「minimum pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus for attaching a tracing pattern of forgery prevention or the like without damaging print productivity because an ink jet printer for detecting a portion with no image data (white portion) in a main scanning direction, skips a blank line and performs scanning to thereby increase a printing speed with minimum paper feeding when a tracking pattern in an ink jet type printer and a copying machine is attached.例文帳に追加

インクジェット方式のプリンタや複写機における追跡パターンを付加した場合に、主走査方向の空白部を検出するインクジェットプリンタでは画像データの無い部分（白の部分）を検出し、空白ラインを飛ばしてスキャンを行うことで最小限の紙搬送で印刷速度を増しており、この印刷生産性を損なうことなく、偽造防止等の追跡パターンを付加する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of holes arranged along x-direction and y-direction in the dense hole pattern are divided into a first group and a second group so that a pitch of the hole in each group in each direction equals to pitches P2x and P2y twofold of the minimum pitches P1x and P2y in each direction.例文帳に追加

密集ホールパターンにおいてｘ方向及びｙ方向に沿って並べられる複数のホールが、各組に属するホールの各方向におけるピッチが各方向における最小ピッチＰ１ｘ及びＰ１ｙの２倍のピッチＰ２ｘ及びＰ２ｙと等しくなるように第１の組及び第２の組に分割されている。 - 特許庁

The control section 3 controls to jet the bubbles in a plurality of times of bubble jet states in a single repeated pattern, to gradually reduce the amount of the bubbles jetted in the plurality of times of bubble jet states, and to jet the minimum amount of the bubbles in the last.例文帳に追加

制御部３は、ひとつの繰返パターンにおいては、複数回の気泡噴射状態で気泡を噴射すると共に、複数回の気泡噴射状態は、次第に気泡の噴射量を少なくして、最初に最大量の気泡を噴射して、最後には最小量の気泡を噴射するように制御している。 - 特許庁

The determiner 40 sets, as constants, thresholds of light intensities at two edges forming a pair prescribing calculated dimensions of the transfer pattern in the simulation, and determines the thresholds and the light reaction coefficient through regression calculation so that a difference becomes minimum between the calculated dimensions and the measured dimensions.例文帳に追加

決定部４０は、当該シミュレーションにおける転写パターンの計算寸法を規定する対をなす２箇所のエッジでの光強度の閾値を定数とし、回帰計算によって、上記修正光強度の下で上記計算寸法と上記測定寸法との差が極小となるように上記閾値および上記光反応係数を決定する。 - 特許庁

The number of pixels in the imaginary color is then calculated for all position shift patterns of RGB planes (steps S10-S40), a position shift among the planes is found from a position shift pattern when the number of pixels in the imaginary color becomes minimum, and the position shift (color shift) of RGB image data is corrected based on the position shift (step S50).例文帳に追加

そして、ＲＧＢ面の全ての位置ずれのパターンについて虚色の画素数を算出し（ステップＳ１０〜Ｓ４０）、虚色の画素数が最小となるときの位置ずれのパターンから各面間の位置ずれを求め、その位置ずれに基づいてＲＧＢの画像データの位置ずれ（色ずれ）を補正する（ステップＳ５０）。 - 特許庁

In the quantization processing method of an image which uses Bayer-type dither matrix, on the basis of a plurality of 2×2 minimum patterns (A-D) wherein threshold arrangement is arranged, multivalue dither processing is performed by using a dither matrix where the threshold arrangement of the Bayer-type dither matrix is so rearranged that a repetition pattern having a prescribed period is output in the raster direction.例文帳に追加

ベイヤー型ディザマトリクスを用いた画像の量子化処理方法において、閾値配列を組み換えた複数の２×２の最小パターン（Ａ〜Ｄ）に基づいて、ラスター方向に所定周期の繰り返しパターンが出力されるように、ベイヤー型ディザマトリクスの閾値配列を組み換えたディザマトリクスを使用して、多値のディザ処理を行う。 - 特許庁

The display device includes a storing circuit section 21A for storing image signals for controlling display and an active device section 22B for performing display control on the basis of the image signals stored by the storing circuit section 21A, provided in each dot as a minimum unit of display, which are integrated on a substrate of a panel in conformation to each dot pattern.例文帳に追加

表示を制御するための画像信号を記憶する記憶回路部２１Ａと、記憶回路部２１Ａが記憶した画像信号に基づいて表示制御をするアクティブ素子部２２Ｂとを表示の最小単位であるドット毎に備え、パネルの基板上に、各ドットパターンに対応させて集積する。 - 特許庁

On a transmission side, the number of encoded bit series that the GCD of a puncture pattern period of each encoding rate in a plurality of sets of encoding rates and modulation systems determined by specified algorithm is determined and the number of series is regarded as a minimum unit to perform time-space interleaving for allocating encoded bits to a plurality of streams.例文帳に追加

送信側では、所定のアルゴリズムにより決定した複数の符号化率・変調方式のセットのうち、各符号化率のパンクチャ・パターン周期のＧＣＤが示す符号化ビット系列数を決定し、その系列数を最小単位として複数のストリームへ符号化ビットを配分する時空間インタリーブを行なう。 - 特許庁

An outside wall part 15 of the trench part 9 defining the aperture part 17 can be protected with the resist pattern 13, so that side etching to the sidewall part of the aperture 17, which is caused by the wet etching can be blocked and the aperture part 17, can be formed with high reproducibility, while working accuracy is improved and the damage of the substrate 1 is restrained to a minimum.例文帳に追加

開口部１７を画定する溝部９の外側壁部１５をレジストパターン１３で保護できるので、ウエットエッチングによる、開口部１７の側壁部へのサイドエッチングを阻止でき、加工精度良く、しかも半導体基板１の損傷を最小限に抑えて、開口部１７を再現性良く形成できる。 - 特許庁

The crystallization apparatus producing a crystalline semiconductor film is equipped with a lighting optical system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that it is reduced to a minimum intensity at a point corresponding to the phase-shifting part of the phase-shifting mask (1).例文帳に追加

位相シフトマスク（１）を照明する照明光学系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

In a region on a foot pattern 7" coming into contact with a heat dissipation electrode 3 of the electronic component 1, a plurality of solder layers 8" of the same size in the same shape with solder layers 6 having a shape and a size matching signal electrodes 2 as electrodes of minimum size of the electronic component 1 are provided at intervals.例文帳に追加

電子部品１の放熱電極３に接するフットパターン７”上の領域内に、電子部品１において最小の大きさの電極となる信号電極２に適合する形状および寸法の半田層６と同形同寸法の半田層８”を間隔を空けて複数個分散して設ける。 - 特許庁

The crystallization apparatus forming the crystalline semiconductor film is equipped with a lighting system (2) which illuminates a phase-shifting mask (1), and irradiates an amorphous semiconductor film (4) with light having a light intensity distribution of an inverted peak pattern showing that light is reduced to a minimum in intensity at a point corresponding to the phase shifting part of the phase-shifting mask.例文帳に追加

位相シフトマスク（１）を照明する照明系（２）を備え、位相シフトマスクの位相シフト部に対応する点において光強度の最も小さい逆ピークパターンの光強度分布を有する光を非晶質半導体膜（４）に照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

To provide a digital signal reproducing apparatus in which deviation between a reproduction clock frequency in an amplitude abnormal state and a frequency of a clock component included in an analog reproduced signal recovered from the amplitude abnormal state can be suppressed to the minimum, and a sync-pattern after amplitude abnormal state can be detected early.例文帳に追加

振幅異常状態中の再生クロック周波数と、振幅異常状態から復帰したアナログ再生信号に含まれるクロック成分の周波数との間のずれを最小限に抑えることが可能で、振幅異常状態後のシンクパターンを早期に検出することが可能なディジタル信号再生装置を提供する。 - 特許庁

When a cleaning blade 17a comes in contact with the tip of the reference pattern toner image 1 and starts cleaning, the minimum load is first put on the cleaning device 17 and the load increases gradually in accordance with movement of the intermediate transfer belt in the direction of the arrow A, accordingly a rapid load variation can be prevented.例文帳に追加

それにより、クリーニングブレード１７ａが基準パターントナー像１の先端に接してクリーニングを開始したときには、クリーニング装置１７には最小の負荷が最初に加わり、中間転写ベルトが矢示Ａ方向に移動していくにしたがってその負荷が徐々に大きくなっていくので、急激な負荷変動を防止できる。 - 特許庁

This design support device 100 has a design pattern data input part 810, a process variation input part 820, a materialization value generation part 854 of process variation, a minimum interval calculation part 855, a cumulative distribution function decision part 856 of a dielectric breakdown time, and a materialization value generation part 857 of the dielectric breakdown time.例文帳に追加

設計支援装置１００は、設計パターンデータ入力部８１０と、工程ばらつき入力部８２０と、工程ばらつきの実現値生成部８５４と、最小間隔算出部８５５と、絶縁破壊時間の累積分布関数確定部８５６と、絶縁破壊時間の実現値生成部８５７とを備えている。 - 特許庁

A magnetic detector 1 is prepared on a substrate 11 and includes: magnetoresistive elements 100 to 107 having pattern shapes which cancel a vector sum in a direction for sensing magnetic fields; resistors R0 having resistance equal to the minimum resistance in the magnetoresistive elements 100 to 107; and a bridge circuit comprising the resistors R0 and the circuits R1 including the magnetoresistive elements 100 to 107.例文帳に追加

磁気検出装置１は、基板１１上に設けられ、感磁方向のベクトル和が相殺されるようなパターン形状を有する磁気抵抗素子１００〜１０７と、磁気抵抗素子１００〜１０７の最小抵抗値と同値の抵抗Ｒ０と、磁気抵抗素子１００〜１０７からなる回路Ｒ１と抵抗Ｒ０とから構成されるブリッジ回路とを有する。 - 特許庁

To solve the following problems: in creating an interconnection pattern data, making an increment of the width and interval of the interconnection a minimum dimensonal unit increases the data volume of the OPC (Optical Proximity Correction) voluminous, causes a step of its setting and verification substatial, increases the OPC processing time to enlarge the processing system.例文帳に追加

半導体装置における配線パターンデータ作成において、配線幅および配線間隔の変更の刻みを最小寸法単位とすると、ＯＰＣ（Optical Proximity Correction）のデータ量が膨大なものとなり、その設定および検証に工数が多大なものとなり、また、ＯＰＣ処理時間を増大すると共に処理システムの肥大化を招くことにもなる。 - 特許庁

The reference pattern toner image 1 formed on the intermediate transfer belt is provided with a triangular load reduction part 3 at a tip 1a on the approach side to the cleaning device 17 so that load which the cleaning device 17 receives at the time of cleaning becomes minimum and the load increases gradually in accordance with movement of the intermediate transfer belt in the direction of the arrow A.例文帳に追加

中間転写ベルトに形成する基準パターントナー像１を、クリーニング装置１７への進入側先端１ａに、クリーニング装置１７がクリーニング時に受ける負荷が最小となり、中間転写ベルトの矢示Ａ方向への移動に伴って上記負荷が徐々に大きくなっていく三角形の負荷低減部３を設けたものにする。 - 特許庁

At this time, the dummy gate electrodes are also shaped so that their widthwise lengths change in the film thickness direction, become minimum near the interface with a silicon oxide film 5 formed as a dummy gate insulating film and near the interface with a silicon nitride film pattern 9 formed as a hard mask, and gradually increase toward the vicinities of their centers.例文帳に追加

この際、併せて、ダミーゲート電極を幅方向の長さが膜厚方向に変化する形状であって、この幅方向の長さがダミーゲート絶縁膜としてのシリコン酸化膜５との界面付近およびハードマスクとしてのシリコン窒化膜パターン９との界面付近で最小となり、中心付近に向かうにしたがって漸次増大する形状にする。 - 特許庁

A whole performance map of an engine is formed by estimating each of engine speed and a fuel consumption rate against a manipulated variable of an engine output control device in accordance with characteristics of the fuel consumption rate and the minimum fuel consumption rate to be estimated from a torque pattern of an evaluation objective vehicle on this driving state evaluation system.例文帳に追加

この運転状態評価システムにおいては、管理者用パソコン２において、評価対象車両のトルクパターンから推測される燃料消費率特性と、最小燃料消費率とに基づき、各エンジン回転速度及びエンジン出力制御装置操作量に対する燃料消費率を推定することでエンジンの全性能マップが生成される。 - 特許庁

A multiple patterning process employs a phase change material, portions of which can be converted to an amorphous state and then a remaining portion is selectively removed to provide high resolution pattern features with a feature spacing smaller than, for example, a minimum spacing available in a conventional patterning layer employing a single exposure.例文帳に追加

多重パターニングプロセスで相変化材料を使用し、相変化材料の一部分をアモルファス状態に転化させることができ、次いで残りの部分が選択的に除去され、たとえば単一の露光を使用して従来のパターニング層内で使用可能な最小間隔より小さいフィーチャ間隔を有する高解像度パターンフィーチャをもたらす。 - 特許庁

A channel bit string converting part 55 converts the code sequence supplied from the conversion pattern deciding part 52 to a code sequence including a uncertain code based on the detection flag supplied from the minimum run continuation limit object processing part 53 and the expectation flag, while determines the uncertain code based on a value of directly before the code sequence detected from a directly before detecting part 54.例文帳に追加

チャネルビット列変換部55は、変換パターン決定部52より供給された符号列を、最小ラン連続制限対象処理部53より供給された検出フラグ及び予想フラグに基づいて不確定符号を含む符号列に変換するとともに、直前検出部54により検出された符号列の直前の値に基づいて不確定符号を確定する。 - 特許庁

In conductor circuits 21-25 to form a circuit pattern on an insulation substrate 20, by locally feeding through injection of metal grains 51 of a molten metal 50 toward a target portion on the insulation substrate 20, the circuit body is usefully and efficiently formed of a material in a necessary minimum limit.例文帳に追加

絶縁基板２０上で回路パターンを形成する導体回路２１〜２５についてそれぞれ位置、形状および回路間ピッチを記憶した座標データに基づき、絶縁基板２０上の目標部位に向かって溶融金属５０の金属粒５１を噴出させて局所的に供給することにより、必要最小限量の材料で無駄なく効率的に回路体を形成する。 - 特許庁

The method includes a circuit layout pattern and layout method for making it possible to match circuit parts accurately or proportionally by uniformly distributing the circuit parts so that the circuit parts are not affected by an environment or a process variation or an influence is kept to a minimum and, thereby improving the performance of an analog and mixed-signal circuit.例文帳に追加

回路部品が環境の影響またはプロセス変動の影響を受けないような形で、またはその影響を最小限に抑えるような形で回路部品を一様に分配することによって回路部品を正確にまたは比例的に適合させることを可能にし、それによってアナログおよび混成信号回路の性能を改善する回路レイアウト・パターンおよびレイアウト方法を含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing copper conductive films used for wiring of an image display device, for plating with a uniform plating height in a case where the maximum line width of a level difference structure is four times or more of the minimum line width thereof, and for easily forming a copper wiring pattern having less resistance variation between the level difference structures, without significantly deteriorating the productivity.例文帳に追加

画像表示装置の配線等として用いられる銅導電膜を形成する際に、生産性を大きく低下させることなく、段差構造体の最大線幅が最小線幅に対して４倍以上である場合においても均一なめっき高さでめっきを行ない、段差構造体間での抵抗ばらつきの小さい銅配線パターンを容易に形成できるようにする。 - 特許庁

The waveform control means reads an RF pulse waveform vector from a first storage means storing a plurality of high-frequency waveform vectors, calculates a virtual irradiation pattern, and regarding the ideal and virtual irradiation patterns, calculates an high-frequency pulse waveform giving the minimum of the weighted total of the square of a difference in the absolute value and the square of a difference in the phase.例文帳に追加

ＭＲＩ装置は、高周波パルスを算出し、照射手段に適用する波形制御手段を備え、波形制御手段は、複数の高周波パルス波形ベクトルを格納する第１の記憶手段から高周波パルス波形ベクトルを読み出し、仮想照射パターンを算出し、理想照射パターンと仮想照射パターンについて、絶対値の差分の二乗と位相の差分の二乗との重み付け和の最小値を与える高周波パルス波形を算出する。 - 特許庁