「arc source」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an electromagnetic relay unit having a constitution that a damage accompanied with a generation of arc can be prevented even if coupling of an electromagnetic relay and a relay socket is released in a state that a power source is continuing to be connected.例文帳に追加

電源が接続されたままの状態下で電磁リレーとリレーソケットとの連結が解かれたとしてもアークの発生に伴う損害が生じることを防止できる構成とされた電磁リレーユニットの提供を目的としている。 - 特許庁

To provide a power source of an electric arc welder in which the induction time of switches is long, the clamping circuits of two parallel primary circuits can be suitably turned on in a suitable time, and the balance of capacitors can be taken.例文帳に追加

電気アーク溶接機において、スイッチの誘導時間が長く、２つの並列の一次回路のクランプ回路にとり適当な時間で適切にターンオンすることができ、コンデンサがバランスがとれる電気アーク溶接機の電源の提供。 - 特許庁

At a time of the degassing treatment, a back pressure of the turbo molecular pump 13a of the ion source is measured by a vacuum gage 13f and a pressure information in the arc-chamber 12a during a conduction heating is obtained and a conduction heating and degassing status is monitored.例文帳に追加

デガス処理の際、イオン源のターボ分子ポンプ１３ａの背圧を真空計１３ｆにより測定することにより、通電加熱中のアークチャンバ１２ａ内の圧力の情報を取得して通電加熱、デガス状態を監視する。 - 特許庁

A long contact and a short contact are mounted in an electric connector so as to be connected between a power supply source and a load through the same electric line, and arc discharge occurring when the electrical connector is disconnected is prevented.例文帳に追加

一つの長接触子と一つの短接触子を電気コネクタに組込み、両方の触子を同じ電線路を介して電源と負荷との間に接続し、電気コネクタが切り離されるときに発生するアーク放電を防止する。 - 特許庁

To provide a light-emitting device and a display device using this light-emitting device as the light source capable of realizing high brightness by enhancing high-voltage safety and then by increasing an anode voltage by suppressing occurrence of arc discharge inside a vacuum container.例文帳に追加

真空容器内部でのアーク放電の発生を抑制して高電圧安全性を高め、アノード電圧を高めて高輝度を実現できる発光装置及びこの発光装置を光源として用いる表示装置を提供する。 - 特許庁

From an initial period P1 to a middle period P2 of an alignment process, the wavelength from a long arc light source LAL through a wavelength cut filter F1 is 230 to 270 nm and the heat H to be applied in the initial period is specified to 100°C and in the middle period to 100 to 150°C.例文帳に追加

配向プロセスの初期Ｐ１と中期Ｐ２にかけては、波長カットフィルタＦ１を通したロングアーク光源ＬＡＬからの波長は２３０〜２７０ｎｍで、与える熱Ｈは初期では１００℃、中期では１００〜１５０℃とする。 - 特許庁

When a fine particle film of nano particle size is formed by using a coaxial type vacuum arc vapor deposition source 13, the discharge voltage between an anode electrode 21 and a cathode electrode 22 (a vapor deposition material 22A) is set in 50 to <100 V.例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源１３を用いたナノサイズの粒径の微粒子膜を形成するに際して、アノード電極２１とカソード電極２２（蒸着材料２２Ａ）の間の放電電圧を５０Ｖ以上１００Ｖ未満に設定する。 - 特許庁

Accordingly, a diffuse light L5 reflected by the arc-like reflecting surface U and a substantially parallel light L4 reflected by the flat reflecting surface T emitted from the light source are directed to the object direction via the lens disposed above.例文帳に追加

これにより、光源から出射して円弧反射面Ｕで反射された拡散光線Ｌ５及び平坦反射面Ｔで反射された略平行光線Ｌ４は上方に位置するレンズを介して被写体の方向に向かって照射される。 - 特許庁

To provide a discharge lamp capable of obtaining a long term reliability by preventing deterioration of transmission light and deterioration of the strength of an arc tube by suppressing devitrification (crystallization) due to heat during discharging, its manufacturing method, a light source, and a projector.例文帳に追加

放電時の熱による失透（結晶化）を抑制することによって、透過光の低下および発光管強度の低下を防止して、長期的な信頼性を得ることのできる放電ランプ及びその製造方法、光源装置、プロジェクターを提供する。 - 特許庁

To provide a discharge lamp, a method for producing same, a light source device and a projector, capable of obtaining long-term reliability by preventing decrease of transmission light and degradation of intensity of an arc tube, through restraint of devitrification (crystallization) due to heat generation upon discharge.例文帳に追加

放電時の熱による失透（結晶化）を抑制することによって、透過光の低下および発光管強度の低下を防止して、長期的な信頼性を得ることのできる放電ランプ及びその製造方法、光源装置、プロジェクタを提供する。 - 特許庁

To form the film of superior quality with an adequate plasma arc in a simple configuration, by controlling an electric potential of a substrate in a film-forming apparatus for forming the film on the substrate by using plasma, without arranging a dedicated power source.例文帳に追加

プラズマ等を利用して基材に成膜形成を行う成膜装置において、専用の電源を設けなくても基材の電位を制御することができ、簡易な構成で、良好なプラズマ放電による高品質の成膜が得られるようにする。 - 特許庁

Particles of the evaporation material are formed by discharge control between the evaporation material in the arc evaporation source and the cylindrical electrode in a pressure-reduced atmosphere, and attached on the surface of the carbon-based material layer.例文帳に追加

上記蒸着材料の微粒子は、減圧雰囲気下で、上記アーク蒸着源における上記蒸着材料と上記筒状電極との間の放電制御によって生成されて、上記カーボン系材料層の表面に付着させられる。 - 特許庁

The arc-type evaporation source has one or a plurality of circumferential magnets 3 arranged so as to surround the periphery of a target 2 and so that a magnetization direction can be parallel to a direction perpendicular to the surface of the target 2, and has a back magnet 4 arranged on the back side of the target 2.例文帳に追加

ターゲット２の外周を取り囲んでいて磁化方向がターゲット２の表面と直交する方向に沿うように配置された１又は複数の外周磁石３と、ターゲット２の背面側に配置された背面磁石４とを備えている。 - 特許庁

A field-effect transistor Q1 is turned on between a gate and a source through the Zener diode ZD1 with DC voltage through a starter resistor R2, and pulse starting voltage having a pulse width of 500 μs is applied to the arc tube 13 with a starter 36.例文帳に追加

始動手段36により発光管13に、ツェナダイオードZD1 を透して電界効果トランジスタQ1のゲート・ソース間が起動抵抗R2を介した交流電圧により電界効果トランジスタQ1がオンして、パルス幅５００μｓのパルス状の始動電圧を印加する。 - 特許庁

To provide a planar light source device capable of uniform illumination without unevenness in illumination light, with a distance between an optical sheet and an arc tube kept constant, even when a thin-type or a large-sized optical sheet is used.例文帳に追加

薄型の光学シートを用いたり、大型の光学シートを用いたりする場合であっても、光学シートと発光管との距離を一定に保つことができ、照明光にムラが生じることがなく均一な照明を行える面光源装置を提供する。 - 特許庁

A controller controls the reversible wire feeding motor so as to be reversed at least once every process cycle, and/or controls the power source so that the required average arc current can be supplied by the power source, and/or controls the reversible motor in response to short-circuit detection and short-circuit cancellation and/or controls reversal frequency in response to molten pool oscillation frequency.例文帳に追加

制御器が、可逆ワイヤ送給モータをプロセス周期毎に少なくとも一回逆転するように制御し、及び／又は所望の平均アーク電流を電源が供給するように制御し、及び／又は可逆モータを短絡検出と短絡解消とに応答して制御し、及び／又は反転周波数を溶融池振動周波数に応答して制御する。 - 特許庁

A transmission type display device 10 is provided with an LCD panel 11 and a surface light source device emitting light to the LCD panel 11 from a back side, and the surface light source device comprises: an arc tube 13; a light control sheet 15 having a lens shape on one side; and a milky white plate 14 arranged on the backside with respect to the light control sheet 15.例文帳に追加

透過型表示装置１０は、ＬＣＤパネル１１とＬＣＤパネル１１に背面側から光を照射する面光源装置とを備え、面光源装置は、発光管１３と、片面にレンズ形状を有する光制御シート１５と、光制御シート１５よりも背面側に配置される乳白板１４を備えるものとした。 - 特許庁

To provide an arc welding torch that an operator gan perform adjusting work such as inching, retracting of a welding wire and checking of gas, always at hand with buttons or the like provided in the welding torch without using buttons provided in a welding power source or a remote control device.例文帳に追加

溶接ワイヤのインチング、リトラクト、及びガスチェック等の調整作業を、作業者が溶接電源やリモコンに備えられたボタン等を使わずに、アーク溶接トーチに備えられたボタン等によって常に手元で行うことができる溶接トーチを提供する。 - 特許庁

To provide a nanoparticle support device in which the particle carriers do not scatter to the outside from the inside of a vessel upon making nanoparticles for a catalyst carried on the particle carriers by the support device equipped with a source of coaxial type vacuum arc vapor deposition, and to provide a supporting method of nanoparticles.例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸発源を備えた坦持装置によって触媒用のナノ粒子を粒子状担体に担持させるに際し、粒子状担体が容器内から外へ飛散しないナノ粒子担持装置、およびナノ粒子担持方法を提供すること。 - 特許庁

On a lower surface 3d of the light guide plate 3, an arc-like prism 4 is concentrically provided at an equal pitch with the outgoing surface of the light source chip 2' as the center.例文帳に追加

導光板３の下面３ｄには、光源チップ２の出射面を中心とする円弧状のプリズム４を等ピッチで同心状に設け、導光板３の上面３ｂには、光源チップ２’の出射面を中心とする円弧状のプリズム４’を等ピッチで同心状に設ける。 - 特許庁

The light, however, can be propagated with higher efficiency than before by calculating back to the optimum core diameter of the optical fiber 20 according to a necessary spot image, NA, and specifications of the spatial modulating element 30 and using a short arc type light source.例文帳に追加

しかし、必要なスポット像のスポット像、ＮＡ並びに空間変調素子３０の仕様に基づいて、逆算して最適な光ファイバ２０のコア径を演算し、かつショートアーク型の光源を使用することで、従来にない高効率での光の伝搬が可能となる。 - 特許庁

The power supply comprises a power source configured to bias the target with a sputtering voltage relative to the substrate support and configured to bias the target with a reverse voltage about 10 or more times for a period of about one second after an arc is detected inside the physical vapor deposition chamber.例文帳に追加

基板支持部に対しスパッタリング電圧でターゲットをバイアスし、物理気相蒸着チャンバ内でアーク放電が検出された後、約１秒間に約１０回又はそれ以上、逆方向電圧でターゲットをバイアスするように構成された電源を備えている。 - 特許庁

To select an optimum welding method according to a welded coupler, in a laser-emitting arc-welding apparatus composed of a laser oscillator 11, a welding power source unit 10 and a working head 8 integrating a welding torch 6 and a laser torch 7, etc.例文帳に追加

レーザ発振装置１１と、溶接電源装置１０と、溶接トーチ６及びレーザトーチ７を一体化した加工ヘッド８等からなるレーザ照射アーク溶接装置において、溶接継手に応じて最適な溶接方法を選択することができるようにする。 - 特許庁

This arc type evaporation source 30a surrounds the evaporating face 33 of the cathode 32, at least the front part is provided with a conical slope 76, and also, the tip part of a cathode cooling mechanism 36 is provided with a fixed tapered ring 74.例文帳に追加

このアーク式蒸発源３０ａは、陰極３２の蒸発面３３の周りを囲むものであって、少なくとも前部に円錐状の斜面７６を有しており、かつ陰極冷却機構３６の先端部に固定された先細リング７４を備えている。 - 特許庁

To provide a lightweight and small electric source device for an arc application apparatus which can correspond to two kinds of voltage systems in an electrically receiving voltage and restrains the imbalance of the voltage in the case of connecting the input end parts of one pair of inverters in the series and does not put overload on one side of the inverter.例文帳に追加

受電電圧が二種類の電圧系統に対応でき，一対のインバータの入力端を直列接続した場合の電圧不均衡を抑制し，片方のインバータに対し過負荷にならないアーク応用機器電源装置を軽量・小型にする。 - 特許庁

In the illumination device in which a frame shaped reflecting member (12) surrounding the light source (11) is arranged, the reflecting member is formed into such a shape that the upper and lower side walls (21, 22) and the rear face center wall (20) are jointed and made continuous to each oter through tilted or arc-shaped walls (23, 24).例文帳に追加

光源（１１）を囲む枠状の反射部材（１２）を配置した照明装置において、該反射部材の形状を、上下両側壁（２１、２２）と背面中央壁（２０）との間を傾斜壁（２３、２４）または円弧壁で連続させた形状としている。 - 特許庁

To provide an arc evaporation source that is controlled so that magnetism between a target and a substrate is enhanced and the inclination of a magnetic line on the surface of the target becomes vertical or becomes a direction directing to the central side (inner side) from the outer circumference of a cathode surface.例文帳に追加

ターゲットと基材の間の磁力を強くするとともに、ターゲット表面における磁力線の傾きを、垂直となるように又はカソード表面の外周から中心側（内側）に向かう方向となるように制御されたアーク式蒸発源を提供する。 - 特許庁

The arc evaporation source (20) has: a cathode (22) provided with a through hole (110) along a central axis; and a magnetic field formation mechanism (92) inserted into the through hole (110) and generating a magnetic flux parallel to the central axis of the cathode or spreading to the outer circumferential direction thereof.例文帳に追加

アーク蒸発源（２０）は、中心軸に沿って貫通孔（１１０）を備えるカソード（２２）と、貫通孔（１１０）内に挿入されカソードの中心線に対して平行又は外周方向に拡がる磁力線を発生させる磁場形成機構（９２）を有する。 - 特許庁

Approximately 100% disinfection on Escherichia coli under UV irradiation is achieved when the silver nanoparticles of single size are deposited from an arc plasma evaporation source to the mesoporous titanium oxide base material formed of mesoporous titanium oxide particles supported on a glass substrate beneath.例文帳に追加

アークプラズマ蒸着源で銀ナノ粒子を、下方のガラス基板上につけたメソポーラスな酸化チタン粒子からなるメソポーラス酸化チタン基材にシングルサイズのナノ粒子を付けて紫外線で大腸菌に照射することで略１００％死滅させることができ - 特許庁

To provide a light source capable of driving a lamp within a recommending temperature range during the lighting of the lamp, obtaining cooling constitution considering temperature transition after putting out of the lamp, suppressing attachment of black material to the inside of an arc tube, lengthening the life of a discharge lamp, and realizing stable emission, and to provide a projection type display device having the light source.例文帳に追加

ランプ点灯中に推奨温度範囲内でランプ駆動を可能にすると共に、ランプ消灯後の温度推移をも考慮した冷却構成を得ることを可能とし、発光管内に黒色の物質が付着するのを抑制して、放電ランプを長寿命化し、安定発光させることができる光源装置及び該光源装置を有する投射型表示装置を提供する。 - 特許庁

Against this practice, a small distance d is maintained between the welding rod 2 and the base metal 6 to be welded, with arc discharge made in-between in an inert gas atmosphere by a high frequency voltage source 7, and with ionization of the inert gas intended thereby.例文帳に追加

これに対して、本発明は、溶接棒２と溶接すべき母材６との間に小さな間隔ｄを保ち、高周波電圧源７により不活性ガス雰囲気中で溶接棒２と溶接すべき母材６との間にアーク放電を起こし、それにより不活性ガスをイオン化することを意図している。 - 特許庁

A soft part 73 requires no such a higher accuracy in the estimation of position as being curved depicting a circular arc not so small as that at the curved part 72 and the interval in the arrangement of the source coils 14i is made larger than that of the curved part 72 to reduce the number thereof to be arranged.例文帳に追加

また、湾曲部７２ほど小さな円弧を描いて湾曲することがなく、湾曲部７２ほど位置推定の精度を高める必要がない軟性部７３では、ソースコイル１４ｉの配置間隔を湾曲部７２における配置間隔より広くし配置数を減らしている。 - 特許庁

To provide a high-brightness, short-arc mercury lamp of small size free of premature swelling during lighting, having good lifetime characteristic, and capable of shortening the focal distance for miniaturizing a light source device for liquid crystal projector.例文帳に追加

本発明は、液晶プロジェクタ用光源装置を小形化するため、ショートアーク放電ランプが点灯中早期に膨らむことがなく寿命特性が良好で、焦点距離をより短くすることが可能な小形で、かつ高輝度のショートアーク水銀ランプを提供することを目的とする。 - 特許庁

A space is effectively utilized, and the upsizing of the luminaire body 20 and the upsizing of the luminaire 10 can be avoided, since the auxiliary light source part 36 is provided in at least one portion along an extension direction of a lamp pin 44 in the luminaire body 20 and where the arc tube 41 is not positioned.例文帳に追加

また、器具本体２０におけるランプピン４４の延長方向で、かつ発光管４１が位置しない少なくとも一方の箇所に補助光源部３６を設けたので、スペースを有効活用でき、器具本体２０の大型化および照明器具１０の大型化を回避できる。 - 特許庁

Each of 1608 type chip capacitors 8a, 8b, 8c, 8d is provided with two electrodes, and one of the two electrodes of each chip capacitor is connected to a through-hole 13 connected to a power source plane, and the other of them is connected to the different positions of the arc-shaped conductive portion of the ground pattern 11 mounted with capacitors.例文帳に追加

１６０８タイプチップコンデンサ８ａ、ｂ、ｃおよびｄは、２つの電極を備え、各コンデンサの２つの電極のうち一方は、電源プレーン接続スルーホール１３に接続され、他方の各々は、コンデンサ搭載グランドパターン１１の円弧状導体部の異なる位置に接続されている。 - 特許庁

The submerged arc welding machine is provided with: a wire feeding motor having a rated torque of ≥1.0 N-m, a rotor inertia of ≤1.0×10^-4 kg-m^2, and a lead time, to reach a rated rotational speed, of ≤100 msec under an unload condition; and a welding power source having drooping characteristics.例文帳に追加

ワイヤ送給モータが、定格トルクが１．０Ｎ・ｍ以上、回転子イナーシャが１．０×１０^−４ｋｇ・ｍ^２以下、且つ定格回転速度までの到達時間が無負荷状態で１００ｍｓｅｃ以下で、溶接電源が垂下特性を有しているサブマージアーク溶接機。 - 特許庁

To provide a light source device capable of surely blocking intrusion of water containing alkaline metal ions into a sealing tube part without increasing the size thereof, of preventing leakage of an arc tube part, and of preventing a lamp from causing a lighting failure.例文帳に追加

高圧放電ランプと凹面反射鏡よりなる光源装置において、大型化することなくアルカリ金属イオンを含む水分の封止管部内部への滲入を確実に遮断することができ、発光管部のリークを防止できて、ランプが不点灯になることがない光源装置を提供すること。 - 特許庁

A spool chamber provided with the same cylindrical battery 1 which is the driving source of a camera, a main capacitor 2 used for charging a light emitting device and a spool taking up film, or a cartridge chamber, or a film cartridge chamber has a circular-arc outer wall brought into contact with the battery 1 or a nearly cylindrical capacitor 2.例文帳に追加

カメラの駆動源である同一の円筒形状の電池１、発光装置の充電に用いるメインコンデンサ２、フィルムを巻き取るスプールを備えたスプール室、又は、パトローネ室、又はフィルムカートリッジ室で、電池１または略円筒形コンデンサ２と接する円弧状の外壁を有している。 - 特許庁

A vacuum treatment system (1) for treating workpieces has a treatment chamber (10) that can be evacuated and in which a low-volt arc-discharge device is placed, with at least one locking loading/unloading aperture and at least one coating source placed on one side wall of the treatment chamber.例文帳に追加

工作物を処理するための真空処理装置（１）は、低電圧アーク放電装置が中に配置された真空化可能な処理室（１０）と、少なくとも１つの閉鎖可能な装入・排出開口部と、上記処理室の側壁に取付けられた少なくとも１つのコーティング源とを備える。 - 特許庁

To provide a light source for use in a projection system in a more compact size which can prevent a non-lighting due to oxidization under high temperature of welded part of an outer contact sealed part and also prevent damage of an ultra-high voltage small short-arc discharge lamp.例文帳に追加

プロジェクションシステムにて用いる光源装置において、光源装置を小型化することができ、シール部外接溶接部の高温化での酸化による不点を防ぐことができ、また超高圧小型ショートアーク放電ランプの破損を防止することができる光源装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

A stimulating light source 22 is configured as an aggregate of a large number of semiconductor layer elements 22a, and a light emission plane 22b of each semiconductor laser element 22a is arranged on a circular arc along in the axial direction of the solid-state laser medium 1 to uniformly stimulate the plane 1a of the solid-state laser medium 1.例文帳に追加

励起光源２２を多数の半導体レーザ素子２２ａの集合体として構成するとともに、固体レーザ媒質１の励起面１ａが均一に励起されるよう、各半導体レーザ素子２２ａの発光面２２ｂを固体レーザ媒質１の軸方向に沿う円弧上に配設したものである。 - 特許庁

The light source is an arc lamp having metal halide fil component including scandium iodide or other suitable lanthanide, indium iodide, sodium iodide, or mixture of sodium iodide, which radiates ultraviolet rays in an effective amount for curing the selected compounds.例文帳に追加

光源は、ヨウ化スカンジウム，または他の適するランタニド，ヨウ化インジウム，ヨウ化ナトリウム，ヨウ化ナトリウムの混合物を含む金属ハロゲン充填構成要素を有するアークランプであり、それによって、ランプアセンブリは選択された化合物を硬化するために効果的な量の紫外放射を放出する。 - 特許庁

A welding head 10 includes a contact chip 14 wherein a welding wire 12 for applying arc welding is fed to a part 20 of a work W preheated by a heating source from an opening at the tip thereof, and it is provided with a plume shielding plate 18 provided adjacent to the contact chip 14.例文帳に追加

加熱源によって予め加熱されたワークＷの部分２０に対して、アーク溶接を実行するための溶接ワイヤ１２を先端の開口から送出するコンタクトチップ１４を備える溶接ヘッド１０において、コンタクトチップ１４近傍に設けられたプルーム遮蔽板１８を有する。 - 特許庁

In a method in which gas 2 for discharge and for treatment is supplied between two electrodes 1 to impress DC voltage, a surface treatment is conducted using the plasma with arc discharge generated between electrodes, the surface treatment is conducted by a method in which a plasma generating source is moved for a fixed substrate 3 or a method in which the plasma generating source is fixed and a substrate side is moved.例文帳に追加

２つの電極間に放電用および処理用ガスを供給し直流電圧を印加することにより該電極間に発生するアーク放電によるプラズマを用いて表面処理する方法であって、固定された基板に対して前記プラズマ発生源を移動させる方式、または前記プラズマ発生源を固定し基板側を移動させる方式により表面処理することを特徴とする。 - 特許庁

After starting to output the command value of a welding current to a welding output controlling part 4 in the power source 1 for the arc welding, by detecting the welding current value and measuring time until a welding current value reaches the command value of the welding current, an alarm is issued when the arrival time exceeds a preset time.例文帳に追加

アーク溶接電源１内の溶接出力制御部４に対して溶接電流指令値の出力を開始した後、溶接電流値を検出し、溶接電流値が溶接電流指令値に到達するまでの時間を計測し、到達時間が予め設定された時間を超えた場合に、警告を発する。 - 特許庁