「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(730ページ目) - Weblio英語例文検索

The laminated ceramic capacitor 1 has first and second electrode layers 121, 122 alternately arranged on the inside of a capacitor substrate 11 through a ceramic layer, and the first and second electrode layers are formed with the paste for the conductor.例文帳に追加

また、本発明の積層セラミックコンデンサ１は、コンデンサ基体１１の内部にセラミック層を介して交互に配設されている第１及び第２電極層１２１、１２２を備え、第１及び第２電極層が本発明の導体用ペーストを用いて形成されている。 - 特許庁

The hydrophilic member is obtained by heating a hydrophilic member precursor, wherein a layer containing at least an optical acid-generating agent and a polymeric compound having a functional group changed from hydrophobicity to hydrophilicity by an acid is provided on the surface of a substrate material, or irradiating the same with radiant light.例文帳に追加

基材表面に少なくとも光酸発生剤と、酸により疎水性から親水性に変化する官能基を有する高分子化合物を含有する層を備えた親水性部材前駆体を、加熱又は輻射線照射して得られることを特徴とする。 - 特許庁

Alternatively, when the organic material layer for each pixel is formed by applying the solution to the pixel formation area by an ink jet method, temperature control for the substrate is executed such that the generally central part of the pixel formation area is set at a temperature higher than that of the peripheral part.例文帳に追加

或いは、画素形成領域においてインクジェット法により溶液を塗布して各画素の有機材料層を形成するに際し、前記画素形成領域の略中央部が周縁部より高温となるように前記基板の温度制御を行う。 - 特許庁

To change at least one haze ratio of a translucent insulation substrate and a transparent conductive film to change a light absorbed amount in a photoelectric transfer layer, whereby a pattern is displayed in a thin-film solar cell without having to decrease substantially an area of a power generation region.例文帳に追加

透光性の絶縁基板と透明導電膜との少なくとも一方のヘイズ率を変えて、光電変換層での光吸収量を変えることにより、発電領域の面積を実質的に減少させずに、薄膜太陽電池に模様を表示する。 - 特許庁

To produce a polyurethane-polyurea capable of providing an ink-coated layer excellent in waterproof and adhesion to a substrate without using a step for removing an organic solvent, and further to provide an aqueous ink by using the polyurethane-polyurea.例文帳に追加

本発明の目的は、水性化可能なポリウレタンポリウレアであって、耐水性及び基材への密着性に富むインキ塗膜等を形成し得るポリウレタンポリウレアを有機溶剤を除去する工程を経ずに得ること、及び係るポリウレタンポリウレアを用いて水性インキを提供すること。 - 特許庁

A p-type drain layer 5 is formed in a substrate 1 through a gate oxide film 4A in a region for forming the high voltage transistor, and a gate electrode 6A having a function of a gate electrode and a dummy gate electrode 6B are simultaneously formed on the gate oxide film 4A.例文帳に追加

高耐圧トランジスタを形成する領域に、ゲート酸化膜４Ａを介して基板１内にＰ−型ドレイン層５を形成し、当該ゲート酸化膜４Ａ上にゲート電極として機能を有するゲート電極６Ａ、ダミーゲート電極６Ｂを同時に形成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for colored layer formation with which a color filter not causing "burn-in" can be formed in a high product yield, and which gives pixels and a black matrix excellent in solvent resistance and adhesion to a substrate.例文帳に追加

“焼きつき”を生じないカラーフィルタを高い製品歩留まりで形成することができ、かつ溶剤に対する耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与える着色層形成用感放射線性樹脂組成物等を提供する。 - 特許庁

The top of an aluminum substrate surface-treated with an acidic aqueous solution of ≤pH 5 at 10-70°C after surface roughening and anodic oxidation is coated with a silver halide-containing emulsion layer to obtain the objective silver salt diffusion transfer type planographic printing plate.例文帳に追加

粗面化処理及び陽極酸化処理に続き、その表面を１０〜７０℃でｐＨ５以下の酸性の水溶液で処理されたアルミニウム支持体上に、ハロゲン化銀を含む乳剤層を塗布してなることを特徴とする銀塩拡散転写型平版印刷版。 - 特許庁

An insulation film 5 having an upper pad 7 is boded to an insulation substrate having a lower pad 2 and both pads are connected through via holes 6 to produce a multilayer wiring board wherein a pad-like conductor layer 1 is provided on the rear surface of the insulation film.例文帳に追加

上部パッド７が形成された絶縁フィルム５と下部パッド２が形成された絶縁基板を接着積層し、前記両パッド間をビアホール６にて接続した多層配線基板において、前記絶縁フィルムの裏面にパッド状導体層１を設ける。 - 特許庁

Two or more unit cell cells each comprising the anode, the cathode, and oxygen-ion conductive oxide layer coming in contact with the anode and cathode are arranged on the outside and the inside of the insulating substrate, and two or more unit cell cells are connected in series or in parallel with a wire 1.例文帳に追加

アノード、カソード、および、該アノードと該カソードに接している酸素イオン伝導性酸化物層からなる複数の単電池セルを、絶縁性基板の表裏面に配置し、該複数の単電池セルを、配線１によって直列または並列に接続すること。 - 特許庁

To provide a compound capable of emitting visible rays and having electrical conductivity, to provide a luminescent material comprising the compound, to provide an inexpensive electroluminescent device with its luminescent layer containing the compound, and to provide a display unit formed by arranging the electroluminescent devices on a substrate.例文帳に追加

可視光を放出し得ると共に導電性を有する化合物、該化合物を含む発光材料、該化合物を発光層に含む低コストな電界発光素子、及び該電界発光素子を基板上に配列して形成されるディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

The plastic card is agitated in a mixed aqueous solution containing 18-50 wt.% of isopropyl alcohol and 4-10 wt.% of sodium hydroxide at 60-70°C under atmospheric pressure for 20-30 min, and the magnetic layer and the printed material are peeled off from the plastic substrate and cleaned.例文帳に追加

有機溶剤のイソプロパノール１８〜５０重量％と、アルカリ性の水酸化ナトリウム４〜１０重量％の混合水溶液中で、常圧下、温度６０〜７０℃で２０〜３０分間撹拌し、プラスチック基材より磁性層及び印刷物を剥離洗浄する。 - 特許庁

The conducive electric connection part 4 is so provided on the stress reducing layer 3 in the through-hole 2 as to close a lower surface opening 21, electrically communicating the lower surface 10 with the upper surface 11 of the substrate 1.例文帳に追加

一方、電気接続部４は、導電性を有し、スルーホール２において、応力緩和層３上に設けられるとともに、下面開口２１を閉塞するように設けられているものであり、基板１の下面１０及び上面１１の導電領域と導通する。 - 特許庁

Then, in a process shown in Figure 1 (c), while the liquid 16 as pure water keeps staying on the resist mask 13 and the silicon oxide film 12 (water applied in layer), the substrate is dipped into a buffer hydrofluoric acid water solution (a mixture of HF/H_2O and HF/NH_4F).例文帳に追加

次に、図１（ｃ）に示す工程で、液体１６である純水が、レジストマスク１３およびシリコン酸化膜１２上に残留した状態（層状に塗布された状態）で、緩衝フッ化水素酸水溶液（ＨＦ／Ｈ_2ＯとＨＦ／ＮＨ_4Ｆとの混合液）に基板を浸す。 - 特許庁

In a reflection substrate provided with a color filter, a rugged shape of a reflection layer has 0.2 to 0.8 μm surface roughness Ra, the recessed parts of the rugged shape have 0.5 to 1.5 μm depth and the recessed parts of the rugged shape have 5 to 30 μm width.例文帳に追加

本発明のカラーフィルターを備えた反射基板は、反射層における凹凸形状の表面粗さＲａは０．２〜０．８μｍであり、凹凸形状の凹部の深さが０．５〜１．５μｍであり、凹凸形状の凹部の幅が５〜３０μｍであることを特徴としている。 - 特許庁

The magnetic recording medium wherein a magnetic layer consisting essentially of a ferromagnetic powder and a bonding agent if formed on a substrate has 400-5,000 kg/mm^2 (3.92-49 GPa) of elastic modulus for 0.5% expansion.例文帳に追加

支持体上に強磁性粉末及び結合剤を主体とする磁性層が形成されてなる磁気記録媒体において、磁気記録媒体の０．５％伸び弾性率が４００〜５０００Ｋｇ／ｍｍ^2（３．９２〜４９ＧＰａ）であることすることを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

For example, in a unit sell 6_11 of a MOS sensor, there are provided an n conductivity type charge storage 24 becoming a photodiode, and a p-conductivity well region 25 of a scanning transistor on the surface of a p-conductivity epitaxial layer 21a on a p-conductivity silicon substrate 21.例文帳に追加

たとえば、ＭＯＳセンサの単位セル６_11は、Ｐ導電型シリコン基板２１上のＰ導電型エピタキシャル層２１ａの表面に、フォトダイオードとなるＮ導電型の電荷蓄積部２４、および、走査トランジスタ部のＰ導電型ウェル領域２５が設けられている。 - 特許庁

The apparatus 1 for manufacturing the printed matter grips the face of a substrate 103a of a first image receiving paper 3a by a grip roller 17a and a following roller 19a to convey the first image receiving paper 3a, and forms an image on an image receiving layer 101a of the first image receiving paper 3a.例文帳に追加

印画物製造装置１は、グリップローラ１７ａと従動ローラ１９ａによって第１の受像紙３ａの基材１０３ａの面を把持して第１の受像紙３ａを搬送し、第１の受像紙３ａの画像受容層１０１ａに画像を形成する。 - 特許庁

The semiconductor light-emitting element 1 is provided with: a substrate 2; a semiconductor multilayer structure 3 in which a main surface 12a of an active layer 12 and main surfaces of layers 11, 13, 14 are each formed of an m-surface as a non-polarity surface; a cathode electrode 4; and an anode electrode 5.例文帳に追加

半導体発光素子１は、基板２と、活性層１２の主面１２ａ及び各層１１、１３、１４の主面が無極性面であるｍ面により構成された半導体積層構造３と、カソード電極４と、アノード電極５とを備えている。 - 特許庁

As the front reflecting mirror, whose reflectivity can be comparatively low, is provided between the substrate and the semiconductor layer, the time to grow a thick film is shortened, a distortion and a defect, generated in a crystal, is suppressed and the characteristics of an optical resonator structure element can be improved.例文帳に追加

比較的反射率の小さくても良い前部反射鏡を基板と半導体層の間に設けたため、成長に必要な時間を短縮し、結晶中に発生する歪や欠陥を抑制して素子特性を良好なものとすることができる。 - 特許庁

To provide an electro-optical device, an electronic apparatus, and a method for manufacturing the electro-optical device in which a high-quality image display is realized by preventing abnormal exposures during formation of a photosensitive resin layer on a transparent substrate by using photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィ技術を利用して透明基板上に感光性樹脂層を形成する際の露光異常を防止して、表示品位の高い画像を表示することのできる電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A lower layer circuit pattern 16, including a connecting pad 6, is formed on the main surface of a core substrate 11, a via hole bottom strengthening pad 7 is formed on this connection pad 6, and a via hole 5 reaching the via hole bottom strengthening pad 7 is formed on an interlayer insulating film 10.例文帳に追加

コア基板１１の主面に接続パッド６を含む下層の回路パターン１６が形成され、この接続パッド６上にビアホール底強化パッド７を形成され、層間絶縁膜１０にビアホール底強化パッド７に達するビアホール５が形成されている。 - 特許庁

In the incoming function means 4, a transparent transmission band body to which the light emitting bodies of LED is combined, a picture printing layer installed on the surface side of the transmission band body and a wiring substrate installed at the back of the transmission band body are installed.例文帳に追加

着信機能手段４は、ＬＥＤ等の発光体を組み付けてなる透明透光帯体と、該透光帯体の少なくとも表面側に被装された画像印刷層と、前記透光帯体の裏面側に被装された配線基板とを備える。 - 特許庁

The lateral semiconductor element (10) by thin-film SOI technology is equipped with an insulating layer (14) which is positioned on the substrate (12) and is buried under a thin silicon film (16), and a source or anode contact (18) and a drain or a cathode contact (22) are attached onto the silicon film (16).例文帳に追加

薄膜ＳＯＩ技術でのラテラル半導体素子（１０）が、基板（１２）上に位置し、薄いシリコン膜（１６）の下に埋め込まれた絶縁体層（１４）を備え、シリコン膜（１６）の上に、ソースまたはアノードコンタクト（１８）と、ドレインまたはカソードコンタクト（２２）とが取り付けられている。 - 特許庁

Then when a potential difference ΔVcom due to variation in common voltage measured by a liquid crystal device 1 completed in advance has a plus value, the alignment layer 16 formed on the TFT substrate 10 is heat-treated at predetermined temperature for a predetermined time based upon the potential difference ΔVcom (S5).例文帳に追加

次いで予め完成された液晶装置1で測定した共通電圧の変動による電位差ΔVcomに基づき、電位差ΔVcomがプラス値を示している場合は、TFT基板10に形成されている配向膜16を、所定温度で所定時間加熱処理する(S5)。 - 特許庁

To propose a multi-color thermal transfer recording medium which can express the number of colors exceeding the color tones of a coated ink layer, and which can avoid a trouble in the winding of an ink ribbon, in the ink ribbon provided by mixing ink layers with a plurality of colors on a substrate.例文帳に追加

支持体上に複数色のインク層を混在して設けるインクリボンにおいて、塗工したインク層の色調を超える色数の表現が可能になり、かつ該インクリボンにおける巻装時トラブルを回避できる多色熱転写記録媒体を提案すること。 - 特許庁

In the heat sink submount formed by depositing a metal film 3 on a substrate 1 consisting of a heat-conductive insulation material interposing a metallized layer 2, the surface roughness Ra on the deposited metal film 3 is controlled to be from 0.05 to 1.2 μm.例文帳に追加

熱伝導性電気絶縁材料１よりなる基体にメタライズ層２を介して、溶着金属膜３を形成してなるヒートシンクサブマウントにおいて、該溶着金属膜３の表面粗さがRa０．０５〜１．２μｍに調整されたことを特徴とするヒートシンクサブマウント。 - 特許庁

The common mode choke coil 1 has a rectangular parallelepiped-like outer shape as a whole by forming an insulating layer 60, first/second helical coils 11, 12, and a closed magnetic circuit 141 on a silicon substrate 51, which is formed of single-crystal silicon, with a thin-film formation technique.例文帳に追加

コモンモードチョークコイル１は、単結晶シリコンで形成されたシリコン基板５１上に絶縁層６０、第１ヘリカルコイル部１１、第２ヘリカルコイル部１２及び閉磁路１４１を薄膜形成技術で形成した全体として直方体状の外形を有している。 - 特許庁

A λ/4 plate 7 is located on a surface of the substrate 2 at the rear of the side on which the counter electrode 4 is formed and a slow axis of the λ/4 plate 7 is located being inclined 45° to a direction of a long axis of liquid crystal molecules under an applied voltage to the liquid crystal layer 5.例文帳に追加

基板２の対向電極４が形成された側の反対の面にλ／４板７が配置され、λ／４板７の遅延軸は、液晶層５に電圧を印加した時の液晶分子の長軸方向に対して４５°傾けるように配置されている。 - 特許庁

This substrate for the probe card is constituted by layering sequentially a plurality of resin layers 2 comprising a plurality of conductor patterns 6 and a resin 2a, and a plurality of support layers 3 formed with penetrated-through conductors 7 connected electrically to the conductor patterns 6, and having a Young's modulus higher than that of the resin layer 2.例文帳に追加

複数の導体パターン６と樹脂２ａとからなる複数の樹脂層２と、導体パターン６に電気的に接続された貫通導体７が形成されており、樹脂層２よりヤング率が高い複数の支持層３とが順次積層されてなる。 - 特許庁

The method further includes the steps of forming second interlayer insulation films (films 13, 14 and 15) at an upper side of the second layer wiring 11 on the substrate 1, and removing by etching an unnecessary position including a pad forming region in the second interlayer insulation films (films 13, 14 and 15) by using a mask 16.例文帳に追加

基板１上での第２層目の配線１１の上側に第２層目の層間絶縁膜（膜１３，１４，１５）を形成し、マスク１６を用いて第２層目の層間絶縁膜（膜１３，１４，１５）におけるパッド形成領域を含む不要箇所をエッチング除去する。 - 特許庁

The polylactic acid-based resin foamed particles using a polylactic acid-based resin as a substrate resin is characterized in that the relation of the surface layer heating value (Bs:g/J) of the foamed particles to the inner heating value (Bi:g/J) of the foamed particles satisfies the following expression (1).例文帳に追加

本発明のポリ乳酸系樹脂発泡粒子は、ポリ乳酸系樹脂を基材樹脂とする発泡粒子であって、該発泡粒子の表層の発熱量（Ｂｓ：ｇ／Ｊ）と該発泡粒子の内部の発熱量（Ｂｉ：ｇ／Ｊ）との関係が下式（１）を満足する。 - 特許庁

To provide an inorganic substrate with a silica based thin layer which has electric insulating property, flexibility and excellent heat resistance, is flattened and is free from alternation, deterioration or deformation even when exposed at a high temperature, a method of manufacturing the same, a coating agent for the same and a semiconductor device.例文帳に追加

電気絶縁性と可撓性と優れた耐熱性を有し平坦化され高温に曝されても変質、劣化、変形することのないシリカ系ガラス薄層付き無機質基板、その製造方法、そのためのコーテイング剤および半導体装置を提供する。 - 特許庁

The bottom gate-bottom contact type thin film transistor which has a gate electrode, a gate insulating film, the source and drain electrodes, and a semiconductor layer stacked in order on an insulating substrate, is provided with a recess shape on the gate insulating film, and the source-drain electrode is disposed at the recess shape part.例文帳に追加

絶縁基板上に、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、ソース・ドレイン電極と、半導体層と、を順次積層したボトムゲート・ボトムコンタクト型薄膜トランジスタにおいて、ゲート絶縁膜上に凹形状を設け、該凹形状部分にソース・ドレイン電極を配置する。 - 特許庁

Arranging a unique electrical connection means to insulating adhesive films (4, 8, 12) arranged between a substrate (2) and a lowest layer semiconductor element (6), and between semiconductor elements, together with each semiconductor element itself, avoids the necessity of the wire-bonding method.例文帳に追加

各半導体素子自体と共に、基板（２）と最下層半導体素子（６）との間及び各半導体素子間に配設されている絶縁性接着フィルム（４、８、１２）に、独特な電気的接続手段を配設することによって、ワイヤーボンディング方式の必要性を回避する。 - 特許庁

To quickly put ink in opening parts and besides to prevent mixing of ink colors between adjacent opening parts in manufacture of a color filter in which a light shielding layer made of resin is formed on a transparent substrate and ink is provided in their opening parts to form colored parts.例文帳に追加

透明基板上に樹脂製の遮光層を形成し、その開口部にインクを付与して着色部を形成するカラーフィルタの製造において、上記開口部にインクが速やかに収納され、且つ、隣接する開口部間でのインクの混色を防止する。 - 特許庁

The semiconductor thin film 15 can be manufactured, by developing the solvent where the semiconductor colloidal nanodots 30 are dispersed in the solvent on the surface of water, and then transferring single particle layer film, arranged regularly on the occasion of vaporizing the solvent to the substrate with the horizontal adhering method.例文帳に追加

半導体薄膜１５は、半導体コロイダルナノドット３０を溶媒中に分散させた溶液を水の表面に展開し、溶媒を蒸発させてその際に規則配列となった単粒子層膜を水平付着法により基板に移し採ることで作製する。 - 特許庁

To provide a coated article having a weatherable silicone resin coating film which can sufficiently obtain the adhesion between it and a substrate, has weatherability and light resistant catalytic properties, reduces the number of baking in a two-layer coating line film forming process, and can shorten a coating interval.例文帳に追加

基材との密着が十分得られ、耐候性および耐光触媒性を有し、かつ、２層塗りライン膜形成工程においてベーク数を減少し、塗装インターバルを減少させることができる耐候性シリコーン樹脂塗膜を有する塗装品を提供する。 - 特許庁

The analyzing element comprises a plurality of films 3, 4 having at least a metal film 4 and laminated on a substrate 2, and the diffraction grating 5 which can induces the evanescent wave by irradiating with an exciting light and which is formed on a boundary surface or a surface of a front layer between the layers 2 and 3 except the film 4.例文帳に追加

基板２上に少なくとも金属膜４を含む複数の膜３，４を積層し、励起光の照射によりエバネッセント波を誘起しうる回折格子５を金属膜４以外の層２，３間の境界面或いは表層の表面に形成する。 - 特許庁

The photochromic surface layer part of the optical substrate is coated with an ultraviolet ray absorbing film with a thickness of 0.1-100 μm, where a ratio of transmitted light ray with a wavelength of 360 nm is 50% or more and where a ratio of transmitted light ray with a wavelength of 320 nm is 10% or less.例文帳に追加

上記光学基板のフォトクロミック表層部を、３６０ｎｍの光線透過率が５０％以上であり、且つ３２０ｎｍの光線透過率が１０％以下である、厚さが０．１〜１００μｍである紫外線吸収膜により被覆する。 - 特許庁

To provide a polishing device which is capable of polishing the required layer of a target substrate at a sufficiently high polishing rate as defects caused by corrosion or scratches are reduced to the utmost while a slurry is kept high in stability and long in service life without providing an annexed feed unit.例文帳に追加

供給付帯設備を設けることなくスラリの安定性および寿命を維持しつつ、エロージョンやスクラッチといった欠陥を極力低減し、しかも十分に大きな研磨速度で被処理基板の所望の層を研磨可能な研磨装置を提供する。 - 特許庁

To reduce the tendency to form whiskers in a method for electrodepositing a layer of tin or tin alloy on a copper or copper-containing alloy substrate in an electrical device such as a printed wiring board, a lead frame, a semiconductor package, a chip capacitor, a chip resistor, a connector, and a contact.例文帳に追加

プリント配線板基体、リードフレーム、半導体パッケージ、チップコンデンサ、チップ抵抗、コネクタまたは接点である電子デバイスにおいて、銅または銅含有合金基体の上にスズまたはスズ合金層を電着する方法において、ウィスカー形成の傾向を抑制する。 - 特許庁

Banks 13 for partitioning pixels are formed on a substrate 11, the part where the aperture part 21a is to be formed is subjected to liquid repellent treatment and then a liquid material for forming the semitransmission reflection layer 21 is ejected into the pixel by an ink jet method to form the semitransmission reflection later 21.例文帳に追加

基板１１上に、画素を仕切るバンク１３を形成し、開口部２１ａが形成される部位に撥液処理を施した後、画素内に半透過反射層２１を形成する液体材料をインクジェット法により吐出して半透過反射層２１を形成する。 - 特許庁

The gold plating layer has an end face extending toward the first end face, which is located in a range between the first end face of the semiconductor substrate and a middle position relevant to one half of a length A of the light non-absorbing area along the optical axis.例文帳に追加

この金メッキ層は前記第１端面に向かって延びた端面を有し、この金メッキ層の端面が、半導体基体の第１端面と、光軸に沿った前記光非吸収領域の長さＡの１／２に相当する中間位置との間の範囲に位置する。 - 特許庁

This patch preparation is produced by laminating an adhesive layer including medicines and the surface release film on a substrate in order wherein the average roughness (Rz) at 10 points on the surface on the side of the release film contacting with the adhesive is in the range of 0.15-0.35 μm.例文帳に追加

支持体上に薬物を含有する粘着剤層および離型フィルムが順次積層されてなる貼付製剤において、離型フィルムの粘着剤と接する側の表面の１０点平均粗さＲｚが０．１５〜０．３５μｍである貼付製剤とする。 - 特許庁