「minimum pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

(3) In the optical recording medium described in (2), the specified signal pattern includes a pulse 2 to 8 times as long as the minimum recording mark used for recording information.例文帳に追加

（３）特定の信号パターンが、情報記録に用いる最小記録マークの２〜８倍の長いパルスを含む（２）に記載の光記録媒体。 - 特許庁

For evaluating the pattern noise, a difference between a maximum value and a minimum value of the contact reactive force RF within a predetermined period may be used.例文帳に追加

パターンノイズの評価にあたっては、例えば、所定期間における接触反力ＲＦの最大値と最小値との差を用いることができる。 - 特許庁

A pattern having a pulse width of 2T being narrower than the minimum pulse width 3T formed on a normal disk is formed on a disk 1.例文帳に追加

ディスク１には、通常のディスクに形成されている最小パルス幅３Ｔよりさらに狭い２Ｔのパルス幅のパターンが形成されている。 - 特許庁

In the exposure mask 1 where a doughnut pattern 3 and a plurality of long patterns 5 are provided on a thin film membrane 2 as an opening-like exposure pattern, a crosslinking pattern 7 thinner than the minimum line width of the doughnut pattern 3 and the long patterns 5 is stretched across the opposite sides at the opening part of the doughnut pattern 3 and the long patterns 5.例文帳に追加

薄膜状のメンブレン２に開口状の露光パターンとしてドーナツパターン３および複数の長尺パターン５が設けられている露光マスク１であり、ドーナツパターン３および複数の長尺パターン５の開口部の対向辺間に、ドーナツパターン３および各長尺パターン５の最小線幅よりも細い線幅の架橋パターン７を掛け渡してなる。 - 特許庁

To make a display for letting a player have a feeling of expectation of a specific state and to enable the player to grasp the state of a game with experience using a pattern display area, displaying a minimum pattern single body, of a pattern display means.例文帳に追加

図柄表示手段の最小の図柄単体を表示する図柄表示領域を利用して、遊技者に特定状態に対して期待感を抱かせる表示を行い、遊技者が経験的にゲームの状況を把握できる弾球遊技機を提供する。 - 特許庁

To provide a printing method of a precision pattern, which is stable, has excellent cost performance and can be used mainly for manufacture of a color filter (CF) and by which the CF where overlap between partition pattern and a colored layer pattern and between colored layer patterns in the printed matter are suppressed to the minimum is obtained.例文帳に追加

安定でコストパフォーマンスに優れ、主にカラーフィルタ（ＣＦ）の作製に用いることができ、印刷物の隔壁パターン・着色層パターン間、着色層パターン同士の重なりを最低限に抑えたＣＦが得られる、精密パターンの印刷方法を提供すること。 - 特許庁

An image signal processing unit 60 calculates a central position of the pattern from an image signal of the pattern stored in an image signal storage unit 50, and detects the maximum value or the minimum value of differentiated waveforms of the image signals in two regions divided at a central position of the pattern.例文帳に追加

画像信号処理装置６０は、画像信号記憶装置５０に記憶されたパターンの画像信号から、パターンの中心位置を計算し、パターンの中心位置で分割した２つの領域で画像信号の微分波形の最大値又は最小値を検出する。 - 特許庁

The CPU 11 detects the Q-value pattern, of which the differential determination amount is minimum, generates a parameter list, and transmits it to the equalizing processing section 12 (S110-S112).例文帳に追加

ＣＰＵ１１は、差分判定量が最小のＱ値パターンを検出して、パラメータリストを生成し、イコライジング処理部１２へ送信する（Ｓ１１０〜Ｓ１１２）。 - 特許庁

The server device 2 determines patterns of boxes (rectangles) with the minimum area enclosing the difference image or a pattern of an enclosing box group, which is a set of the boxes.例文帳に追加

サーバ装置２は、差分画像を包含する最小面積の矩形（長方形）もしくはその集合である包含矩形群のパターンを決定する。 - 特許庁

To provide a Levenson type phase shift mask in which increase in the dimension of the formable minimum pattern element due to the proximity effect of light can be effectively suppressed.例文帳に追加

形成可能な最小パターン要素寸法が光近接効果により増大するのを効果的に抑制できるレベンソン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

(3) A gain condition at the five constraint points is set to a peak gain or larger of the beam pattern of the initial value, and a minimum gain or smaller in a predetermined service area.例文帳に追加

３）上記５拘束点での利得条件を初期値のビームパターンのピーク利得以上及び所定サービスエリア内での最低利得以下に設定する。 - 特許庁

The wireless access point determines a transmission pattern minimizing the sum of expected values t_n, among the transmission patterns where the number of terminals does not exceed the minimum integer number n_m (step S11).例文帳に追加

無線アクセスポイントは、最小の整数ｎ_mを超えない送信パターンの中から、の期待値ｔ_nの和が最小となる送信パターンを決定する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

A minimum pitch region is extracted using design data of an absorber pattern (s1), and a wavelength and an irradiation angle of inspection light are set in advance (s2).例文帳に追加

吸収体パターンの設計データを用いて、最小ピッチ領域を抽出し（ｓ１）、一方、検査光の波長および照射角度を予め設定する（ｓ２）。 - 特許庁

A wiring pattern can be suppressed to a minimum, by forming the electrode directly under the via hole in this way, to thereby miniaturize the sensor.例文帳に追加

このように、ビアホールの直下に電極を形成することにより、配線パターンを最小限に抑えることができ、センサの小型化を図ることができる。 - 特許庁

For a pixel in the images, the pattern displacement that corresponds to the minimum difference between the pixel value in the initial image and any of the final images is determined.例文帳に追加

画像のピクセルに関して、１つの最初の画像と複数の最後の画像のいずれかとのピクセル値間の最小差に対応するパターン変位が求められる。 - 特許庁

To provide a method for realizing a formation of a resist pattern having a minimum size of less than an exposure wavelength (1/2) by simultaneously satisfying a resolution and a focal depth.例文帳に追加

解像度と焦点深度とを同時に満たし、露光波長の（１／２）未満の最小サイズを持つレジストパターンを形成し得る方法を提供する。 - 特許庁

To enable a verification with an allowable minimum space value without causing a pseudo error by protruding of an oblique wiring pattern in a via cell fusing part.例文帳に追加

斜め配線図形のビアセル融合部分での突出により擬似エラーを発生することなく許容最小間隔値による検証を可能とする。 - 特許庁

An extension rate pattern C is extracted (S5) which matches with the boom length L set by the boom length setting means 22, and which provides the minimum required telescoping time.例文帳に追加

ブーム長設定手段２２で設定されたブーム長Ｌに合致するとともに伸縮所要時間が最小の伸長率パターンＣを抽出する（Ｓ５）。 - 特許庁

If the dot diameter of the minimum dot of the light diffusion pattern can be made less than 0.2 mm, the uniformization of the luminance over the entire surface of light guide plate itself can be promoted.例文帳に追加

そして、光拡散パターンの最小ドットのドット径を０．２ｍｍ未満にできれば、導光板自体の全面に亘る輝度の均一化を促進できる。 - 特許庁

To improve printing quality by suppressing to minimum the shift between paper stop position and printing position caused by an excitation pattern of a stepping motor when paper feeding is finished.例文帳に追加

用紙送り終了時のステッピングモータの励磁パターンによる用紙停止位置と印刷位置ずれを最小限に抑え、印刷品質を向上することである。 - 特許庁

An oblique wiring verification part 30 verifies the space between the oblique wiring patterns fused by the first pattern fusing part 28 with an allowable minimum space value S.例文帳に追加

斜め配線検証部３０は、第１図形融合部２８で融合された斜め配線図形同士の間隔を許容最小間隔値Ｓにより検証する。 - 特許庁

If they fall within the constant velocity section, the trapezoidal speed pattern is divided into 8-m/s sections (S7), and minimum speed of each axis is transferred to a servo system.例文帳に追加

等速区間に収まる場合は、台形速度パターンを８ｍ／ｓ毎の区間に分割してから（Ｓ７）、各軸の下限速度をサーボシステムに転送する。 - 特許庁

The conversion pattern deciding part 53 selects properly any one of output of the conversion data processing part 51 and output of the minimum run continuation limit processing part 52.例文帳に追加

変換パターン決定部53は、変換データ処理部51の出力と最小ラン連続制限処理部52の出力のいずれか１つを適宜選択する。 - 特許庁

Thus, the light source device having the radiation intensity distribution suitable for the radiation pattern mask of IrDA1.1 at the minimum optical output can be obtained.例文帳に追加

こうすることによって、最小の光出力で、ＩrＤＡ１.１の放射パターンマスクに適合した放射強度分布を有する光源装置を得ることができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor testing device capable of suppressing the transfer quantity of pattern files inside to the minimum to reduce the test time of semiconductors.例文帳に追加

内部におけるパタンファイルの転送量を最小限に抑え、半導体の試験時間を軽減することを可能とする半導体試験装置を提供する。 - 特許庁

The shield pattern 170 covers the microphone signal line 140 and the microphone 150 with a minimum width to minimize an electric length in a high-frequency band.例文帳に追加

シールドパターン１７０は、高周波帯域における電気長を最小限にするように、マイク信号線１４０とマイク１５０を最小限の幅で覆う。 - 特許庁

To use a layout pattern for bulk type semiconductor device in an SOI type semiconductor device by converting it with minimum necessary alteration.例文帳に追加

バルク型半導体装置に用いられていたレイアウトパターンを必要最小限の変更でＳＯＩ型半導体装置のレイアウトパターンに変換して用いる。 - 特許庁

The display time of the pattern is set to be the period of the minimum number of frames in which image pickup can be executed by an image pickup device 104, that means, about 10 msec.例文帳に追加

パターンの表示時間は、撮像装置１０４による撮像が可能な最低限の数フレーム期間、即ち数１０ｍ秒程度にする。 - 特許庁

A pattern generating means 20 puts plural dots in one group and generates a gradational image T0 wherein a pattern having dots of maximum density and minimum density combined is repeated uniformly in a horizontal and a vertical scanning direction.例文帳に追加

パターン作成手段２０では、複数ドットを１グループとし、最大濃度と最小濃度のドットを組み合わせたパターンを主走査方向及び副走査方向に均一に繰り返した階調画像Ｔ０を作成する。 - 特許庁

To prevent wiring from being reduced in reliability and manufacturing yield due to it that a wiring pattern, which is formed resting on single minimum line width data in the formation of a wiring mask pattern, is used in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

配線マスクパターン発生において、単一最小線幅データで発生させた配線パターンを半導体装置等で使用することに起因する配線の信頼性低下や製造歩留り低下を抑制する。 - 特許庁

In a surface image of the measurement object imaged with an interference pattern formed, pixels having maximum and minimum brightness levels respectively are selected per cycle of the interference pattern comprising a combination of bright and dark sections.例文帳に追加

干渉縞を発生させて撮像した測定対象物の表面画像において、明部と暗部の組みからなる干渉縞の一周期ごとに輝度レベルが最大の画素と輝度レベルが最小の画素を選択する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern for fabricating a semiconductor elements without requiring an exposure process where misalignment takes places as the design rule becomes fine and the minimum line width of a pattern decreases.例文帳に追加

デザインルールが微細になりパターンの最小線幅が減少するにつれてミスアラインメント発生しやすくなる露光工程を行うことなく、半導体素子を製造するためのパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

A minimum run continuation limit object processing part 53 detects an object pattern in which continuation of the minimum run is to be limited and outputs a corresponding detection flag, while detecting the prescribed pattern at a position being not a head, and outputting a corresponding expectation flag.例文帳に追加

最小ラン連続制限対象処理部53は、変換パターン決定部52により変換された符号列から、最小ランの連続を制限すべき対象のパターンを検出し、対応する検出フラグを出力すると共に、先頭ではない位置において所定のパターン列を検出し、対応する予想フラグを出力する。 - 特許庁

In this case, a contact window Co as the connection point of a wiring pattern is formed of the minimum line width in any circuit, and the pattern width (width in a direction following transistor length L) of drains Dp, Dn or sources Sp, Sn whose size is specified according to the size of the contact window Co is designed so as to be turned into the necessary minimum size.例文帳に追加

但し、配線パターンとの接続点となるコンタクトウィンドＣｏは、いずれの回路でも最小線幅で形成し、このコンタクトウィンドＣｏのサイズにより大きさが規定されるドレインＤｐ，ＤｎやソースＳｐ，Ｓｎのパターン幅（トランジスタ長Ｌに沿った方向の幅）は、必要最小限の大きさとなるように設計する。 - 特許庁

This semiconductor testing device for performing a test by giving a test signal generated based on pattern data to a test object includes a pattern editor means for describing the pattern data on the spread sheet constituted by using the rectangular region partitioned by rows and columns as the minimum unit, creating the pattern file of a spread sheet form, and editing the pattern file.例文帳に追加

本発明は、パターンデータに基づいて生成した試験信号を被試験対象に与えて試験を行う半導体試験装置において、行および列によって区切られた矩形領域を最小単位として構成したスプレッドシートに前記パターンデータを記述し、スプレッドシート形式のパターンファイルを作成するとともに、前記パターンファイルを編集するパターンエディタ手段を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

Then, in an exposure device B, the same L/S pattern is formed using the same mask, and the coherence factor of the exposure device B is adjusted to achieve the condition that the dimensional difference becomes minimum between the line width PB in that L/S pattern and the line width PA in the L/S pattern formed in the exposure device A.例文帳に追加

次に、露光装置Ｂにおいて、同一のマスクを用いて同一のＬ／Ｓパターンを形成するとともに、当該Ｌ／Ｓパターンのライン幅ＰＢと、露光装置Ａで形成したＬ／Ｓパターンライン幅ＰＡとの間の寸法差が最小になる条件に、露光装置Ｂのコヒーレンスファクタを調整する。 - 特許庁

To keep pattern constituent materials to a minimum that are removed during the process of forming a metal or metal pattern to be used as an electrode, wire, or insulation layer so as to minimize the burden of recovering and reusing the pattern constituent materials.例文帳に追加

電極、配線または絶縁層として用いられる金属または金属化合物パターンを形成するに際し、工程途中で除去されるパターン構成材料を最小限に抑制し、パターン構成材料の回収再利用にかかる負荷を最小限に止めることができるようにする。 - 特許庁

The device extracts order patterns in which [the average of waiting times of the outpatients with appointment/the minimum value of the average of waiting times of the outpatients with appointment] is below a predetermined value (S305) and identifies an order pattern in which the waiting time of the outpatient without appointment is the minimum (S306).例文帳に追加

そして、［予約患者待ち時間の平均値／予約患者待ち時間の平均値の最小値］が所定値より小さい順序パターンを抽出し（Ｓ３０５）、予約外患者待ち時間が最小になるものを特定する（Ｓ３０６）。 - 特許庁

An evaluation calculation section 12 executes the evaluation calculation to detect minimum values from the evaluation calculation values by the number of searching movement times of the reference image macroblock M1 instructed by the searching pattern per one time so as to detect a lowest value among the minimum values.例文帳に追加

評価計算部１２は、１回当たりの探索パターンで指示される参照画マクロブロックＭ１の探索移動回数分、評価計算を実行して評価計算値の中から極小値を検出し、極小値の中の最小値を検出する。 - 特許庁

Additional wires 330 are disposed in gap parts while maintaining existing scan lines and layout of wires in pixels, whereby respective pattern intervals of additional wires 330, existing scan lines, and wires in pixels are approximated to a minimum pattern interval.例文帳に追加

既存の走査線や画素内配線のレイアウトを維持しつつ、隙間の部分に、他の配線３３０を配置することで、他の配線３３０と既存の走査線や画素内配線のそれぞれのパターン間隔を最小パターン間隔程度にする。 - 特許庁

The engine stall evaluation part 32 generates a fall width maximum pattern such that the time when the engine speed reaches the minimum value due to each factor change agrees with all factor changes, and executes the evaluation with the pattern.例文帳に追加

エンスト評価部３２は、更に、個々の要因変化に起因して機関回転数が最低値となる時期が全ての要因変化について一致するような落ち込み幅最大パターンを生成し、そのパターンでの評価を実行させる。 - 特許庁

Thus, the pattern is formed with the minimum reticle amount, then the device can deal with the multi-product and multi-layered pattern, and the management cost of cleaning and storing the reticle, also the time and material cost for forming the reticle can be reduced.例文帳に追加

これにより、最小限のレチクル量でパターン形成を行い、多品目、多層のパターンに対して対応でき、レチクル洗浄、保管管理コストと、併せてレチクルの作製時間と材料費も削減可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

A positional correction of a pixel 5 of image information is made sufficiently small for a pattern on a substrate by using a controllable minimum pitch to a beam scanning pitch 6 by a charged particle beam equipment, thereby, a position/angle shift of the pattern of the pixel 5 can be prevented.例文帳に追加

ビームのスキャンピッチ６に荷電粒子ビーム装置で制御可能な最小ピッチを用いることにより、画像情報の画素５の丸め込みを基板上のパターンに対して充分小さくして、画素５のパターン目はずれを防止する。 - 特許庁

A synchronized frame includes the synchronizing signal and a run length limited code and the synchronizing signal includes a synchronization pattern consisting of a bit pattern with run length larger than the maximum run length and an additional bit pattern with the run length longer than the minimum run length arranged in the rear of the bit pattern when the digital data is stored in a sector consisting of a plurality of synchronized frames and successively transmitted.例文帳に追加

ディジタルデータを複数の同期フレームからなるセクタに収容して順次伝送する際に同期フレームは同期信号とランレングスリミテッドコードとを含み、同期信号は最大ランレングスよりも大なるランレングスのビットパターンとその後方に配置された最小ランレングスよりも長いランレングスの付加ビットパターンとからなる同期パターンを含む。 - 特許庁

Thereby, an ink film thickness distribution according to a pattern of a new press plate is superimposed on a minimum ink film thickness made required during printing on an ink roller group (preinking 2).例文帳に追加

これにより、インキローラ群上の印刷中に必要とされる最低限のインキ膜厚に対し、新刷版の絵柄に応じたインキ膜厚分布が重畳される（プレインキング２）。 - 特許庁