「design pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, a choice based upon provision contents of a generation course classification (each of economy course for simple entry contents and business course for relatively complicated entry contents), a design picture choice (pattern choice screen of one to three points, etc.), and a design choice (top/reverse entry and its contents, etc.), are made.例文帳に追加

この後は、作成コース区分（簡単な記載内容のエコノミと比較的複雑な記載内容のビジネスのそれぞれのコース）の提供内容に基づいた選択、デザイン画面選択（１点から３点のパターン選択画面等）、及びデザイン選択（表、裏の記載及びその内容等）を行う。 - 特許庁

The 2nd positioning part includes a light-transmissive positioning plate with a design position defining pattern for defining the design position in a planer direction orthogonal to the optical axis direction of the optical modulator relative to the color-combining optical device when being held by the placing part main body 50A.例文帳に追加

第２位置決め部は、載置部本体５０Ａに保持された際に色合成光学装置に対する光変調装置の光軸方向に直交する平面方向の設計位置を規定する設計位置規定パターンが形成された透光性の位置決めプレートを備える。 - 特許庁

To provide a method or means of making improved flexible grip, such as a golf club grip, whose color design has abrasion resistance and resistance maintaining a pattern and graphic properties of a surface of a rubber while providing a decorative design and the softness and grip functions of the rubber.例文帳に追加

色彩デザインが摩耗抵抗と耐性を有し、ゴムの表面の模様とグラフィック性を維持すると共に、装飾的なデザインを備えてゴムの柔らかさとグリップ機能を提供するゴルフクラブグリップのような改良した柔軟性グリップを製造する方法または手段を提供する。 - 特許庁

Ebamoyo is not a small repetitive pattern, but a design previously dyed on pieces of cloth to be completed on a finished kimono as a picture on a canvas with the parts of the design matched at the seams of sides, Okumi, and Maemigoro, and Sechushin. 例文帳に追加

絵羽模様とは小さなパターンが繰り返し染められている反復された模様ではなく、和服全体をキャンバスに見立てて絵を描いたような模様のことであり、脇や衽と前身頃の縫い目、背縫いなどの縫い目のところで模様がつながるようにあらかじめ染められている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

According to the "Ihon Shimeisho," a commentary of Genji Monogatari (The tale of the Minamoto clan) from the mid Kamakura Period, its length was about Kosode (a kimono with short sleeves worn as underclothing by the upper classes) (in other words, the length is close to one's height), made in threefold (with nakabe, a lining cloth attached between the outer material), and a hitoemon (a single design, diamond shaped design such as ones used on a single layered kimono) pattern is used on the lining. 例文帳に追加

鎌倉時代中期の源氏物語注釈書『異本紫明抄』によると小袖ほどの丈(つまり身長すれすれくらい)で、三重(中倍のある)の仕立てで、裏には単文(ひとえもん。単衣につかうような菱文）の綾を用いるという。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In the lightweight cellular concrete panel with the decorative grooves machined, at least two layers of paint films with different color tones are formed at the decorative grooves and a design part of the panel, and a pattern paint film of natural wavering shape is formed at the end face of the design part.例文帳に追加

化粧溝が加工された軽量気泡コンクリートパネルにおいて、該パネルの化粧溝と意匠部に、色調の異なる塗膜が少なくとも２層形成され、かつ、該意匠部の端面に、自然ゆらぎ調形状の模様塗膜が形成されていることを特徴とする軽量気泡コンクリートパネルとする。 - 特許庁

To provide a pachinko machine which can improve the visibility and game nature of a display image without decreasing the number of nails within game bounds and the degree of freedom of ball passage design, can display a big pattern symbol of arbitrary design and other symbols, and can also manufacture a smaller game board.例文帳に追加

遊技領域内の釘数や球通路設計の自由度を減少させずに表示画像の視認性やゲーム性を向上でき、また任意のデザインで大きな図柄画像、その他の画像を表示でき、更に遊技盤を小さく製作することも可能なパチンコ機を提供する。 - 特許庁

Since the flowability of the clear paint after coating is decreased by the aggregate in the course of forming the clear layer, the movement of the water-color ink to the clear layer is suppressed, the design pattern formed by the ink jet coating is prevented from being stained, thus enabling a development of a clear design pattern and an improvement in the weather resistance of the building plate.例文帳に追加

これにより、クリアー層の形成時において骨材によりクリアー塗料の塗装後の流動性が低減されることから、クリアー層への水性インクの移動が抑制されることとなり、インクジェット塗装により形成された意匠模様に滲みが発生することを防止することができて鮮明な意匠模様を発現させることができると共に、建築板の耐候性を向上することができる。 - 特許庁

The method is composed of an object model image generation step generating a model image of a single object 11, an object presence arrangement pattern image creation step using design data, an object position detection step, an imaging object arrangement pattern image creation step, and a correlation computation step performing correlation computation between the object presence arrangement pattern image and the imaging object arrangement pattern image.例文帳に追加

位置検出方法を、単一の対象物１１のモデル画像を生成する対象物モデル画像生成ステップと、設計データを用いた対象物有無配列パターン画像作成ステップと、対象物位置検出ステップと、撮像対象物配列パターン画像作成ステップと、対象物有無配列パターン画像と撮像対象物配列パターン画像との相関演算を行う相関演算ステップとで構成した。 - 特許庁

To decrease the influence of redundant diffracted light having an intense peak different from the diffracted light which constitutes the pattern (image) to be displayed in the pattern displayed by the combination of a plurality of minute cells each consisting of diffraction gratings arranged in a matrix, to improve the visibility of the pattern (image) and to reproduce the original design with good fidelity.例文帳に追加

回折格子からなる微小なセルをマトリクス状に複数個配置し、それらの集まりによって表現されるパターンにおいて、表現されるべきパターン（画像）を構成する回折光とは異なる、強いピークを持った冗長な回折光の影響を低減し、パターン（画像）の視認度を向上させ、元のデザインを忠実に再現する。 - 特許庁

Character information is designed and displayed by referring to design parts of constitution elements of a character pattern of the electronic music reproducing device 30, and a skeleton outline pattern deformation processing part 58 generates the font of character information according to position coordinate information and further generates a move pattern for moving and deforming, and displaying the character information according to movement deformation information.例文帳に追加

電子ミュージック再生装置３０の文字図形の各構成要素のデザインパーツを参照して文字情報をデザイン表示するとともに、位置座標情報に基づいて、スケルトン輪郭パターン変形処理部５８が文字情報の書体を生成し、さらに、移動変形情報に基づいて、文字情報を移動変形して表示するムーブパターンを生成する。 - 特許庁

In the method of manufacturing an exposure mask which is used to perform pattern exposure with a high resolution by shifting the phase of light transmitting both sides in the line width direction of a mask pattern, high-precision patterns requiring line width precision and high-resolution patterns requiring pattern exposure with high resolution are extracted from gate patterns (design patterns) (S2).例文帳に追加

マスクパターンの線幅方向両側を透過する光の位相をシフトさせることで高解像度のパターン露光を行う際に用いられる露光マスクの作製方法であって、ゲートパターン（設計パターン）の中から、線幅精度が要求される高精度パターンと、高解像度でのパターン露光が要求される高解像度パターンとを抽出する（Ｓ２）。 - 特許庁

To provide a symbolic structure capable of realizing the symbolic pattern display having metallic gloss of high brightness, stereoscopic effect, and excellent design property, realizing the excellent visibility while maintaining the gloss, stereoscopic effect and excellent design property even during the night time, reducing the size and thickness, and excellent in degree of design versatility, and suitable as a vehicle emblem.例文帳に追加

高輝度の金属光沢を有し立体感のある意匠性に優れた象徴パターン表示を低コストで実現可能であり、かつ、夜間においても上述の光沢、立体感および優れた意匠性を維持しつつ優れた視認性を実現でき、小型化および薄型化が可能であり、設計の自由度に優れ、車両用エンブレムとして好適な象徴構造体を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor, an image forming device, an image processing method, a computer program, and a recording medium therefor, preventing such a problem of unclearly displaying design pattern which should be displayed when copying an obtained original is copied, in an image processing to add design data representing the design patterns to obtained image data.例文帳に追加

取得画像データに、地紋パターンを表す地紋データを付加する処理を行う画像処理において、得られる原稿が複写される際に現れるべき地紋パターンがはっきり顕在しない問題が生じる虞がある場合は、斯かる問題の発生を未然に防止出来る画像処理装置、画像形成装置、画像処理方法、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

The method for forming the image on the substrate 14 has a step for arranging a first layer on the substrate 14 so as to forming "a printing pattern" and a step for providing "an arranged design" on the substrate 14 in both the inner side and the outer side of the areas of the printing pattern.例文帳に追加

「印刷パターン」を形成するように基材１４上に第１の層を設けるステップと、印刷パターンの領域の内側及び外側の双方において基材１４に「配置されたデザイン」を提供する第２のステップとを有した、基材１４へのイメージ形成方法。 - 特許庁

An irregular pattern is formed to a part of the face, and the building board having design properties along the height difference of the irregular pattern is obtained by coating the face with shrinkage paints having little pigment components (much resin components) and utilizing the viscosity, fluidity, surface tension or the like of the shrinkage paints.例文帳に追加

化粧面の一部に凹凸模様を形成し、該化粧面に顔料成分の少ない（樹脂成分の多い）ちぢみ塗料を施し、そのちぢみ塗料の粘性、流動性、表面張力等を利用し、凹凸模様の高低差に沿った意匠性を有した建築用板を得るものである。 - 特許庁

Thus, a pattern of the sheet 300 can be seen in an innermost recess with respect to hindering nails 500 attached to the front side of the plate 90 to provide a three-dimensional picture in the game board so that a novelty can be given to the design of the pattern.例文帳に追加

これにより、セルシート３００の絵柄を、透光性基板９０の前面に取り付けられた障害釘５００等に対して一段奥まった位置に見えるようにして、遊技盤２０に奥行き感ないし立体感を生じさせ、絵柄の見え方に斬新性を持たせる。 - 特許庁

If the substrate pattern-formed by laser is treated with a mixture of a wetting agent and a substance that promotes cleaning before metallization, the metal cores deposited against the desire can be removed sufficiently and the conductive path pattern-formed by design is not eternally damaged.例文帳に追加

金属化の前に湿潤剤と洗浄を助長する物質との混合物で、レーザでパターン形成された基体を処理すると、所望されずに沈殿した金属核を十分取り除くことができ、計画的にパターン形成された導電路を永久的に損傷することはない。 - 特許庁

To make a condition set efficiently, to shorten an inspection time, and to enhance reliability of inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting a defect, a foreign matter, a residue or the like in the same design pattern of a semiconductor device on a wafer under a production process for the semiconductor device, by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

To provide a pattern size guarantee system for a photomask which can decide whether the photomask is normal by automatically referring to and comparing measurement specifications (design value, size tolerance, etc.), with pattern size measurement results of the photomask obtained by a plurality of size measuring instruments.例文帳に追加

複数の寸法測定装置で得られたフォトマスクのパターン寸法測定結果に対し測定仕様（設計値、寸法公差等）を自動的に参照、比較して、フォトマスクの合否判定を行うことができるフォトマスクのパターン寸法保証システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing artificial marble by adding a pattern material without lowering impact resistance and capable of expressing a design by the pattern material without compounding a large amount of glass fibers or providing a reinforcing sheet or layer.例文帳に追加

耐衝撃性を低下させることなく柄材を添加して人造大理石を製造することができ、ガラス繊維を多量に配合したり補強板や補強層を設けたりする必要なく、柄材で意匠表現をすることができる人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

A pattern with high accuracy is formed by carrying out a step (S12) of subjecting the design data to proximity correction; a step (S13) of extracting a portion where the process margin deteriorates; and a step (S14) of correcting a pattern in the extracted portion where the process margin deteriorates.例文帳に追加

設計データに対して近接効果補正を施す工程（Ｓ１２）と、プロセス余裕度が劣化する箇所を抽出する工程（Ｓ１３）と、抽出されたプロセス余裕度が劣化する箇所に対してパターン補正を行う工程（Ｓ１４）とを行うことにより高精度なパターン形成を実現する。 - 特許庁

To provide a molding of a fiber reinforced thermoplastic resin which has a design pattern on the surface of the molded plane, and to provide a method for manufacturing a molding made of a fiber reinforced thermoplastic which method can provide such a pattern on the surface of the molding easily and in a short period of time.例文帳に追加

意匠性のある模様を成形面の表面に有する繊維強化熱可塑性樹脂性成形品を提供するとともに、このような模様を成形品表面に短期間に容易に施すことができる繊維強化熱可塑性樹脂製成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an opal-finished and discharge-printed synthetic fiber material by simultaneously applying opal-finish and discharge printing, and efficiently manufacturing the synthetic fiber material having high design properties in which an uneven pattern is combined with a discharge pattern in a simple method.例文帳に追加

抜蝕及び抜染加工を同時に施すことができ、凹凸模様と抜染模様とが組み合わされた意匠性の高い合成繊維材料を簡便な方法で効率よく製造することが可能な抜蝕及び抜染加工された合成繊維材料の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing artificial marble which can be added with a pattern material without deteriorating impact resistance, does not need the incorporation of large amount of glass fibers and the installation a reinforcing plate and a reinforcing layer, and can express design by the pattern material.例文帳に追加

耐衝撃性を低下させることなく柄材を添加して人造大理石を製造することができ、ガラス繊維を多量に配合したり補強板や補強層を設けたりする必要なく、柄材で意匠表現をすることができる人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a garment with color changing property enabling clearly recognizing the pattern and color of a portion under ultraviolet rays in the daytime and enabling a different design and color to come to the surface in the dark through letting a pattern part accumulating sunlight and illumination light spontaneously emit light.例文帳に追加

日中の紫外線下においては、一部の図柄や色彩が明確に認識でき、また暗闇においては、太陽光や照明光を蓄光した図柄部分が自然発光することで、異なったデザインや色彩を浮き出させることができる変色性衣服を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing artificial marble by adding a pattern material without lowering impact resistance, and capable of expressing a design by the pattern material without compounding a large amount of glass fibers or providing a reinforcing sheet or layer.例文帳に追加

耐衝撃性を低下させることなく柄材を添加して人造大理石を製造することができ、ガラス繊維を多量に配合したり補強板や補強層を設けたりする必要なく、柄材で意匠表現をすることができる人造大理石の製造方法を提供する。 - 特許庁

The performance of the printing using the screen mask can enhance the wrap-around property of paste even on the same condition as the conventional printing condition, without changing a paste material or the printing condition, and can bring about the high-precision pattern 5 faithful to the design pattern 4.例文帳に追加

斯かるスクリーンマスクを使用した印刷を行うことにより、ペースト材料や印刷条件を変更することなく、従来の印刷条件と同じ条件でもペーストの回り込み性を向上させ、設計上のパターン４に忠実な高精度なパターン５を得ることが出来る。 - 特許庁

The pattern dyeing and the base dyeing may be repeated several times depending on the design, and sometimes minute sections such as the center of a flower, the eye of an animal, a pattern of wings of a bird or an antenna of an insect may be finished with black ink or pigments and additionally decorated with kindei (gold paint), foil, or embroidery at the end. 例文帳に追加

図案によっては、こうした模様付けや地色染めが数回繰り返される場合もあり、最後に花の中心部分や動物の目、鳥の羽の模様、昆虫の触角などの細かい部分を墨や顔料で仕上げ、金泥、箔、刺繍などで加飾する場合もある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To improve efficiency of condition setting, to shorten inspection time, and to improve reliability of an inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting, with an electron beam, a defect, foreign substance, residue, or the like of the same design pattern of a semiconductor device on a wafer in a manufacturing process of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

When the resist is actually exposed and developed and lithography with its resist pattern as an etching mask is performed, the quantity of light or design image data is corrected on the basis of the obtained correction data, so that a desired finished line width can be achieved even for the resist pattern having a small taper angle.例文帳に追加

実際にレジストを露光、現像して、そのレジストパターンをエッチングマスクとしたリソグラフィを行う際に、先に求めた補正データに基いて光量を補正又は設計画像データを修正することで、小さなテーパー角を有するレジストパターンであっても、所望の仕上り線幅を実現することができる。 - 特許庁

A combination optimizing problem to determine the optimal capacity of each apparatus of a plant is formulated, and a load pattern of the plant is set, and design values of respective apparatus capacities are set as solution candidates of the optimizing problem.例文帳に追加

プラントの各機器の最適容量を決定する組合せ最適化問題として定式化し、プラントの負荷パターンを設定し、最適化問題の解候補として各機器容量の設計値を設定する。 - 特許庁

To provide a print system for cloth and its printing method in which a small lot of design pattern made and selected arbitrarily by a user can be printed onto a material, and to provide a system for making clothing and its making method.例文帳に追加

ユーザが任意に制作、選択した小ロットのデザイン柄を素材に印刷可能な布地の印刷システムとその印刷方法、及び被服の制作システムとその制作方法を提供すること。 - 特許庁

Since the weld marks 34 and 35 are overlapped on the pattern 40, it is possible to make the weld marks 34 and 35 inconspicuous and give a design accent to the surface plate 30 which is liable to become monotonous.例文帳に追加

これによりウェルドマーク３４，３５と模様４０が重なるため、ウェルドマーク３４，３５が目立たなくなるとともに、単調になりがちな表面板３０にデザイン的なアクセントを加えることができる。 - 特許庁

To provide a timing verification method wherein the influence of a dummy metal can be surely taken into account in a design stage regardless of an actually generated pattern of the dummy metal.例文帳に追加

本発明は、実際に発生されるダミーメタルのパターンに関らず、設計段階において確実にダミーメタルの影響を考慮することが可能なタイミング検証方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In this method, a set of the limits applicable to a core is defined (S10) and a test core loading pattern design to be used for the loading of the core is determined on the basis of the limits (S20).例文帳に追加

該方法において、炉心に適用可能な限界のセットが定義され（Ｓ１０）、限界に基づいて、炉心をローディングするために使用されるべき試験用炉心ローディングパターンデザインが判定される（Ｓ２０）。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁

This building board 1 is constituted by sequentially providing a lower paint layer 3 and an upper paint layer 4 on a design surface 201 of an original board 2 with the uneven pattern 203 where the many projections 21 and 22 are formed.例文帳に追加

建築板１は，多数の凸部２１，２２を形成してなる凹凸模様２０３を有する原板２の意匠表面２０１に，下側塗料層３，上側塗料層４を順次設けてなるものである。 - 特許庁

Moreover, a minute unevenness pattern is put design on the lighting faces 33a and 33b and/or coloring agent, as needed, fluorescence material and light diffusion agent and others are blended in molding resin of the cover ring 32.例文帳に追加

また、必要に応じて採光面３３ａ、３３ｂに微小な凹凸模様を形成したり、見返しリング３２の成形樹脂の中に着色剤や蛍光材、光拡散材などを配合する。 - 特許庁

To provide a broadcast receiver which reinforces grounding while preventing the problem of interference between received high-frequency RF signals and makes it easy to design signal wiring pattern of a plurality of independent tuner blocks.例文帳に追加

受信する高周波ＲＦ信号相互の干渉の問題を防止しつつ、接地を強化して、それぞれが独立で複数のチューナブロックの信号配線パターンを容易にする放送受信機を提供する。 - 特許庁

To provide a television receiver which makes common parts and raises the efficiency of operations, thereby producing at a low cost in a power supply circuit in which a pattern design is difficult because of a noise radiation, and the power supply circuit.例文帳に追加

ノイズ輻射のためにパターン設計が難しい電源回路において、部品の共通化や作業効率化を行って低コストでの生産が可能なテレビ受信機および電源回路を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, an image forming system, and an image forming method which are capable of removing print restrictions, with respect to print data serving as a readable image in a printable region for a background design pattern.例文帳に追加

地紋パターンの印刷可能領域の可読画像である印刷データに対する印刷制限を解除することが可能な画像形成装置、画像形成システム、及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To enable forming of a metallic exterior material high in design effect having a pattern depth of 3 to 8 mm maximum by providing preliminary rolls at the entrance of emboss rolls and applying tension between both the rolls.例文帳に追加

エンボスロール入り口に予備ロールを設け，両ロール間にテンションを張ることで模様深さ３ｍｍから最大８ｍｍの模様深さの、意匠性の高い金属製外装材の成型を可能とする。 - 特許庁

To provide a security film and a transfer foil, having specific design properties and security properties, including at least a surface-relief type hologram forming layer, and to provide a transparent reflection layer and a pattern layer in a part of the film or the foil.例文帳に追加

その一部に表面レリーフ型ホログラム形成層と透明反射層と絵柄層とを少なくとも具備し、特異な意匠性及びセキュリティ性を有するセキュリティフィルムおよび転写箔の提供。 - 特許庁

To provide a wall structure having an uneven pattern on a surface though the surface is coated with an elastic coating material and put into a jointless state, which dispenses with the huge cost of coating labor, and which hardly causes variations in finished design.例文帳に追加

表面が弾性塗材に被覆されて無目地であるにもかかわらず、該表面に凹凸模様を有し、多大な塗装手間代が掛からず、仕上がり意匠のバラツキが小さい壁構造を提供する。 - 特許庁