「minimum pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for dispensing a liquid on a substrate includes an arranging step of arranging a pattern of a plurality of spaced-apart droplets such that gas pockets are formed, particularly, between mutually adjacent droplets, namely, a step of forming the pattern so that a plurality of gas pockets are minimum in volume.例文帳に追加

液体を基板上に分配する方法であって、とりわけ相隣る液滴間にガスポケットが生じる複数の互いに相隔たる液滴のパターンを基板上に配置する配置ステップで、パターンを複数のガスポケットの容積が最小となるように形成するステップ、を含む方法に関する。 - 特許庁

To provide a pattern processing method and a pattern processing apparatus capable of directly processing a membrane with a high degree of accuracy by irradiating a light pervious to a mask between a light source and a substrate to the membrane on the surface of the substrate and at the same time, capable of precisely masking and processing a large-sized substrate with a required minimum sized-mask.例文帳に追加

光源と基板との間のマスクを透過した光を基板表面の薄膜に照射し、薄膜を直接高精度に加工できると共に、必要最小限の大きさのマスクで大型サイズの基板も適切にマスクしつつ加工できるパターン加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

Based on the use history memory table 153, the pattern definition generation part 163 extracts minimum items necessary to identify a function name from a combination of values of parameters corresponding to the function name, and generates a pattern definition table wherein the extracted items and the function name are associated with each other.例文帳に追加

そして、パターン定義生成部１６３が、使用履歴記憶テーブル１５３に基づいて、機能名に対応するパラメータの値の組合せから機能名が特定されるのに必要な最低限の項目を抽出し、抽出した項目と前記機能名とを対応付けたパターン定義テーブルを生成する。 - 特許庁

In pattern detection, pattern matching is performed for a brightness correction image wherein the brightness value of a pixel having a brightness value over the first set value T1 is converted into the maximum gradation value 255, and the brightness value of a pixel having a brightness value below the second set value T2 is converted into the minimum gradation value 0.例文帳に追加

パターン検出に際しては、第１の設定値Ｔ１以上の輝度値を有する画素の輝度値を最大階調値２５５に変換し第２の設定値Ｔ２以下の輝度値を有する画素の輝度値を最小階調値０に変換した明るさ補正画像を対象として、パターンマッチングを行う。 - 特許庁

To provide a flaw inspecting device capable of detecting the pattern shift of an inspection substrate only on the basis of a part of excellent article pattern data, dispensing with even the estimate position data of the whole surface of an inspection region and capable of suppressing data to a necessary minimum amount, and a flaw inspecting method.例文帳に追加

一部の良品パターン情報のみで、検査基板のパターンずれの検出を可能とし、検査領域全面の予測位置情報も必要なく、必要最小限の情報量に抑えることが可能な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce consumption of toner by resist adjustment or toner density adjustment by confirming the attaching position of a sensor, based on the detected result of a pattern image by the sensor and forming the pattern image in a minimum size at a proper position, according to the attaching position of the sensor confirmed.例文帳に追加

センサによるパターン画像の検出結果に基づいてセンサの取付位置を確認し、確認したセンサの取付位置に合わせた適正な位置に最小のサイズでパターン画像を形成し、レジスト調整又はトナー濃度調整等によるトナーの消費量を減少する。 - 特許庁

This analysis system is provided with a transformation and extraction part 11 for obtaining a feature amount by wavelet-transforming electrocardiogram waveform data and extracting a maximum value or a minimum value from the feature amount and a pattern analysis part 12 for extracting the target waveform included in the electrocardiogram waveform by pattern-analyzing the maximum value or the minimum value extracted in the transformation and extraction part 11.例文帳に追加

本解析システムは、心電図波形データをウェーブレット変換して特徴量を求め、この特徴量から極大値または極小値を抽出する変換抽出部１１と、この変換抽出部１１にて抽出された極大値または極小値をパターン分析することにより、心電図波形に含まれる目的波形を抽出するパターン分析部１２とを備えて構成されている。 - 特許庁

Thus, even when the waveform of the obtained acceleration pulse wave does not have five maximum or minimum values, it is recognized and the pattern of the waveform is classified by calculating the other waveform parameter in place of maximum or minimum value, the acceleration pulse wave meter capable of coping with various waveforms can be provided.例文帳に追加

上記発明によれば、得られた加速度脈波の波形が５つの極大値乃至極小値を持たない場合であってもそれを認識して極大値乃至極小値に変わる別の波形パラメータを算出して波形のパターンを分類するので、様々な波形に対応可能な加速度脈波計を提供できる。 - 特許庁

The image processing part 12 determines the dirt on the printed matter when the number of colored pixels of the inspection image is over the maximum value, and determines the deficiency of the pattern 2 when the number is below the minimum value, based on the maximum value and the minimum value of the number of colored pixels of each row of pixels in the standard image information.例文帳に追加

画像処理部１２は、基準画像情報における画素の列毎の着色画素数の最大値と最小値に基づいて、被検査画像の着色画素数がこの最大値を上回った場合に、印刷物の汚れを判定し、最小値を下回った場合に、絵柄２の欠損と判定する。 - 特許庁

Since a minimum pattern interval can be sustained by preventing short circuit between adjacent conductive layers, the process yield and the operational reliability of element can be enhanced while attaining high integration of elements advantageously.例文帳に追加

これにより、隣接する導電層間の短絡を防止して最小のパターン間隔を維持することができ、素子の高集積化に有利で工程収率及び素子動作の信頼性を向上させることができる。 - 特許庁

Moreover, by recording the position of those foreign materials at the time of 1st rotation eye with the photo-conductor rotation cycle, toner adhesion pattern is formed only in the circumference of those foreign materials after the 2nd rotation eye, and this makes toner consumption hold down to the minimum.例文帳に追加

また、感光体１０１の周期で１回転目の時に異物の位置を記憶させておくことによって、２回転目以降は異物の周辺だけトナー付着パターンを形成し、トナー消費を最小限に抑える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board which is capable of removing the disused part of a base layer as it makes the best use of a semi-additive method when soft etching is carried out and reducing damage to a wiring pattern to an irreducible minimum at the same time.例文帳に追加

セミアディティブ法を生かしながら、ソフトエッチングする時に下地層の不要な部分を除去すると同時に配線パターンにダメージを最小限に止めるプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The area is calculated by a highly precise model, when the minimum dimension of the mask pattern is lower than a prescribed threshold value set in the vicinity of an exposure wavelength, and the area other than the area is calculated by a fast model (STEP 5).例文帳に追加

マスクパターンの最小寸法が露光波長付近で設定される所定のしきい値を下回る場合に、その領域を高精度なモデルで計算し、それ以外の領域を高速なモデルで計算する（ＳＴＥＰ５）。 - 特許庁

In a region of the resist film where a transfer pattern is to be formed, the difference between the film thickness of the resist film at a position with the maximum thickness and at a position with the minimum thickness is not more than 50 Å.例文帳に追加

また、レジスト膜は、転写パターンが形成される領域において、膜厚の最も厚い位置におけるレジスト膜の膜厚と、膜厚の最も薄い位置におけるレジスト膜の膜厚との差異が５０オングストローム以下である。 - 特許庁

The present invention includes a method for forming a word line pattern of the nonvolatile memory array including a step of producing the sub-F word lines using a mask producing device having a width of at least minimum characteristic size F through the use of spacer technology.例文帳に追加

少なくとも最小特徴サイズＦの幅を有するマスク生成素子から、スペーサー技術を用いてサブＦワード線を生成する段階を含む不揮発性メモリアレイのワード線パターン形成のための方法を含む。 - 特許庁

To provide an image forming system, capable of detecting character information, pattern information and image information at a fine unit, as the minimum unit of an in-job data, and capable of enhancing usability.例文帳に追加

ジョブ内データの最小単位として、文字情報や図形情報や画像情報のより細かな単位で検知することを可能として有用性を向上させることが可能な画像形成システムを提供する。 - 特許庁

Next, the device extracts order patterns in which [the waiting time of the outpatient without appointment/the average of waiting times of the outpatients with appointment] is over a predetermined value (S303) and identifies an order pattern in which the waiting time of the outpatient without appointment is the minimum (S304).例文帳に追加

次に、［予約外患者待ち時間／予約患者待ち時間の平均値］が所定値より大きい順序パターンを抽出し（Ｓ３０３）、予約外患者待ち時間が最小になるものを特定する（Ｓ３０４）。 - 特許庁

To provide a test pattern and a test chart suitable for a bar code generation system, which generates an appropriate bar-code, which satisfies the requirement of each user, quickly with a minimum consumption of ink and paper.例文帳に追加

ユーザ個々の使用条件に合致した適切なバーコードの生成を、短時間に且つ最小限のインクや用紙の消耗で実現することができるバーコード生成システムに適したテストパターンおよびテストチャートを提供する。 - 特許庁

To provide a separation wall structure capable of restricting deformation caused by the distortion of separation wall elements to the minimum on a baking process of a separation wall pattern at a plasma display panel manufacturing process, and to provide a manufacturing method of the separation wall.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの製造方法において、隔壁のパターン形成の焼成過程における、隔壁要素の歪による変形が最小限に抑えられる隔壁構造、および隔壁の作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a verification device for LSI design capable of detecting wiring for which an allowable current value becomes a violation in a minimum wiring width from a circuit simulated result and preventing an allowable current capacity error on layout pattern design.例文帳に追加

回路シミュレーション結果から最小の配線幅では、許容電流値が違反となる配線を検出し、レイアウトパターン設計上の許容電流容量ミスを防止できるＬＳＩ設計用検証装置を得る。 - 特許庁

To provide an exposure machine which suppresses misalignment of an exposure pattern in each substrate to the minimum caused when a substrate having a plurality of photosensitive materials is exposed by a sheet feed method, and which can improve the yield of products.例文帳に追加

複数の感光材付き基板に対して枚葉形式で露光を行う場合に生じる露光パターンの基板ごとのずれを最小限に抑えて、製品の歩留まりを向上させることができる露光機を提供する。 - 特許庁

A cell composed of a diffraction grating is used as the minimum unit to constitute an image, and the display pattern consisting of a (first) segment group is formed by arranging the pixels into almost stripes or matrix.例文帳に追加

画素を構成する最小単位として回折格子からなるセルを用い、表示パターンについて、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる前記パターンを形成する。 - 特許庁

On an alignment layer forming surface of one substrate, a repeated pattern of light transmissive pixel electrodes 58 are formed having a minimum separated breadth along the long axis of liquid crystal molecules charged between the substrates.例文帳に追加

一方の基板の配向膜形成面に、基板間に充填される液晶分子の長軸方向に沿って最小の離間幅を有する光透過性の画素電極５８の繰り返しパターンが形成されている。 - 特許庁

To provide a controlling method for the sintering temperature pattern for realizing the consistent control with small difference ΔT between maximum and minimum values in the temperature variance when the sintering temperature is controlled by adjusting the number of revolution of an exhauster.例文帳に追加

排風機の回転数を調整し焼結温度を制御する場合において、温度バラツキ最大最小差△Ｔの小さい安定した制御を行う焼結温度パターンの制御方法を提供する。 - 特許庁

In this semiconductor test device for executing the test by forwarding plural test patterns to a device to be measured via test pattern memories 702, 703, following the measurement sequence by the test program in order to execute the function test of the semiconductor device 704 which is measuring object, the measurement sequence is changed so that the number of times of test pattern transfer between pattern memories in the semiconductor test device becomes minimum.例文帳に追加

測定対象となる半導体デバイス704 の機能テストを行うためにテストプログラムによる測定シーケンスにしたがって複数のテストパターンをテストパターンメモリ702,703 を介して被測定デバイスに転送し、テストを実行する半導体テスト装置において、半導体テスト装置内のパターンメモリ間におけるテストパターンの転送回数が最小になるように測定シーケンスを変更する。 - 特許庁

A plurality of exterior approach patterns are set by appropriately combining gates, approaches, and entrance porches each classified into a few types with one another, and a minimum basic dimension necessary for actual construction is determined for every exterior approach pattern, and an arrangement space in a plot is compared with the basic dimension of each exterior approach pattern to select an exterior approach pattern to fit within the arrangement space.例文帳に追加

数種類のタイプに分類された門、アプローチ、玄関ポーチを適宜組み合わせて複数の外構アプローチパターンを設定するとともに、これら外構アプローチパターン別に実際の構築に最低限必要な基本寸法を決定し、敷地内の配置スペースと各外構アプローチパターンの基本寸法とを比較して、配置スペース内に収まる外構アプローチパターンを選び出すようにする。 - 特許庁

The receiving characteristic of the antenna is improved by suppressing the reception of reflected/dispersed signals by turning the maximum direction of the radiation pattern of the on-vehicle antenna device installed on the windshield of the vehicle to the front direction of the vehicle and turning the minimum direction of the radiation pattern to the rear direction of the vehicle.例文帳に追加

車輌のガラスに設置される車載アンテナ装置の放射パターンの最大方向を車輌の前方方向に向け、放射パターンの最小方向を車輌の後方方向へ向けることにより、車室内で反射・散乱された信号の受信を抑圧し、アンテナの受信特性を向上できる車載アンテナ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure mask, which includes a plurality of mask portions for forming wiring lines, the mask portions arranged parallel to one another and each having a width equal to or less than the minimum line width dimension determined by the resolution of an exposure apparatus, and which can give a wiring pattern made of a resist material having the same height while preventing the pattern from partially thinning.例文帳に追加

露光装置の解像度によって定まる最小配線幅寸法以下に形成された配線形成用マスク部分が複数平行に形成されているレジスト材料からなる配線パターンを部分的に細くならないように同一の高さに形成することができる露光用マスクを提供する。 - 特許庁

A pattern recognition device includes an element extraction unit for extracting a string of elements of a minimum unit required for pattern recognition from an image read out from a storage part, and a section output unit for reading all parts in which positions of breaks of parts in each path record of a path table and parts that follow those parts coincide, and sweeping them out as a block.例文帳に追加

パターン認識装置は、記憶部より読み出した画像から、パターン認識に必要な最小限の単位のエレメントの列を抽出するエレメント抽出部と、パステーブルの各パスレコード内のパーツとこのパーツに続くパーツとの切れ目の位置が一致したパーツを全て読み出しブロックとして掃き出す部分出力部とを備える。 - 特許庁

A distance calculating means 311 calculates the start-to-end point distance L of a drawing pattern, and a number-of-scan-clocks calculating means 312 calculates the number of scan clocks required to write the drawing pattern based on the distance L and a unit distance corresponding to the minimum resolution of a high-speed D/A converter 306.例文帳に追加

距離算出手段３１１が描画パターンの始点終点間距離Ｌを算出し、走査クロック数算出手段３１２が距離Ｌと高速Ｄ／Ａ変換器３０６の最小分解能に相当する単位距離とに基づいて、描画パターンを描画するために必要な走査クロック数を算出する。 - 特許庁

In a magnetic recording reproducing device 1 arranged with a reproducing head HR of the MR (magnetoresistive effect type) head, transfer is performed by a partial response class 1, an eye pattern for a reproduction wave of user data by the reproducing head HR is obtained and three values of the maximum value, a median value, the minimum value at a detecting point for this eye pattern are obtained.例文帳に追加

ＭＲ（磁気抵抗効果型）ヘッドによる再生ヘッドＨＲが設けられた磁気記録再生装置１で、伝送をパーシャル・レスポンス・クラス１で行ない、ユーザーデータの再生ヘッドＨＲによる再生波形のアイパターンを得ると共に、このアイパターンの検出点での最大値，中央値，最小値の３値を得る。 - 特許庁

A matching means 102 performs matching an input pattern set by an inputting means 101 with a dictionary template 103 for character recognition and calculates the distance value between each category of the template 103 for character recognition and the input pattern, and a distance checking means 104 defines a minimum category of the distance value as a 1st candidate.例文帳に追加

入力手段１０１でセットした入力パターンをマッチング手段１０２で文字認識用辞書テンプレート１０３とのマッチングを行って文字認識用辞書テンプレート１０３の各カテゴリと入力パターンとの距離値を計算し、距離値の最小のカテゴリを距離チェック手段１０４で第１候補とする。 - 特許庁

Subsequently, the difference between the address of peak value of the first intensity waveform 75A and the minimum address jmin is multiplied by the scanning movement of an exposure pattern image 66 per address to determine the distances of the exposed images 673 and 671 in the direction of X-axis thus measuring the dimensions of the exposure pattern image 66.例文帳に追加

続いて、この第１強度波形７５Ａのピーク値のアドレスと該最小値アドレスｊｍｉｎとの差に、１アドレス当たりの露光パターン像６６の走査移動量を乗算して、露光像６７3と露光像６７1とのＸ軸方向の距離寸法を算出して、露光パターン像６６の寸法を測定する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition short in minimum developing time and forming a resist film breakable by a shock of spray or the like and especially excellent in adhesion and resolution and to provide a photosensitive element using this, and manufactures of a resist pattern and the printed circuit board having this pattern by incorporating a specified photopolymerizable compound and specified compounds.例文帳に追加

最少現像時間が短かく、レジスト硬化膜がスプレー等の衝撃により割れ、さらに密着性及び解像度が特に優れた感光性樹脂組成物及びそれを使用した感光性エレメント、及びレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンを有するプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

Respective stages including a final stage, an intermediate stage, and a 1st stage each equipped with a holding circuit which holds an interleaving pattern as a minimum unit and arithmetic circuits for multiple stages find interleaving patterns sequentially in steps to find the address data of an interleaving pattern corresponding to desirable data to be addressed finally.例文帳に追加

最終ステージ，中間ステージ及び第１ステージを含む複数の各ステージがそれぞれ最小単位のインタリーブパターンを保持する保持回路を備え，段階的に順次インタリーブパターンを求めて最終的にアドレッシングしたいデータに対応したインタリーブパターンのアドレスデータを求める複数ステージの演算回路を備える。 - 特許庁

A maximum opening size Dmax(nm) and a minimum opening size Dmin(nm) of the smoothed resist pattern should, preferably, fall within ±5% with respect to a target opening size Dav.(nm), and an average opening size Dav.(nm) of the smoothed resist pattern should satisfy the relation Dav.(nm)≥D(nm)×(90/100).例文帳に追加

平滑化したレジストパターンの最大開口寸法Ｄｍａｘ（ｎｍ）及び最小開口寸法Ｄｍｉｎ（ｎｍ）が、目的開口寸法Ｄ（ｎｍ）に対し±５％以内の態様、平滑化したレジストパターンの平均開口寸法Ｄａｖ．（ｎｍ）が、Ｄａｖ．（ｎｍ）≧Ｄ（ｎｍ）×（９０／１００）、を満たす態様などが好ましい。 - 特許庁

In a radial tire having a tread pattern formed by arranging five kinds of pitch elements different in pitch length on the tread-circumference in the prescribed order, the ratio of a minimum pitch length P1 to a maximum pitch length P5 is set than 0.6, while a special element 5 with a pitch length P6 shorter than the minimum pitch length P1 is arranged at several places on the circumference.例文帳に追加

ピッチ長さの異なる五種類のピッチ要素をトレッド周上に所定の順序で配設してなるトレッドパターンを有するものにおいて、最大ピッチ長さＰ__5 に対する最小ピッチ長さＰ_1 の比を０．６以上とするとともに、最小ピッチ長さＰ_1 より短いピッチ長さＰ_6 の特異ピッチ要素５を周上の複数個所に配設する。 - 特許庁

To provide a method for extracting a peak of waveform data for detecting the peak to be detected by removing maximum values and minimum values of a predetermined value or less included in the waveform data acquired by an antenna pattern measuring system or the like as unwanted noises.例文帳に追加

アンテナパターン測定システム等で取得した波形データに含まれる所定大きさ以下の極大値および極小値を不要ノイズとして除去して目的とするピークを検出する波形データのピーク抽出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pachinko game machine capable of reducing a burden on control processing of a main control part, and allowing a pattern control part or a sound control part or the like to execute various performance programs by use of a minimum command from the main control part.例文帳に追加

主制御部の制御処理の負担を軽減でき、主制御部からの最小限のコマンドを使用して図柄制御部や音声制御部などが多彩な演出プログラムを実行することができるパチンコ遊技機を提供する。 - 特許庁

In addition, since a control substrate 20 can be easily obtained from a conventional control substrate by adding a terminal N and changing a connection pattern a little, the need for changing circuit composition, and for changing the control substrate can be also suppressed to a minimum.例文帳に追加

また、制御基板２０は、従来の制御基板から、端子Ｎの追加と、少しの接続パターンの変更で実現できるため、回路構成を変更する必要がなく、制御基板の変更も最小限に抑えることができる。 - 特許庁

To provide a method of evaluating quality of a reproduction signal from a viewpoint of detection margin of a Viterbi decoder in a PRML system in which a target level is varied in accordance with the reproduction signal, and a method of evaluating quality for a signal pattern comprising combination of the minimum run lengths from the viewpoint of edge shift.例文帳に追加

目標レベルが再生信号に応じて変化するPRML方式において，ビタビ・デコーダの検出余裕の観点から再生信号の品質を評価する方法及びそれを搭載した光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

At this time, the printer arranges the n-th exposure place from the 1st exposure place expressing the 1-pixel tone in the place where the total sum of the difference of optical density obtained by adjoining exposure patterns for each of these exposure patterns gets minimum when performing an exposure by the 2nd^n exposure pattern from the 1st exposure pattern obtaining the different optical density.例文帳に追加

このとき、印刷装置は、異なる光学濃度を得る第１の露光パターンから第２^ｎの露光パターンによる露光を行う際に、これら露光パターンのそれぞれについて隣接する露光パターンによって得られる光学濃度の差の合計が最小となる場所に、１画素の階調を表現する第１の露光場所から第ｎの露光場所を配置する。 - 特許庁

A curable material, which contains a compound (A) having a perfluoro(polyoxyalkylene) chain and a curable group, is brought into contact with a mold 14 having an uneven pattern 13 with the minimum dimension of 50 μm or below formed on its surface and cured to obtain the transfer body to which the uneven pattern 13 of the mold 14 is transferred.例文帳に追加

ペルフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖と硬化性基とを有する化合物（Ａ）を含有する硬化性材料を、最小寸法が５０μｍ以下の凹凸パターン１３が表面に形成されたモールド１４と接触した状態で硬化させ、モールド１４の凹凸パターン１３が転写された転写体を得る製造方法により解決される。 - 特許庁

From the results, an encoding method by which a prediction error becomes the minimum is decided, and division pattern information in the small area further dividing an area where an input picture is encoded and information for indicating whether or not the rotation/ angle information or the scale factor information in the area is to be encoded are encoded by a division pattern rotation magnification presence/absence encoding part 20.例文帳に追加

その結果から予測誤差が最小となる符号化方法を決定し，入力画像の符号化する領域を更に分割した小領域の分割パターン情報と，その領域内の回転角度情報または拡大率情報とを符号化するかどうかを示す情報とを，分割パターン回転拡大有無符号化部２０で符号化する。 - 特許庁

In a local interconnection type element having open bit line cell arrangement where a pattern interval of 1F is formed by an element having minimum line width of 1F, a hard mask is formed on each conductive layer and an insulation spacer is formed on the sidewall thereof.例文帳に追加

１Ｆの最小線幅を有する素子でパターン間隔を１Ｆに形成したオープンビットラインセル配列されたローカルインターコネクション方式の素子において、それぞれの導電層上にハードマスクを形成しその側壁に絶縁スペーサを形成する。 - 特許庁