「layer substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(732ページ目) - Weblio英語例文検索

When a surface layer section 2a is formed onto a substrate bed rock 1 by the elastic paving material 2 manufactured by connecting aggregate containing hard aggregate and/or soft aggregate by a binder, high-hardness hard aggregate having Moh's hardness of 8 or more is contained in aggregate.例文帳に追加

下地基盤１上に、硬質骨材および／または軟質骨材を含む骨材をバインダーにて結合してなる弾性舗装材２により表層部２ａを形成するにあたって、上記骨材中にモース硬度が８以上である高硬度硬質骨材を含ませる。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is obtained by disposing a photosensitive layer containing at least an electron transport agent, a charge generating agent and a binder resin on a conductive substrate, wherein the electron transport agent is a compound represented by formula (I).例文帳に追加

導電性基体上に、少なくとも電子輸送剤、電荷発生剤およびバインダ樹脂を含有した感光層が設けられた電子写真感光体であって、前記電子輸送剤が、下記式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする電子写真感光体である。 - 特許庁

To provide a substrate for the production of a SOI (Semiconductor On Insulator) structure which allows a high flexibility to adjust the lattice dimensions of an insulator layer for the integration of either fully relaxed or strained semiconductor layers consisting of a variety of materials with high crystalline quality.例文帳に追加

高い結晶品質を有する、多様な材料からなる、完全に緩和した、又は歪んだ半導体層を積層するために絶縁体層の格子寸法を調整するための高い柔軟性を許容する、ＳＯＩ構造の作製のための基板を提供する。 - 特許庁

With a second oxide film 3 coated with a second photoresist layer 20, a first oxide film 2 is etched with a first gate electrode 7 as a mask, so that the thin second oxide film 3 is over-etched to prevent a semiconductor substrate 1 from being exposed.例文帳に追加

第２の酸化膜３を第２のフォトレジスト層２０で被覆した状態で第１のゲート電極７をマスクにして第１の酸化膜２をエッチングしているので、薄い第２の酸化膜３がオーバー・エッチングされて半導体基板１が露出することが防止される。 - 特許庁

To provide a high frequency module which reduces leakage current by electrically isolating a substrate from a high frequency element, while forming a thin-film MIM capacitor having a dielectric layer of satisfactory crystallinity, and satisfactorily prevents deterioration of characteristics due to parasitic components.例文帳に追加

結晶性の良好な誘電体層を有する薄膜ＭＩＭキャパシタを形成しつつ、基板と高周波素子を電気的に分離してリーク電流を低減し、更には寄生成分による特性劣化を良好に防止することができる高周波モジュールを提供する。 - 特許庁

Further, the adhesive 8 like the adhesive film of anisotropic conductive material content is formed so as to cover at least a part of the resist layer 420 and the IC packaging region 410 and cover an interior region from a truncation schedule line L to the large-sized substrate 41.例文帳に追加

また、レジスト層４２０の少なくとも一部、およびＩＣ実装領域４１０を覆い、かつ、大型基板４１に対する切断予定線Ｌより内側領域を覆うように、異方性導電材含有の接着フィルムなどの接着材８を形成する。 - 特許庁

A gas sensor is constituted by arranging an operation electrode 11 wherein a gold including layer 13 is formed on one surface of a substrate 12 including carbon fibers having permeability and conductivity in electrolytic solution 24 together with a counter electrode so that one surface is on the gas taking port 21 side.例文帳に追加

通気性と導電性を有する炭素繊維からなる基材12の一方の表面に金の含有層13を形成した作用極11を、前記一方の表面をガス取り入れ口21側となるように対極とともに電解液24中に配置して構成されている。 - 特許庁

To provide a foamed laminated sheet for a car trim material prevented from deformation due to use at a high temperature and sagging due to the own weight and constituted by stably and inexpensively laminating a skin material or an allophone preventing layer on a substrate, and the car trim material using the same.例文帳に追加

高温下での使用による変形、自重による垂れ下がりを防止し、さらに、表皮材や異音防止層などが基材に安定且つ安価に積層された自動車内装材用発泡積層シート、および該シートを用いた自動車内装材を提供する。 - 特許庁

In forming a laminated layer film comprising a first conductive film 106, a dielectric film 108 and a second conductive film 110 on a semiconductor substrate 102, an etching process is performed after protecting a sidewall of the second conductive film 110 with a second protective film (buffer film).例文帳に追加

半導体基板１０２上に第１導電膜１０６と、誘電体膜１０８と、そして第２導電膜１１０からなる積層膜を形成する際、第２導電膜１１０の側壁を第２保護膜（バッファ膜）で保護してからエッチング工程を実施する。 - 特許庁

This inkjet recording medium is characterized in that a surface layer, which contains inorganic particulates with a mean refractive index of 1.9-2.9 and a hydrophilic binder including a polymer compound formed by being cross-linked or polymerized by an ionizing radiation, is provided on a substrate.例文帳に追加

支持体上に、平均屈折率が１．９〜２．９である無機微粒子と、電離放射線による架橋または重合により形成された高分子化合物を含む親水性バインダーとを含有する表面層を有することを特徴とするインクジェット記録媒体。 - 特許庁

To provide a new radiation-sensitive composition for colored layer formation having high sensitivity, excellent in pattern profile and film retention even in low exposure energy, and providing pixels and a black matrix excellent in solvent resistance to various solvents and in adhesion to a substrate.例文帳に追加

高感度で、低露光量でもパターン形状および残膜率が優れ、かつ各種溶剤に対する耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与える新規な着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The exhaust cleaning catalyst includes a catalyst layer formed by applying an oxygen absorbent (24) comprising ceria onto the surface of a substrate (22) made from a material having a high specific surface area to be membranous, and subsequently overlaying particles (20) supporting a noble metal (26) on the surface of the membrane of the oxygen absorbent.例文帳に追加

排気浄化触媒において、触媒層は、高比表面積材料からなる基材(22)の表面にセリアを含む酸素吸蔵材(24)を薄膜状に塗布するとともに該薄膜状の酸素吸蔵材の表面に貴金属(26)を担持した粒子(20)を積層してなる。 - 特許庁

In peeling off an adhesive sheet, an adhesive layer of this sheet is individualized about adhesion and set so as to separate the portions for peeling off a thin film from portions for not peeling it off, thus forming a desired pattern made of a thin film on a substrate.例文帳に追加

接着シートを引き剥がす際に、前記接着シートの接着層が接着力により差別化され、薄膜を剥離除去する部分と薄膜を剥離除去しない部分とに分かれているように設定し、基板上に所望の薄膜からなるパターンを形成する。 - 特許庁

In this constitution, forward scattering components 8 essentially causing the light loss can be returned to the surface of the display side substrate 1 as reflected light 10 by the reflecting function of the light reflection layer 11, and thus brighter display is realized.例文帳に追加

このような構成にすることにより、本来、光のロスにつながっていた前方散乱成分８を光反射層１１の反射機能で反射光１０を表示側基板１面にもどすことが可能となり、より明るい表示が可能となるものである。 - 特許庁

On a TFT array substrate 10 of the reflection type electro- optical device 100, a comparatively large contact hole 7b is formed in an upper layer insulating film 7a, a reflecting electrode 8a is electrically connected with a transmissive electrode 9a via this contact hole 7b.例文帳に追加

反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０において、上層絶縁膜７ａに大きめのコンタクトホール７ｂを形成し、このコンタクトホール７ｂを介して透光性電極９ａに反射性電極８ａを電気的に接続する。 - 特許庁

In an element forming layer 3 on an SOI substrate 1, PchMOS 10 is insulated and separated, by being surrounded by a 1st trench 5, and NchMOS 20 is formed outside the 1st trench 5 side by side with the PchMOS 10 across the 1st trench 5.例文帳に追加

ＳＯＩ基板１の素子形成層３において、ＰｃｈＭＯＳ１０が第１のトレンチ５により囲まれて絶縁分離されており、第１のトレンチ５の外側に第１のトレンチ５を挟んでＰｃｈＭＯＳ１０と並ぶようにしてＮｃｈＭＯＳ２０が形成されている。 - 特許庁

A solid-state imaging device is configured in which an infrared cut filter layer 311 is provided on a surface of a glass substrate 301 facing a sensor component 100 so as to cover a portion corresponding to a pixel area PA and a part of a surrounding area SA located around the pixel area PA.例文帳に追加

ガラス基板３０１においてセンサ素子１００に対面する側の面のうち、画素領域ＰＡに対応する部分と、画素領域ＰＡの周辺に位置する周辺領域ＳＡの一部とを被覆するように、赤外カットフィルタ層３１１を形成する。 - 特許庁

The transparent electrode for an FPD in its forming method is made by forming a transparent conductive film made of the ITO ultrafine particle powder on a transparent substrate, forming an overcoat film over it, and baking the double-layer-structure transparent conductive film at 300°C or less.例文帳に追加

透明基板上にＩＴＯ超微粒子粉末から成る透明導電膜を形成し、その上にオーバーコート膜を形成し、この２層構造の透明導電性膜を３００℃以下で焼成してなるＦＰＤ用透明電極およびその形成方法。 - 特許庁

A copper foil 1, an insulating heat-transmitting component 2, and a base component 3 on whose surface an adhesive layer 31 is coated, and heat press treatment is carried out to join the copper foil 1, insulating heat-transmitting component 2, and base component 3 and form a belt-type or plate-type copper flexible circuit substrate.例文帳に追加

銅箔１、絶縁導熱材２、および表面に粘着層３１を塗布した底材３を用意し、熱プレス処理を行ない、銅箔１、絶縁導熱材２および底材３を結合させて帯状または板状の銅箔フレキシブル回路基板とする。 - 特許庁

The n^+ epitaxial layer 5 has a projection part 19 on the upper surface 5a, contacting the anode electrode 9, and the p-type impurity region 13 is formed to reach a region R closer to the lower surface 3b side of the n-type substrate 3 than to the tip of the projection part 19.例文帳に追加

ｎ^+エピタキシャル層５はアノード電極９と接触する上面５ａに突起部１９を有しており、ｐ型不純物領域１３は突起部１９の先端よりもｎ型基板３の下面３ｂ側の領域Ｒに達するように形成されている。 - 特許庁

On the main surface of the semiconductor substrate, a conductive layer 50 which is electrically connected to the upper side faces of the electrodes in the capacity sections are formed so as to surround the tops of the electrodes of the capacity sections buried in the groove sections 24c and 24d.例文帳に追加

半導体基板の主面には溝部２４ｃ，２４ｄ内部に埋め込まれた容量部の電極の上部を取り囲むように配置され、容量部の電極の上部のすべての側面と電気的に接続された導電性層５０が形成される。 - 特許庁

The substrate is for the purpose of forming a color filter and has an organic molecular film pattern, and this organic molecular film pattern has a function by which a color filter layer 15 is selectively formed, based on this pattern when supplying a color filter material by the ink discharge system.例文帳に追加

カラーフィルターを形成するための基板であって、有機分子膜パターンを有し、この有機分子膜パターンは、インク吐出法によりカラーフィルターの材料を供給した際に、このパターンに基づいてカラーフィルター層１５が選択的に形成される機能を有する。 - 特許庁

A heater electrode 34 and exciting electrodes 36A, 36B, 36C are formed on the substrate 32, a dielectric layer 38 is formed so as to cover these electrodes, and a discharge electrode 40 is formed thereon with a plurality of opening parts 42 formed therein.例文帳に追加

基板３２上には、ヒータ電極３４、励起電極３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃが形成されており、これらの電極を被うように誘電体層３８が形成され、さらにその上に開口部４２が複数個形成された放電電極４０が形成されている。 - 特許庁

Subsequently, the semiconductor substrate is transferred to the plasma pretreatment module where the photoresist pattern is removed by ashing and a damaged layer at the lower part of the contact hole is removed and then pretreatment cleaning is performed before a subsequent film is deposited in the contact hole.例文帳に追加

次いで、前記半導体基板を前記プラズマ前処理モジュールに移送させた後、前記フォトレジストパターンをアッシングして除去し、前記コンタクトホール下部の損傷層を除去した後、前記コンタクトホール内に後続膜を蒸着する前に前処理洗浄を行う。 - 特許庁

The substrate is made to: with contacted a restoration fluid containing water and at least one compound, which has a surface tension that is less than the surface tension of the at least one entrapped liquid in the at least one layer of a porous dielectric material.例文帳に追加

該基材は表面張力を有する少なくとも一の化合物と水を含むレストア流体と接触させられ、該表面張力は多孔性誘電材料の少なくとも一の層において少なくとも一の取り込まれた液体の表面張力よりも低い。 - 特許庁

An insulation film formed on a Si substrate and containing Hf or Zr and a deposited film present on the upper or lower layer thereof or in the film are removed by repeating dry etching and wet etching one or more times by putting the wet etching first.例文帳に追加

Si基板上に形成されたHfあるいはZrを含む絶縁膜とその上層あるいは下層あるいは膜中に存在するMg,YあるいはAlとを含む堆積膜の除去を、ドライエッチングとウエットエッチングを、ウエットエッチングを先にして少なくとも1回繰り返して行う。 - 特許庁

To provide a transparent conducting substrate having a conductive layer large in adhesiveness, conductivity and transparency, which can be manufactured at a high speed, and on which washing required to manufacture organic electronic elements such as an organic EL element and an organic solar battery can be performed.例文帳に追加

導電層の高い接着性、導電性および透明性を兼ね備えてかつ、高速生産可能であり、有機ＥＬ素子、有機太陽電池といった有機電子素子を製造するための洗浄が可能な透明導電性基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device reducing warpage of a package caused by heat generation when using the semiconductor device and a semiconductor device operating temperature environment, and hence effectively suppressing a fatigue fracture of a solder layer for bonding a substrate to the package.例文帳に追加

半導体装置使用時の発熱や半導体装置使用温度環境によるパッケージの反りを低減でき、もって、基板とパッケージの間を接着するはんだ層の疲労破壊を効果的に抑止することのできる、半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photoelectric conversion semiconductor layer which has a main component of a compound semiconductor containing multiple metallic elements, can be manufactured at low cost without requiring a high temperature process, shows high adhesion to a substrate, and has less residual organic component.例文帳に追加

複数の金属元素を含む化合物半導体を主成分とする系において、高温プロセスを必須とせず低コストに製造することができ、基板への密着性が高く、有機成分の残留が少ない光電変換半導体層の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a photoresist film is formed on at least one of the plurality of diffusion layer regions; and while a ground potential is supplied to the back side of the semiconductor substrate, plasma ashing processing is applied to the photoresist film so that the photoresist film can be removed.例文帳に追加

次いで、当該複数の拡散層領域のうちの少なくとも１つの拡散層領域上にフォトレジスト膜を形成し、半導体基板の裏面側に接地電位を供給しつつ、プラズマアッシング処理を当該フォトレジスト膜に施すことによってこれを除去する。 - 特許庁

The inkjet recording medium has on a substrate an ink accepting layer which contains inorganic particulates, a water-soluble aluminum compound, a zirconium compound, a cationically modified self-emulsifiable polymer, polyvinyl alcohol having a saponification degree of 92-98 mol% and a crosslinking agent.例文帳に追加

支持体上に、無機微粒子と水溶性アルミニウム化合物とジルコニウム化合物とカチオン変性された自己乳化性高分子と鹸化度が９２〜９８ｍｏｌ％のポリビニルアルコールと架橋剤とを含むインク受容層を有するインクジェット記録媒体及びその製造方法。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor is obtained by disposing a photosensitive layer containing a polycarbonate resin having a constitutional unit comprising the residue of bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)methane or the residues of bis(3-methyl-4-hydroxyphenyl)methane and other bisphenols on an electrically conductive substrate.例文帳に追加

導電性基体上に、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタンまたはビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタンと他のビスフェノール類の残基からなる構成単位を有するポリカーボネート樹脂を含有する感光層を設けて構成された電子写真感光体。 - 特許庁

The heat-sensitive recording material provided with a heat- sensitive recording layer comprising a leuco dye and a color developer as main ingredients on a substrate is characterized by using methylene-bis(2-naphthol) as a developer and diphenyl sulfone or β-benzyloxynaphthalene as a sensitizer.例文帳に追加

支持体上に、ロイコ染料及び顕色剤を主成分とする感熱記録層を設けた感熱記録材料であって、顕色剤としてメチレンビス（２−ナフトール）を用い、増感剤としてジフェニルスルフォン、またはβ−ベンジルオキシナフタレンを用いることを特徴とする。 - 特許庁

As a semiconductor laser array device part, the clad layers 3, 7, 9 and an active layer 5 are provided at least, and the clad layers 3, 7 and 9 have lattice constants between with GaAs and GaP, and plurality of oscillation regions are provided on the same semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体レーザアレイ素子部としてクラッド層３，７，９と活性層５とを少なくとも備え、前記クラッド層３，７，９はＧａＡｓとＧａＰとの間の格子定数を有しており、同一の半導体基板上に複数の発振領域を具備している。 - 特許庁

To provide an ordinary temperature curable photocatalyst having high adhesion strength, photocatalytic action and photocatalyst film strength, a method for manufacturing the same, a coating solution for the substrate layer of the photocatalyst, a coating solution for a photocatalyst film and a functional body using the same.例文帳に追加

付着強度、光触媒作用および光触媒膜強度が高い常温硬化性の光触媒体、光触媒体の製造方法、、光触媒体の下地層用塗布液、光触媒膜用塗布液およびこれを用いた機能体を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer member with a cleaning function which is transferred into substrate treatment equipment for cleaning and removing foreign matters inside the equipment, and which contains a cleaning layer having no photo-deterioration during storage, even though it contains a polyimide having unsaturated bondings.例文帳に追加

基板処理装置内に搬送して装置内の異物をクリーニング除去するクリーニング機能付き搬送部材に関し、不飽和結合を有するポリイミドを含有しているにもかかわらず、保存時に光劣化を生じないクリーニング層を有する搬送部材を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element capable of easily peeling a growth substrate by wet etching processing or application of an external force by introducing a cavity having a large opening area formed using an ELOG method into the inside of a semiconductor layer.例文帳に追加

ＥＬＯＧ法を用いて形成された開口面積の大きい空洞を半導体層内部に導入することにより成長用基板をウェットエッチング処理または外力印加によって容易に剥離することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A series of through holes 14 for fitting the substrate are formed at the FPWB 10, and a wire harness 50 is inserted through the series of through holes 14 alternately from the side of an insulating film 11 and the side of a cover insulating layer 13 to install the FPWB 10 in the state of being skewed to the wire harness 50.例文帳に追加

ＦＰＷＢ１０に一連の基板取付用貫通孔１４を設け、一連の基板取付用貫通孔１４に、ワイヤハーネス５０を、絶縁フィルム１１側からとカバー絶縁層１３側から交互に通し、ワイヤハーネス５０に串差し状態で設置する。 - 特許庁

The cleaning member of the intermediate transfer roll 27 is a stack sheet 31 which is hung on a discharge roller 32 and a winding roller 33, and obtained by stacking an adhesive layer 31b consisting of a resin which having a glass transition point equal to or less than a room temperature on a film substrate 31a.例文帳に追加

中間転写ローラ２７のクリーニング部材を、送り出しローラ３２及び巻き取りローラ３３間に掛け渡され、フィルム基板３１ａ上に、ガラス転移温度が室温以下の樹脂からなる粘着層３１ｂを積層してなる積層シート３１とする。 - 特許庁

To provide an active matrix substrate in which the faulty connection in a storage capacitor element as caused by a short circuit between storage capacitor electrodes due to a conductive foreign material or a pinhole in an insulating layer or by a short circuit between a data signal line and a storage capacitor upper electrode can be repaired with ease.例文帳に追加

導電性異物や絶縁膜のピンホールによる保持容量電極間の短絡や、データ信号線と保持容量上電極との短絡により発生する保持容量素子の不良を容易に修復することが可能なアクティブマトリクス基板を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the light emitting range and the connecting range are separated within 1 picture element and no part of the perpendicular projection of the connecting range to the surface of a transparent substrate 2' is overlapped with the light emitting range, a pressure force from outside the device is not extended to the organic EL layer.例文帳に追加

また、１画素中で、発光領域と接続領域とが分離しており、透明基板２’表面への接続領域の垂直投影が、発光領域と重なり合う部分を持つことがないため、装置外部からの圧力が、有機ＥＬ層に及ぶことがない。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a backing plate for piercing with a water soluble lubricating layer formed on at least one side of an aluminum substrate which can inexpensively manufacture the backing plate while improving the accuracy of piercing position.例文帳に追加

アルミニウム製基板の少なくとも片面に水溶性潤滑層が形成された孔あけ加工用あて板の製造方法において、孔あけ位置精度を向上させうるあて板を安価に製造することができる孔あけ加工用あて板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In fabrication of the array substrate for liquid crystal display device according to a new four-mask process, an island-like active layer is formed on the above part of a gate electrode and an opaque metal pattern of a small width is formed on one end of a transparent pixel electrode.例文帳に追加

本発明は、新しい４マスク工程による液晶表示装置用アレイ基板の製作において、ゲート電極の上部に、アクティブ層をアイランド状で構成して、透明な画素電極の一端に不透明な金属パターンを小幅で構成することを特徴とする。 - 特許庁

A metal layer to serve as a source electrode 12 or a drain electrode 13 is formed so as to have a part overlapping with the upper light shielding film 16 on the periphery of a contact hole 19 for the pixel electrode when viewed from the direction vertical to the surface of a transparent substrate 1.例文帳に追加

ソース電極１２またはドレイン電極１３となる金属層を、透明基板１の基板面に垂直な方向から見て、画素電極用コントクトホール１９の周囲にて、該金属層と上部遮光膜１６とが重なる重なり部を有するように形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device having the DRAM region provided with a stacked capacitor and the logic region on a semiconductor substrate, etching is performed when a cell plate pattern is formed in such a manner that an upper capacitor electrode layer 124 is left at least partly in the logic region.例文帳に追加

半導体基板上にスタックキャパシタを有するＤＲＡＭ領域と、ロジック領域とを有する半導体装置の製造方法において、セルプレートパターン形成時に、ロジック領域にも少なくとも部分的に上部キャパシタ電極層１２４を残してエッチングする。 - 特許庁