 2.例文帳に追加

導電性基板３上に、非晶質金属酸化物を含む塗布液を塗布し結晶化せずに、さらに金属酸化物の粒子を塗布し、これらを同時に加熱処理することで緻密な結晶化粒子からなる下地層７と多孔質な金属酸化物層８とを形成する半導体電極２の製造方法。 - 特許庁

An adhesion layer containing amorphous carbon nitride (a-CNx:H) is formed on a laminate comprising an organic material formed on an inorganic material, an interface between an organic material and an inorganic material in a laminate wherein the organic material is formed on the inorganic material and the interface between an adhesive and a substrate hardly adhesive to the adhesive.例文帳に追加

無機材上に有機材が形成された積層体や、有機材の上に無機材が形成された積層体などにおける有機材と無機材との界面や、接着剤とこの接着剤に対して難接着性の基材との界面にアモルファス窒化炭素（ａ−ＣＮｘ：Ｈ）を含む密着層を形成する。 - 特許庁

The soft magnetic base layer 13 is constituted of at least two soft magnetic layers, a first soft magnetic layer 132 formed on the recording layer side comprises an amorphous alloy containing ≤85 at% Co and a second soft magnetic layer 131 formed on the substrate side comprises an alloy containing >85 at% Co.例文帳に追加

軟磁性下地層１３は少なくとも二層の軟磁性層から構成され、記録層側に形成された第一軟磁性層１３２はＣｏを８５ａｔ％以下含有する非晶質合金からなり、基板側に形成された第二軟磁性層１３１はＣｏを８５ａｔ％より多く含有する合金からなる。 - 特許庁

The method for removing heavy metals contains amorphous titanium hydroxide (IV), wherein heavy metals are adsorbed by the heavy metal removing agent, and the heavy metals are efficiently removed and are insolubilized by adding the heavy metal removing agent to the water (surface water, underwater, wastewater, and the like) or soils contaminated with heavy metals such as cadmium, lead, chromium and stirring the same.例文帳に追加

非晶質水酸化チタン（IV）を含有する重金属除去剤であって、カドミウム、鉛、クロムなどの重金属で汚染された水（地表水、地下水、廃水など）や土壌に添加して撹拌することにより、前記重金属除去剤に重金属を吸着させ、これら汚染重金属を効率よく除去、不溶化する。 - 特許庁

This is an X-ray mask which has an X-ray absorber made selectively on an X-ray transmitting film 2, and as this X-ray absorber 1, amorphous structure of TaSiAl, TaSiTi, TaSiCr, TaSiMo, TaSiCu, TaGeAl, TaGeTi, TaGeCr, TaSiMo, or TaGeCu is used.例文帳に追加

Ｘ線透過膜２上に選択的に形成されたＸ線吸収体１を有するＸ線マスクであって、このＸ線吸収体１として、アモルファス構造のＴａＳｉＡｌ、ＴａＳｉＴｉ、ＴａＳｉＣｒ、ＴａＳｉＭｏ、ＴａＳｉＣｕ、ＴａＧｅＡｌ、ＴａＧｅＴｉ、ＴａＧｅＣｒ、ＴａＳｉＭｏ、ＴａＧｅＣｕを用いる。 - 特許庁

An alloy 31 which has glass transition temperature and crystallization temperature and also has an amorphous structure is disposed between a semiconductor chip 11 and a wiring layer 14, and while they are pressed, the alloy 31 is heated to the level of a temperature between the glass transition temperature and crystallization temperature to bond the semiconductor chip 11 and wiring layer 14 together.例文帳に追加

ガラス転移温度と結晶化温度を有し、かつアモルファス組織を有する合金３１を半導体チップ１１と配線層１４との間に配置して、これらを加圧しつつ、合金３１をガラス転移温度から結晶化温度までの間の温度に加熱して半導体チップ１１と配線層１４接合する。 - 特許庁

After a TiN barrier layer 6 and an Ru lower electrode 4 are successively formed on an Si substrate 7, the substrate 7 is introduced to a film forming chamber and an amorphous perovskite type oxide film 1 composed of (Ba, Sr)TiO3(BST) is deposited on the electrode 4.例文帳に追加

ペロブスカイト型酸化物薄膜を、酸化物を一般式ＡＢＯ_3 （但し、Ａは２価金属元素、鉛およびランタンから選ばれる１種以上の元素、Ｂは４価金属元素から選ばれる１種以上の元素である。）で表記したときのＡ元素／Ｂ元素比が１．１〜２．０であり、かつそのグレイン構造がグラニュラー構造であるものとする。 - 特許庁

In respective cases, a clad plate material is made by laminating a plurality of quenched thin belts composed of the Ni-based amorphous metal material and by integrating them into one piece, and after that clad plate material is once cooled, the recess 21 is formed by applying die press-working.例文帳に追加

いずれも、Ｎｉ基アモルファス金属材料からなる急冷薄帯を、ガラス遷移温度以上であって結晶化温度よりも低い過冷却液体温度域にて複数枚積層・一体化することによりクラッド板材を作り、そのクラッド板材を一旦冷却後、金型プレス加工を施すことにより凹部２１が形成される。 - 特許庁

The invention presents an internal therapeutic product comprising (i) an anti-cancer component selected from one or both of a radionucleotide and a cytotoxic drug and (ii) a silicon component selected from one or more of resorbable silicon, biocompatible silicon, bioactive silicon, porous silicon, polycrystalline silicon, amorphous silicon and bulk crystalline silicon.例文帳に追加

(i)放射性ヌクレオチド、細胞毒性薬物の1つまたは双方から選ばれた抗癌成分；および(ii) 吸収性シリコン、生体適合性シリコン、バイオ活性シリコン、多孔質シリコン、多結晶質シリコン、非晶質シリコン、および体積結晶質シリコンの1種以上から選ばれたシリコン成分を含む内部治療用製品を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic fibrous material and an amorphous inorganic fibrous composition which can have a small coefficient of linear shrinkage at heating even when a bio-dissolvable inorganic fiber is used as a main component, and which is reduced in the degradation of the bio-dissolvable inorganic fiber during production and storage.例文帳に追加

主成分として生体溶解性無機繊維を用いても、加熱線収縮率を小さくできる無機繊維質成形体及び不定形無機繊維質組成物、並びに製造時や保管中に生体溶解性無機繊維の劣化が少ない無機繊維質成形体及び不定形無機繊維質組成物を提供することにある。 - 特許庁

The invention relates to the rubber composition comprised of a functionalized styrene/butadiene elastomer containing internal silanol and/or siloxy group(s) therein with pendent silanol and/or alkoxy groups of a polymodal (e.g. bimodal) molecular weight distribution, a dispersion therein of a synthetic amorphous silica and styrene/alpha-methylstyrene resin, and the invention relates to the tire using the same.例文帳に追加

多モード（例えば、２モード）分子量分布のシラノール側基および／またはアルコキシ側基を有する内部シラノールおよび／またはシロキシ基を含む官能化スチレン／ブタジエンエラストマー、並びに、その中に分散されている、合成非晶質シリカおよびスチレン／α−メチルスチレン樹脂を含んでなるゴム組成物、およびそれを用いたタイヤに関する。 - 特許庁

The composition is characterized by containing (A) a polyamide resin of 30-70 wt.% of which at least one part has crystallinity, (B) a semiaromatic amorphous polyamide resin of 1-20 wt.%, (C) a reinforcing material of 5-30 wt.%, (D) a magnesium hydroxide of 5-40 wt.% and (E) a red phosphorus of 0.1-10 wt.%.例文帳に追加

（Ａ）少なくとも一部が結晶性であるポリアミド系樹脂30〜70重量％、（Ｂ）半芳香族非結晶性ポリアミド樹脂１〜20重量％、（Ｃ）強化用材料5〜30重量％、（Ｄ）水酸化マグネシウム5〜40重量％および（Ｅ）赤リン0.1〜10重量％を含有することを特徴とする難燃性ポリアミド樹脂組成物。 - 特許庁

The amorphous alloy has a composition containing: Cu; Ni; Al; Nb; ≥50 atom% Zr; Au or Ag; and unavoidable impurities; wherein the molar ratios x and y of Au and Ag, respectively, in the entire composition satisfy the relations of 0.4%≤x≤0.7% and 0%<y<0.5%, respectively.例文帳に追加

Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｎｂ、原子比率が５０％以上のＺｒ、及びＡｕもしくはＡｇ、並びに不可避元素を含み、組成全体に占めるＡｕの比率ｘ、Ａｇの比率ｙ（ｘ，ｙはモル比を表す）は、それぞれ０．４％≦ｘ≦０．７％、０％＜ｙ＜０．５％の関係を満たす組成を有している。 - 特許庁

The molded body comprises solidifying a poorly water-soluble and biodegradable material having any one or more forms selected from the group consisting of an amorphous powder, a scale-like powder, a chopped strand with a length of 10 mm or less, and a cotton-like fiber with a length of 10 mm or less using a biodegradable material capable of composing an aqueous gel, as a binder.例文帳に追加

不定形の粉末、鱗片状の粉末、長さ１０ｍｍ以下のチョップドストランド、長さ１０ｍｍ以下の綿状の繊維からなる群から選ばれる何れか１以上の形状である難水溶性生分解性材料を、水性ゲルを構成しうる生分解性材料をバインダーとして固化してなる成形体。 - 特許庁

The method for manufacturing the flash memory device comprises the steps of forming the dielectric film 25, and then forming an amorphous silicon layer 31 to alleviate a topology generated by patterning a first polysilicon layer 24 in a cell region so that the silicon layer 31 conducts a role of a dielectric film protective layer of the cell region at the time of forming the gate oxide film 26 of the peripheral circuit region.例文帳に追加

誘電体膜２５を形成した後、アモルフォスシリコン層３１を形成してセル領域で第１ポリシリコン層２４のパターニングで発生したトポロジーを緩和させ、アモルフォスシリコン層３１が周辺回路領域のゲート酸化膜２６形成の時にセル領域の誘電体膜保護層の役割をするようにする。 - 特許庁

To provide: a graphite-amorphous carbon composite material for manufacturing a battery which has excellent quick charge and discharge characteristics, cycle characteristics, and electrode density characteristics, hardly causes decomposition of an electrolyte, and has excellent safety, and a method for producing the same; a negative electrode for a battery which is expected to achieve a high capacity and a high energy density; and the battery.例文帳に追加

急速充放電特性、サイクル特性及び電極密度特性が優れ、電解液の分解が生じにくく安全性が優れる電池を製造可能な黒鉛−非晶質炭素複合材料とその製造法、高容量及び高エネルギー密度を期待できる電池用負極、電池を提供する。 - 特許庁

An amorphous tantalum oxide film of thickness 10 nm or so is deposited on the primary surface of a semiconductor substrate 1 where an element isolation structure 9, an N-type semiconductor region 10, an N-type well 12, and a P-type well 11 are formed, and the semiconductor substrate 1 is thermally treated in an oxidizing atmosphere at a temperature of 800°C for three minutes.例文帳に追加

素子分離構造９、ｎ型半導体領域１０、ｎ型ウエル１２およびｐ型ウエル１１が形成された半導体基板１の主面上に、約１０ｎｍの膜厚の非晶質の酸化タンタル膜を堆積し、これをたとえば酸化性雰囲気において８００℃、３分間の熱処理を行う。 - 特許庁

After the molten amorphous resin weighed by an injection unit 1 is injected and packed in the cavity 14 of a mold-clamped packing volume V_2, in a process for cooling the resin to its apparent glass transition temperature, the core side mold 16 is moved in the mold opening direction to form a clearance S between it and an unfoamed molding P_1.例文帳に追加

型締めした充填容積Ｖ_2 のキャビティ１４に射出ユニット１にて計量した溶融非晶性樹脂を射出・充填したのち、見掛けガラス転位温度まで冷却する途中に、コア側金型１６を型開き方向へ移動させて未発泡成形体Ｐ_1 との間に隙間Ｓを発生させる。 - 特許庁

The magneto-optical recording medium 1 is constituted by successively laminating a first protective film 3 consisting of a silicon nitride film, for example, a magneto-optical recording film 4 consisting of a Tb-Fe-Co amorphous alloy and a second protective film 5 consisting of a silicon nitride film on a carrier substrate 2 as a substrate for recording media consisting of, for example, an Si substrate.例文帳に追加

光磁気記録媒体１は、例えばＳｉ基板からなる記録媒体用基板としての担持基板２上に、窒化珪素膜からなる第１の保護膜３、例えばＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ系アモルファス合金からなる光磁気記録膜４、窒化珪素膜からなる第２の保護膜５を順に積層して構成されている。 - 特許庁

To prevent generation of neck-in and variation in width caused by poor close contact of a edge part of the sheet with a roll, eliminate non- uniformity in a surface state, makes production possible over a long period of time, and improves strippability of the sheet, together with prevention of generation of curling in the thickness direction of the sheet, when an amorphous polyester sheet is produced.例文帳に追加

アモルファスポリエステルシートを製造するに際し、ネックインの発生を防止し、シートの耳部のロールへの密着の悪さによる幅変動を防止し、表面状態のムラをなくし、長期にわたる生産を可能にし、かつシートの厚み方向のカールの発生を防止するとともにそのスリップ性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a polysilicon thin film for TFTs, in which a combination of a continuous-wave laser beam having a wavelength range of red light to near-infrared light and a pulse laser beam having a wavelength range of visible light to ultraviolet light is used to transform an amorphous silicon thin film deposited on a substrate into a polycrystalline silicon thin film.例文帳に追加

赤色から近赤外線領域の連続発振レーザビームと可視光線から紫外線領域のパルスレーザビームを組み合わせ、基板上に蒸着された非晶質状態のシリコン薄膜を多結晶状態のシリコン薄膜に変換するＴＦＴ用多結晶シリコン薄膜を製造する方法を提供する。 - 特許庁

At least the surface of the die at the portion for pressing the powder is composed of at least a rough surface or a mixed layer of an electrode and a base material of the die caused by electric discharge machining, and an amorphous carbon based hard layer which has residual stress lower than 0.3 GPa or less and is formed on the rough surface or the mixed layer.例文帳に追加

少なくとも前記粉末を押圧する部位の金型表面を、粗面または放電加工による電極と金型基材との混合層と、前記粗面または前記混合層上に成形された０．３ＧＰａ以下の残留応力を有する非晶質炭素系硬質膜とから少なくとも構成する。 - 特許庁

The quartz substrate with the zinc oxide thin film is characterized by containing Zn, Si and oxygen on the quartz substrate, forming an intermediate layer comprised of an amorphous thin film of which the Zn/Si atomic ratio is 0.22-3.7 and preferably the thickness is about 10-80nm, and then forming the crystalline zinc oxide thin film preferentially oriented to the c axis direction thereon.例文帳に追加

石英基板上に、ＺｎとＳｉと酸素を含み、Ｚｎ／Ｓｉ原子比が０．２２〜３．７ の非晶質薄膜からなる、好ましくは厚みが約１０〜８０ ｎｍ の中間層を形成した後、その上に、ｃ軸方向に優先配向した結晶質のＺｎＯ薄膜を形成した、ＺｎＯ薄膜付き石英基板とする。 - 特許庁

Since at least part of the hydrogen atoms contained in the i-layer 14 terminates the dangling bond of silicon atoms and/or iron atoms in the i-layer 14, many trap levels which may occur in the amorphous iron silicide film can be dissolved and, accordingly, the i-layer 14 reveals the characteristics of an intrinsic semiconductor layer.例文帳に追加

ｉ層１４においては、そこに含まれる水素原子の少なくとも一部がケイ素原子及び／又は鉄原子のダングリングボンドを終端することにより、非晶質の鉄シリサイド膜中に生じ得る多数のトラップ準位を解消でき、これによりｉ層１４が真性半導体層としての特性を発現する。 - 特許庁

Before an ion injecting process (stage S2) as an object of metal contamination evaluation is performed, an amorphous silicon layer 2 is formed (stage S1) on a silicon substrate surface (a surface of a silicon wafer 1) to suppress a crystal defect induced nearby the surface of the silicon wafer 1 due to injection energy in the silicon injection stage S2.例文帳に追加

金属汚染評価対象であるイオン注入処理（工程Ｓ２）を行う前に、シリコン基板表面（シリコンウエハ１の表面）に非晶質シリコン層２を形成する（工程Ｓ１）ことにより、イオン注入工程Ｓ２において注入エネルギーによりシリコンウェハ１の表面近傍に誘発される結晶欠陥を抑制することができる。 - 特許庁

The inorganic fiber including SiO_2, MgO and manganese oxide as essential components and including an amorphous parts comprising these prescribed components in the structure, is obtained by heating and melting a starting material including SiO_2, MgO and manganese oxide as essential components, at 1700-2000°C and then quenching the melt to fiberize.例文帳に追加

ＳｉＯ_2、ＭｇＯ及び酸化マンガンを必須成分として含有する出発原料を、１７００〜２０００℃の温度に加熱して溶融し、得られた融液を急冷して繊維化して、ＳｉＯ_2、ＭｇＯ及び酸化マンガンを必須成分として含有し、かつ前記成分からなる非晶質部分を構造中に含むことを特徴とする無機繊維を得る。 - 特許庁

The magnesium oxide thin film has magnesium crystal phases with an average crystallite diameter of 1 to 18 nm and containing elements selected from among a group comprising aluminum, silicon, zinc, gallium, germanium, arsenic, cadmium, indium, tin, antimony, mercury, thallium, lead and bismuth, in a range of 0.0001 to 0.15 mol, dispersed in a magnesium oxide amorphous phase.例文帳に追加

マグネシウム１モルに対して、アルミニウム、ケイ素、亜鉛、ガリウム、ゲルマニウム、ヒ素、カドミウム、インジウム、スズ、アンチモン、水銀、タリウム、鉛及びビスマスからなる群より選ばれる元素を０．０００１〜０．１５モルの範囲にて含む、平均結晶子径が１〜１８ｎｍの範囲にある酸化マグネシウム結晶相が酸化マグネシウム非晶質相に分散されてなる酸化マグネシウム薄膜。 - 特許庁

Subsequently, the amorphous silicon film 20 on an insulating film 14 is irradiated with a laser beam and melted, and liquid phase growth of molten silicon is performed using grains of the polycrystal silicon 21 appearing at the opening of the pore 16 as seed crystal thus forming a pseudo-single crystal silicon film 23 having the pore 16 as an origin.例文帳に追加

次に、絶縁膜１４上の非晶質シリコン膜２０にレーザ光を照射することによって溶融させ、溶融したシリコンを、微細孔１６の開口部に表われた多結晶シリコン２１の結晶粒を種結晶として液相成長させることにより、微細孔１６を基点とする擬似単結晶シリコン膜２３を形成する。 - 特許庁

A plurality of recessed parts 25 forming a part of the molding cavity 11 and having smooth surfaces are formed to the DLC film 25 having an amorphous structure not having crystal orientation properties by a converged ion beam capable of being converged up to several nm so as to be accurately matched with a desired molding shape.例文帳に追加

この結晶方位性のないアモルファス構造のＤＬＣ被膜２５に数ｎｍまで集束可能な集束イオンビームによって、成形キャビティ１１の一部をなす複数の凹部２５を形成することで、所望の成形形状に合わせて正確に凹部２５を形成することができると共に、表面がなめらかな凹部２５を形成することができる。 - 特許庁

A polyphenylene sulfide laminated film in which a polymer film layer comprising an amorphous polyester resin composition is laminated at least on one side of a polyphenylene sulfide film, and the heat shrinkage factor at 230°C of both shafts is at least -1-10% and a capacitor using the laminated film.例文帳に追加

ポリフェニレンスルフィドフィルムの少なくとも片面に非晶性ポリエステル樹脂組成物を成分とする高分子フィルム層が積層されたポリフェニレンスルフィド積層フィルムであって、該積層フィルムの両軸の２３０℃熱収縮率が−１％以上、１０％未満であることを特徴とするポリフェニレンスルフィド積層フィルム、およびそれを用いたコンデンサ。 - 特許庁

This binder composition for amorphous refractory comprises a novolak type phenol resin and a resol type phenolic resin at a ratio of 95/5-50/50 where a part or the whole part of the phenols in the novolak type phenol resin is cresol and the proportion of the cresol is ≥5 wt.% in the phenols in the novolak type phenol resin.例文帳に追加

ノボラック型フェノール樹脂とレゾール型フェノール樹脂の配合比率が９５／５〜５０／５０で、ノボラック型フェノール樹脂の原料となるフェノール類の一部又は全部がクレゾールである不定形耐火物用結合剤組成物であり、ノボラック型フェノール樹脂の原料となるフェノール類中のクレゾール比率は５重量％以上が好ましい。 - 特許庁

The amorphous resin composition contains 85-95 wt.% polymer having ≥120°C glass transition temperature (Tg) measured based on the ASTM-D-3418 regulation and containing a structure unit having the ultraviolet absorption ability and 15-5 wt.% styrene-based polymer (B) compatible with the polymer (A) and containing a styrene unit.例文帳に追加

ＡＳＴＭ−Ｄ−３４１８の規定に基づき測定したガラス転移温度（Ｔｇ）が１２０℃以上であり、かつ、紫外線吸収能を有する構成単位を含む重合体（Ａ）を８５〜９５重量％と、重合体（Ａ）と相溶する、スチレン単位を含むスチレン系重合体（Ｂ）を１５〜５重量％とを含む非晶性樹脂組成物とする。 - 特許庁

Specifically, electrons present among Mg, Al, and O, which are the components of the MgAl_2O_4 material, are highly densely excited through an ion irradiation of the MgAl_2O_4 material, so that the MgAl_2O_4 material is changed into an amorphous state from a crystalline state.例文帳に追加

詳しくは、本発明は、ＭｇＡｌ_2Ｏ_4材料をイオン照射処理することにより、その材料の構成要素であるＭｇ、Ａｌ及びＯの原子間に存在する電子が高密度に励起されＭｇＡｌ_2Ｏ_4が結晶晶状態から非晶質状態に移行することを特徴とする、ＭｇＡｌ_2Ｏ_4を非晶質化する方法を課題解決手段とする。 - 特許庁

This biodegradable resin composite material-molded material having high rigidity and impact strength comprises ≥2 biodegradable resins having different transition points by taking a melting point as the transition point in a crystalline biodegradable resin, and a glass transition point in an amorphous biodegradable resin as the transition point, and ≥1 biodegradable resin is dispersed as a fibrous state.例文帳に追加

結晶性の生分解性樹脂では融点、非晶性の生分解樹脂ではガラス転移温度を転移温度としたときに、該転移温度の異なる２つ以上の生分解性樹脂からなり、１つ以上の生分解性樹脂が繊維状に分散した高剛性および耐衝撃性を有する生分解性樹脂複合材料成形品である。 - 特許庁

To provide a catalyst powder for a solid polymer fuel cell, which pulverizes a metallic glass while maintaining the amorphous state of the metallic glass, prevents coagulation of generated fine particles of metal glass, and improves electrode property by generating zirconium oxide on the surface of the metallic glass fine particles with a high dispersion.例文帳に追加

金属ガラスの非晶質状態を維持したまま金属ガラスを微粉砕することが可能で、生成した金属ガラス微粒子の凝集を防止でき、かつ、酸化ジルコニウムを金属ガラス微粒子表面に高い分散度をもって生成させることによって電極性能を向上させることができる固体高分子形燃料電池触媒粉末を提供する。 - 特許庁

This waste solidified body solidified such that leaching of a radionuclide is suppressed when disposing of waste in a great depth underground comprises the radioactive waste mainly consisting of a porous and amorphous inorganic compound including the radionuclide, and at least the whole surface is imparted with a water-impermeable dense structure by high-temperature isotropic-pressure processing.例文帳に追加

大深度地下に処分されたときの放射性核種の浸出を抑制するように固化された廃棄物固化体であって、前記放射性核種を含む多孔性および非晶質の無機化合物を主成分とする放射性廃棄物からなり、少なくとも表面全体が高温等方圧処理により不透水性の稠密構造にされているものである。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display composed of a TFT structure in which oxidation of wiring material or the like is prevented by forming an oxide coating film having high adhesion with a semiconductor layer or a pixel electrode, and a source electrode or a drain electrode sandwiched between a semiconductor layer of amorphous silicon or the like and a passivation layer has stable ohmic joining property.例文帳に追加

半導体層あるいは画素電極との密着性が高い酸化被膜を形成して、配線材料等の酸化を防止できると共に、アモルファス・シリコンなどの半導体層とパッシベーション層に挟持されたソース電極あるいはドレイン電極が安定なオーミック接合性を有するＴＦＴ構造からなる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The recording carrier card has a first recording area in which information to be managed is recorded and a second recording area in which an amorphous ferromagnetic material layer having predetermined specific saturated magnetic characteristics is arranged at a place different from the first recording area and a necessary number of through holes are to be punched.例文帳に追加

記録担体カードは、管理対象情報を記録する第１の記録領域と、該第１の記録領域とは別の位置に予め定めた特定の飽和磁気特性を有するアモルファス強磁性材料層が配置されるとともに必要な個数のパンチ穴をあけることを予定して設けられた第２の記録領域とを備えた構成を有している。 - 特許庁

In the resin composite type damping plate and a press-molded body and the case cover for a hard disk drive using the damping plate, the intermediate resin layer of the damping plate is made a heat-curable amorphous viscoelastic body 20-80 mass% in gel fraction.例文帳に追加

樹脂複合型制振板、および、これを用いたプレス成形体ならびにハードディスクドライブ用ケースカバーにおいて、樹脂複合型制振板の中間樹脂層を、ゲル分率が２０質量％以上、８０質量％以下の非晶性の熱硬化性粘弾性体とし、これにより制振板の耐熱剥離性と耐樹脂はみだし性を著しく向上させることを可能とした。 - 特許庁

The thin ferroelectric films having uniaxial preferential orientability are manufactured by forming ≥2 kinds of the thin ferroelectric films having a plurality of kinds of the preferential orientability on a polycrystalline Pt film formed on a substrate of any among a single crystal, polycrystals, or amorphous material by using an a chemical solution deposition process and an arc discharge reactive ion plating process.例文帳に追加

化学溶液堆積法とアーク放電反応性イオンプレーティング法を用いて、単結晶、多結晶、非晶質の何れかの基体上に形成された多結晶のＰｔ膜上に、２種類以上の複数種の優先的な結晶配向性の強誘電体酸化物薄膜を形成し、１軸優先配向性の強誘電体薄膜を作製する。 - 特許庁

The amorphous semiconductor film is doped with a catalytic element, a crystal semiconductor film is formed by a first heat treatment, the catalytic element is transferred to an n-type dopant layer formed on the crystal semiconductor film by a second heat treatment, and the first/second island-like crystal semiconductor films are formed on the first/second gate electrodes by patterning.例文帳に追加

非晶質半導体膜に触媒元素を添加し、第１の加熱処理により結晶性半導体膜を形成し、第２の加熱処理により、結晶性半導体膜に設けられたＮ型不純物層に、触媒元素を移動させ、パターニングして第１／第２のゲイト電極上に第１／第２の島状の結晶性半導体膜を形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for film deposition capable of effectively preventing film peeling generated in a reaction vessel during the film deposition, suppressing generation of dust in a vacuum vessel, and suitable for forming the deposited film having less spherical projections and excellent quality, in particular, for forming an amorphous silicon photosensitive member.例文帳に追加

堆積膜形成中に反応容器内で発生する膜はがれを効果的に防止できるとともに、真空容器内でのダストの発生を抑制することができ、球状突起の少ない品質の優れた堆積膜、特にアモルファスシリコン系感光体の形成に好適な堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst component for olefin polymerization which has a high polymerization activity; can produce a polyolefin having a broader molecular weight distribution, and controls the formation of an amorphous polymer by-produced, a catalyst for olefin polymerization, a method for producing the olefin polymer, and an electron-donating compound which is used in preparing the catalyst component for olefin polymerization.例文帳に追加

高い重合活性で、分子量分布がより広く、副生する無定形重合体の生成が抑えられた重合体を製造しうるオレフィン重合用触媒成分、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法、並びに該オレフィン重合用触媒成分を調製する際に用いられる電子供与性化合物を提供すること。 - 特許庁