「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(731ページ目) - Weblio英語例文検索

A liquid crystal display panel 10 is placed on a liquid crystal display panel placing base 1 with a buffer layer 5 between them, and an IC chip 20 is disposed on an extension part 12a of a substrate 12 of the liquid crystal display panel 10 so that mutual electrode terminals face each other with an ACF 25 between them.例文帳に追加

液晶表示パネル載置台１上に緩衝材層５を介して液晶表示パネル１０を載置し、その液晶表示パネル１０の基板１２の延設部１２ａ上に、ＩＣチップ２０をＡＣＦ２５を介して互いの電極端子を対向させて配置する。 - 特許庁

To provide a gas-barrier laminated film which, by laminating/forming a gas-barrier layer continuously by a catalyst vapor phase growth method and a physical vapor phase growth method, is excellent in gas-barrier properties without applying primer processing on the surface of a substrate film and a method for producing the gas-barrier laminated film.例文帳に追加

触媒気相成長法と物理気相成長法により連続してガスバリア層を積層形成することにより、基材フィルム表面にプライマー処理を施すことなくガスバリア性に優れたガスバリア積層フィルム、及び該フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing inkjet recording material includes a step of applying at least one layer that contains pearlescent pigment on a substrate, wherein the pearlescent pigment is dispersed by using a thin film spin coating method.例文帳に追加

支持体上に、真珠光沢顔料を含有する層を少なくとも１層塗布するインクジェット記録材料の製造方法であって、該真珠光沢顔料が薄膜旋回法により分散されていることを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。 - 特許庁

By forming a stress relaxing layer 20 consisting of the stress relaxing substance 21 around the bumps 15a such as among bumps 15a, the structure of injecting an underfill between the semiconductor device 10 and a mount substrate 30 is eliminated in the time of face-down bonding.例文帳に追加

応力緩和物質２１で構成された応力緩和層２０を、バンプ１５ａ間等、バンプ１５ａ周囲に設けることで、フェースダウン実装に際しての半導体装置１０と実装用の基板３０との間にアンダーフィルを注入する構成を省くことができる。 - 特許庁

In the MOS transistor Tn1, a semiconductor substrate 1 is formed with an N-type 1st well 2; the 1st well 2 is formed with a P-type 2nd well 3; and the 2nd well 3 is formed with an N-type diffused layer 4 for a drain area and a source area.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタＴｎ１において、半導体基板１にＮ型の第１ウェル２が形成され、該第１ウェル２にＰ型の第２ウェル３が形成され、該第２ウェル３にはドレイン領域及びソース領域となるＮ型拡散層４が形成されている。 - 特許庁

A silicon epitaxial layer is formed, thereafter rapidly heated to 1,200-1,250°C at a required rate of temperature increase in a nonoxidizing atmosphere, and rapidly cooled at a required rate of temperature decrease after keeping the temperature in a short time, thereby BMD of required density can be provided in the substrate.例文帳に追加

シリコンエピタキシャル層を形成した後、非酸化性雰囲気で所要の昇温速度で１２００〜１２５０℃に急速加熱し、短時間保持後に、所要の降温速度で急速冷却することにより、基板内部に所要密度のＢＭＤを得られる。 - 特許庁

At this time, if the film thickness of each layer is made so thick as the wavelength of the de Broglie wave or is made equal to or less than a "critical film thickness", its lattice constant can be brought close to that of the substrate by applying compressive stress to each of the layers without causing any crystal defect.例文帳に追加

この時に、各層の膜厚を電子のド・ブロイ波の波長程度、あるいは「臨界膜厚」以下とすれば、結晶欠陥を発生させることなく各層に圧縮応力を印加してその格子定数を基板のそれに近づけることができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is highly reliable and effective for practical use and where fluctuation of a pressure resisting feature is small in a high breakdown voltage semiconductor device which is integrated on an SOI substrate and in which rated voltage is shared between an embedded oxide film and a drain of an element active layer.例文帳に追加

ＳＯＩ基板に集積され定格電圧を埋め込み酸化膜と素子活性層のドレインとで分担する高耐圧半導体素子において、耐圧特性の変動が少ない高信頼度でかつ実用化に有効な半導体装置を得ること。 - 特許庁

To provide a colorful pile gauze while making most of the characteristic of the gauze in a method of weaving the pile gauze having a picture pattern of a colorful multiple-layered structure by making multiple layers with piling different color pile layers on a gauze layer while realizing the color of each layers at a substrate and the part of the pattern.例文帳に追加

ガーゼ層に異なる色のパイル層を重ねて多層化し、基体や柄の部分に各層の色を具現しながらカラフルな多層構造の絵柄付パイルガーゼを製織する方法において、ガーゼの特質を活かしつつカラフルなパイルガーゼを提供する。 - 特許庁

When a substrate is directly etched, the width Wa at the boundary between the photosensitive layer and a supporting body corresponding to the grooves prior to etching is so set as to attain (T.P×0.50)-45 nm≤Wa≤(T.P×0.60)+45 nm with respect to the track pitch T.P.例文帳に追加

基板を直接エッチングする場合には、エッチング前のグルーブに対応する感光層と支持体との境界面における幅ＷａをトラックピッチＴ．Ｐに対して（Ｔ．Ｐ×０．５０）−４５ｎｍ≦Ｗａ≦（Ｔ．Ｐ×０．６０）＋４５ｎｍとなるように設定する。 - 特許庁

To provide an active matrix substrate in which a faulty connection in a storage capacitor element caused by a short circuit between storage capacitor electrodes due to conductive contamination or a pinhole in an insulating layer or by a short circuit between a data signal line and a storage capacitor upper electrode can be repaired with ease.例文帳に追加

導電性異物や絶縁膜のピンホールによる保持容量電極間の短絡や、データ信号線と保持容量上電極との短絡により発生する保持容量素子の不良を容易に修復することが可能なアクティブマトリクス基板を提供する。 - 特許庁

When forming an organic photosensitive layer on a support substrate, the heat treatment maximum temperature T1 of an atmosphere during heat treatment is in a range of ±30 °C to the glass transition point of the binding resin, and heat treatment time at the heat treatment maximum temperature T1 is set to be within 15 minutes.例文帳に追加

支持基体上に有機感光層を形成する際、熱処理時の雰囲気の熱処理最高温度Ｔ１を上記結着樹脂のガラス転移点に対して±３０℃の範囲内とし、上記熱処理最高温度Ｔ１での熱処理時間を１５分以内とする。 - 特許庁

A stress relieving member 4 is installed with intervals between the metal layer 7 and the heat sink 5 in the insulating substrate 3, as formed of a highly thermally-conductive material, and formed of a plate type main body 10 and a plurality of projections 11 on one face of the plate type main body 10.例文帳に追加

絶縁基板３の金属層７とヒートシンク５との間に、高熱伝導性材料からなり、かつ板状本体10および板状本体10の一面に間隔をおいて形成された複数の突起11からなる応力緩和部材４を介在させる。 - 特許庁

To provide a radiation image conversion panel that is excellent in the suitability for the compressing and fusing treatment of a substrate and a phosphor layer, has strong adhesivity between them and is highly durable- cracks hardly appear even if the panel is used repeatedly--and a method for manufacturing the panel.例文帳に追加

下塗り層−蛍光体層の圧縮融着処理適性に優れ、かつ、下塗り層と蛍光体層との接着力が強く、繰り返し使用しても亀裂が生じにくく耐久性の良好な放射線像変換パネル及びその製造方法の提供。 - 特許庁

The light modulation element 30 includes an electrode 32 capable of generating mainly an electric field in a direction parallel to a surface intersecting with a normal line of a transparent substrate 31, and a light modulation layer 34 containing a bulk 34A and a fine particle 34B which have optical anisotropy.例文帳に追加

光変調素子３０は、透明基板３１の法線と交差する面と平行な方向に主たる電場を発生させることの可能な電極３２と、光学異方性を有するバルク３４Ａおよび微粒子３４Ｂを含む光変調層３４とを有する。 - 特許庁

The photoreceptor comprises a photosensitive drum 2 having a photosensitive layer containing a photoconductive material on the outer peripheral face of a cylindrical conductive substrate, and a gear flange 1 which is fitted to the open end of the drum and transmits the rotation driving force from the apparatus body to the photoreceptor drum 2.例文帳に追加

円筒状導電性基体の外周面に、光導電性材料を含む感光層が形成されてなる感光ドラム２と、その開口端部に嵌合されて、装置本体からの回転駆動力を感光ドラム２に伝達するギアフランジ１と、を備える。 - 特許庁

A selectively absorptive wire-grid polarizer 10a for polarizing incident light 12 comprises a thin film lamination layer 18 disposed on an upper side of a substrate 14, composed of a wire-grid array of elongated metal elements 26 having a period less than half of wavelength of the light.例文帳に追加

入射光１２を偏光するための選択吸収性ワイヤーグリッド偏光素子１０ａは、基体１４の上側に配設され、光の波長の半分よりも短い周期を有する延設金属素子２６のワイヤーグリッド配列からなる薄膜積層１８を備えている。 - 特許庁

In the film forming substrate 1 to be used in the process of manufacturing the large pellicle film 4 having ≥1,000 cm^2 pellicle area, a conductive layer 3 is formed by coating the back face of a large size glass sheet 2 with chromium at a predetermined thickness.例文帳に追加

ペリクル面積が１，０００ｃｍ^２以上を有する大型ペリクル膜４を製造する際に用いられる大型ペリクル用成膜基板１であって、大型のガラス板２の裏面に所定の厚さにクロムをコーティングして導電層３を積層した構造である。 - 特許庁

To improve uniformity in a dielectric film and control the composition along the thickness direction of the dielectric film by eliminating incubation time in forming the dielectric film by a CVD method on a Si substrate surface, that is covered by a thin molecular layer of an insulator.例文帳に追加

薄い絶縁物の分子層で覆われたＳｉ基板表面にＣＶＤ法により誘電体膜を形成する際のインキュベーション時間をなくし、得られる誘電体膜の均一性を向上させると同時に、誘電体膜の膜厚方向の組成を制御する。 - 特許庁

An III-family nitride-system compound semiconductor laser diode 100 is provided with a substrate 1, a III-family nitride-system compound semiconductor layer 3, and a resonator Rd in a rectangular parallelepiped shape being formed by etching by laminating a plurality of III-family nitride-system compound semiconductor layers at the upper portion.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体レーザダイオード１００は、基板１と、III族窒化物系化合物半導体層３と、その上部に複数のIII族窒化物系化合物半導体層を積層しエッチングで形成された直方体状の共振器Ｒｄを有する。 - 特許庁

The substrate for an inkjet recording head 11 is equipped with a planarized layer 1 having a plane upper surface which is formed in the position corresponding to a lower end surface 21b connected to a side-wall 21a of the foaming chamber 22 in the periphery of the foaming chamber 22 of the flow path forming member 21.例文帳に追加

このインクジェット記録ヘッド用基板１１において、流路形成部材２１の、発泡室２２の周縁であって発泡室２２の側壁２１ａに繋がる下端面２１ｂに対応する位置に形成された、上面が平坦な平坦化層１を有する。 - 特許庁

In a fundamental frequency corresponding to a data rate of a coded digital signal, two 1/4 wave length lines 5 and 6 that are correspond to 1/4 wave length are arranged on a signal wiring layer that is one of the surface layers of a substrate 8, along a transmission line 3 that transmits a digital signal.例文帳に追加

符号化されたデジタル信号のデータレートに当たる基本周波数において、１／４波長となる２つの１／４波長線路５，６を、デジタル信号を伝送する伝送線路３に沿って基板８の一方の表面層である信号配線層に配置した。 - 特許庁

To provide a polarizing plate which allows setting of the optical axis of a polarizing layer in an arbitrary direction and can be manufactured with high efficiency, to provide a liquid crystal display element substrate and a liquid crystal display element which use the polarizing plate, and to provide manufacturing methods for them.例文帳に追加

本発明は、偏光層の光軸を任意の方向に設定可能であり、製造効率のよい偏光板、それを用いた液晶表示素子用基板および液晶表示素子、さらにはこれらの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

The polarizing element comprises a polarizing element main body which has a polarizing film formed by stretching and a protection layer adhered to at least one surface of the polarizing film and a light translucent substrate which is adhered to at least one surface of the polarizing element main body.例文帳に追加

偏光素子は、延伸形成された偏光フィルム、および前記偏光フィルムの少なくともいずれかの面に接着される保護層を有する偏光素子本体と、偏光素子本体の少なくともいずれかの面に接着される透光性基板とを備える。 - 特許庁

An N--type impurity region 132 is formed on a P-type well layer 130, provided in the deep portion of a N-type Si substrate 110 and an N-type photoelectric conversion region 34 and a P+-type impurity region 36, both of which constitute a photodiode section 112 are successively formed on the region 132.例文帳に追加

Ｎ型Ｓｉ基板１１０の深層に設けたＰ型ウエル層１３０の上にＮ^^- 型不純物領域１３２を形成し、その上にフォトダイオード部１２を構成するＮ型光電変換領域１３４とＰ^+ 型不純物領域１３６を形成する。 - 特許庁

The arrangement intervals in the lateral direction of the slit portions 22 are optimized so as to compensate for optical positional deviation of the slit portions 22 caused by refraction index difference of two layers (an air layer 4 and a substrate 21) different in reflective index between the display unit 1 and the slit portions 22.例文帳に追加

スリット部１の横方向の配置間隔は、表示部１とスリット部２２との間の屈折率の異なる２つの層（空気層４および基材２１）の屈折率差によって生ずるスリット部２２の光学的な位置ずれを補償するように最適化する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a filler layer for a solar cell module and a reclaimable solar cell element or a reclaimable transparent front substrate, for making it possible to recover reusable resources such as transparent front substrates, solar cell elements, etc. from constituting members, and recycle or reuse them.例文帳に追加

構成部材のうち透明前面基板や太陽電池素子などの再利用可能な資源を回収し、リサイクルもしくはリユースすることを可能とすること、および再生太陽電池素子もしくは再生透明前面基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a protective film of dense film quality at a low temperature of ≤200°C on an upper part of a pixel controlling element and a wiring pattern for preventing mixing of impurities into a liquid crystal cell layer when the pixel controlling element is selectively transferred to a liquid crystal display substrate.例文帳に追加

液晶ディスプレイ基板に画素制御素子を選択的に転写するにあたり、液晶セル層への不純物混入を防止するため、画素制御素子及び配線パターンの上部に、緻密な膜質の保護膜を２００℃以下の低温で形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a conductive pattern forming substrate, a laser beam L of extremely short pulses with the pulse width being less than 1p second is irradiated in a given pattern on a transparent conductive layer A_1, made of an organic conductor formed on at least one surface of a transparent base material A_2.例文帳に追加

本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材Ａ_２の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層Ａ_１に、パルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light-emitting element of which light extraction efficiency and heat dissipation are improved and prevents cracking on a surface of a growth layer during peeling of a substrate for growth to improve the yield.例文帳に追加

半導体発光素子の光取り出し効率及び放熱性の向上を図るとともに、成長用基板の剥離時における成長層表面でのクラック発生を防止して歩留まり向上を図ることができる半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer body capable of manufacturing a pigment intensified type solar battery of high performance free from short circuiting between a counter electrode and a power generation layer, with satisfactory yield, even when a substrate is bent, in a transfer body used when manufacturing the pigment intensified type solar battery.例文帳に追加

色素増感型太陽電池を製造する際に用いられる転写体において、基板が湾曲しても対向電極と発電層の短絡の無い高性能な色素増感型太陽電池を歩留まり良く製造することができる転写体を提供する。 - 特許庁

An inorganic material such as SiO2, TiO2 and ZrO2 is dissolved into a solvent including an alkoxide, methoxide, proxide, n-methylpropiden, or the like and a dissolution material of the solvent and an epoxy photosensitive resin is subjected to spin-coating on a metallic substrate 9 to be prebaked to form a first layer 10.例文帳に追加

まず、金属基板９上に、ＳｉＯ_2やＴｉＯ_2、ＺｒＯ_2などの無機物をアルコキシド、メトキシド、プロキシドをｎ−メチルプロピドン等の溶媒に溶解し、エポキシ系の感光性樹脂との溶解物をスピンコートし、プリベークすることで第１の層１０を形成する。 - 特許庁

In a semiconductor device in which a metal wiring layer arranged on the main surface of a semiconductor substrate via an interlaminar insulating film is covered with a protective insulating film, the side surface of the interlaminar insulating film is covered with the protective film in the chip end of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体基板主面上に層間絶縁膜を介して配置された金属配線層が保護絶縁膜によって被覆されている半導体装置において、半導体装置のチップの端部にて層間絶縁膜の側面を保護絶縁膜によって覆う。 - 特許庁

To make improvable the refrangibility of a birefringence plate which is provided with a vapor-deposited film, obliquely vapor deposited on a substrate surface and is birefringent, and an impregnated layer formed and impregnated in a columnar structure of the vapor-deposited film without increasing the film thickness.例文帳に追加

基板表面に斜め蒸着された複屈折作用を有する蒸着膜と、この蒸着膜の柱状組織内に形成された含浸させた含浸層とを有する複屈折板における屈折性を、膜厚を厚くすることなく向上できるようにすること。 - 特許庁

Since a difference of the refractive index between adjacent layers is small among the substrate 11 and the layer f_1, a final fluctuation of optical characteristic can be reduced as a whole of the optical multilayer 12 even if a film thickness error or a refraction index error of the early period of film formation is great.例文帳に追加

また、基板１１と層ｆ_1との間で隣接する層同士の屈折率差が小さいので、成膜初期の膜厚誤差や屈折率誤差が大きくても、光学多層膜１２全体としての最終的な光学特性の変化量を小さくできる。 - 特許庁

In addition, a part of the inner wall face of the cavity 11 is constituted, and first, second and third heat transmission bodies 17, 18, 19 whose ends 17D, 18D, 19D come into contact with the die attach layer 15 and in which the other ends 17U, 18U, 19U extend up to a substrate main face 2 are provided.例文帳に追加

また、キャビティ１１の内壁面の一部を構成し、一方の端部１７Ｄ，１８Ｄ，１９Ｄがダイアタッチ層１５に接触し、他方の端部１７Ｕ，１８Ｕ，１９Ｕが基板主面２まで延びる第１，第２，第３伝熱体１７，１８，１９を備える。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for the formation of a multilayer thin film wherein a multilayer thin film product can be formed at high speed, by forming the film in such a way that the film thickness of a thin film at least on a specific layer being formed on a substrate is formed with an accuracy of 0.5 nm or less.例文帳に追加

基板上に製膜中の少なくとも特定の層の薄膜の膜厚を０．５ナノメーター以下の精度で製膜することによって多層薄膜製品の歩留りを高くすることができる多層薄膜形成方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

A light dispersion plate 3 is formed on the light emitting side of the chip type light emitting elements 1 through a fixed spacing d from the chip type light emitting elements 1, and a heat sink 4 is formed on the other side of the insulating substrate 2 so as for an air layer not to exist between them.例文帳に追加

このチップ型発光素子１の発光面側に、そのチップ型発光素子１から一定間隔ｄを介して光拡散板３が設けられると共に、絶縁性基板２の他面側に放熱板４が空気層が介在しないように設けられている。 - 特許庁

A magnetic head having a structure produced by laminating a substrate, ferromagnetic material 3, magnetic coil 1 embedded in an insulating material and transparent insulating protective layer is disposed in such a manner that the ferromagnetic material 3 is placed in the opposite side to the face of the magnetic coil 1 facing an optical disk medium.例文帳に追加

基板、強磁性体３、絶縁体中に埋設された磁気コイル１、及び、透明絶縁保護層の順で積層した構造からなる磁気ヘッドを、磁気コイル１の光ディスク媒体と対向する面と反対側に強磁性体３が位置するように配置する。 - 特許庁

A silicon layer, whose dissolved oxygen concentration is not higher than 8×10^17(atoms/cm^3) and whose impurity concentration which is to become the acceptor or donor is not higher than 1×10^15(atoms/cm^3) and on which an element is formed, is formed on the substrate 11.例文帳に追加

基板１１上には、溶解酸素濃度が８×１０^１７（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）以下で、アクセプタあるいはドナーとなる不純物濃度が１×１０^１５（ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３）以下であり、素子が形成されるシリコン層が形成されている。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor has at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the photoreceptor surface includes a ground portion in an image forming region and a non-ground portion in a non-image forming region at both ends of the photoreceptor.例文帳に追加

導電性基体の上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、前記感光層の表面の画像形成領域部に研磨部を有し、両端の非画像形成領域部に未研磨部を有することを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

The present invention provides the powdery phosphor characterized in that a surface layer, in which at least all or a part of the surface is represented by chemical formula Zn_(1-x)R_xO (R is an element of the group IIA; 0.05≤x), having a hexagonal structure is formed on the surface of a minute substrate.例文帳に追加

微小基板表面に、少なくとも表面の全部または一部に化学式がＺｎ_(1-x)Ｒ_xＯ（ＲはIIＡ族元素，０．０５≦ｘ）で表され、かつ六方晶構造を持つ表面層が形成されていることを特徴とする粉末蛍光体である。 - 特許庁

To provide a forming method for conductive patterns which forms a conductive pattern having no variation of its line width and its line space, even if a circuit is fine, without receiving such constraints as its cost, the workability required when creating a substrate for it, the selection of the composition constituting an insulating layer for it, and the selection of an electrode material for it.例文帳に追加

コストや基板作成時の加工性、絶縁性層を構成する組成物の選択、電極材料の選択等の制約を受けることなく、微細な回路であっても線幅や線間にばらつきのない導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

In a liquid crystal display device comprising a pair of opposite substrates, which are each composed of a substrate and, laminated thereon, an electrode and an alignment film, and intervening therebetween, a liquid crystal layer comprising a super-twisted nematic liquid crystal material, the super-twisted nematic liquid crystal material contains the chiral material of formula (1).例文帳に追加

基板上に電極と配向膜とが積層された一対の対向基板にス−パ−ツイストネマティック液晶材料からなる液晶層を介在させた液晶表示装置において、このス−パ−ツイストネマティック液晶材料が下記のカイラル材を含有する。 - 特許庁

Then, during the period of melting process of the highly thermally conductive paste, the hole made in the metal material in advance is filled with it to form an insulating layer and when the substrate is electrically plated after the hole is made, a short circuit caused by the contact between the metal material and the copper-clad laminate is prevented from occurring.例文帳に追加

そして、高伝熱ペーストの溶融過程時に、金属材の予め穿孔した穴の中を満たして、絶縁層を形成し、基板を穿孔後電気メッキする際、金属材及び銅張積層板が接触して短絡が発生しないようにする。 - 特許庁