「minimum pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming method excellent in resolution such as a minimum dimension that does not allow a bridge defect to generate, roughness performance such as line edge roughness and dependence on developing time, to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition used for the method, and to provide a resist film.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Therefore, when a length (d) of the valid region 24 held between both the terminal parts is 0.4 μm, width(w) is 0.6 μm, the fuse element can be made smaller than L/S=1.2 μm/0.8 μm of a minimum pattern rule specified in patterning ability.例文帳に追加

このため、両端部に挟まれた実効領域２４の長さｄを０．４μｍとし、その幅ｗを０．６μｍとして、パターニング実力に規定された最小パターンルールのＬ／Ｓ＝１．２μｍ／０．８μｍより小さくすることが可能になる。 - 特許庁

In a local interconnection type element having open bit line cell arrangement where a pattern interval of 1F is formed by an element having minimum line width of 1F, a hard mask is formed on each conductive layer and an insulation spacer is formed on the sidewall thereof.例文帳に追加

１Ｆの最小線幅を有する素子でパターン間隔を１Ｆに形成したオープンビットラインセル配列されたローカルインターコネクション方式の素子において、それぞれの導電層上にハードマスクを形成しその側壁に絶縁スペーサを形成する。 - 特許庁

The quality evaluating means 34 has a real-time measuring mode 34b carrying out margin measurement to obtained data whenever a waveform data obtaining portion 21 obtains data of the minimum number required for indicating the eye pattern of predetermined time width.例文帳に追加

この品質評価手段３４は、波形データ取得部２１で所定時間幅のアイパターンの表示に最低限必要な数のデータが取得される毎に、その取得したデータに対するマージン測定を行うリアルタイム測定モード３４ｂを有している。 - 特許庁

A reference image macro block searching movement section 11 adopts a reference image macroblock M1 from which a minimum evaluation calculation value is obtained for a searching start position, and moves for searching the reference image macro block M1 from the searching start position according to a searching pattern.例文帳に追加

参照画マクロブロック探索移動部１１は、評価計算によって極小値が得られた参照画マクロブロックＭ１を探索開始位置として、探索開始位置から参照画マクロブロックＭ１を探索パターンにしたがって探索移動させる。 - 特許庁

To protect wiring by an alloy film by forming the alloy film with a necessary minimum thickness to have the diffusion preventing effect against e.g. oxygen or copper in more uniform thickness all over the substrate while alleviating the dependency on a wiring pattern.例文帳に追加

例えば酸素や銅に対する拡散防止効果を有する必要最小限の膜厚の合金膜を、配線パターンへの依存性を軽減しつつ、基板の全域に亘ってより均一な膜厚で形成した合金膜で配線を保護する。 - 特許庁

To provide a connector wherein a sliding distance between the contact portion of a contact and the contact pattern of an IC card in mutually abutting and contacting condition is kept minimum for reducing the wear between both members and preventing poor contact with each other.例文帳に追加

コンタクトの接触部とＩＣカードのコンタクトパターンとが当接接触した状態で摺動する距離を必要最小限に抑えて両部材間の磨耗を低減し接触不良等を防止することができるＩＣカード用コネクタを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in resolution power such as a minimum dimension free from a bridge defect, roughness performance such as line edge roughness, and dependency on developing time, and to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film to be used for the method.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ラインエッジラフネス等のラフネス性能、現像時間依存性に優れたパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Further, a mathematical model representing the relation between the operation variables and the quality is derived as overlapping of the local areas having the local relational expression and the activity function, and the minimum error mathematical model is selected among a plurality of mathematical models of a division pattern.例文帳に追加

更に局所関係式と活性性度関数を有する局所領域の重ね合せとして操業変数と品質との関連を表す数式モデルを導出し、複数の分割パターンの数式モデルのうち最小誤差数式モデルを選択する。 - 特許庁

For example, with respect to frame lines or continuous lines M_1 and M_2 of individual unit patterns "1" and "2" constituting a given pattern "12", a curve part is defined by the minimum required number of circular arcs E in stead of many minute segments S by data compression processing.例文帳に追加

たとえば、所与のパターン「１２」を構成する個々の単位パターン「１」，「２」の枠線または連続線Ｍ_1，Ｍ_2について、データ圧縮処理により、曲線部分を多数の微小線分Ｓに代えて必要最小限の個数の円弧Ｅで定義する。 - 特許庁

A bulged section having a maximum diameter 1.1 to 1.6 times as large as the minimum diameter is formed at the tip end, and at least part of or the whole of the range of 10 to 70 mm from the tip end is provided with an antislip ragged pattern.例文帳に追加

先端に前記最小径の１.１〜１.６倍の最大径をもつ膨らみ部を形成し、少なくとも箸先端からの距離が１０〜７０ｍｍの領域の一部または全部に滑り止めの凹凸を有する箸が好適な対象となる。 - 特許庁

A substrate Ba is peeled off from the foil body Bb stuck to the ultraviolet-curing adhesive C1 of the substrate A1, and the minimum quantity of the foil body Bb is transferred to the transfer surface of a substrate A2 in a desired printing pattern.例文帳に追加

被転写基材Ａ１の紫外線硬化型粘着剤Ｃ１に粘着された箔体Ｂｂから基材Ｂａを剥離して、箔転写基材Ａ２の転写面に対して必要最小限の箔体Ｂｂを所望する印刷パターンに転写する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device and a scanning exposure method capable of blocking light for exposure by selectively using a light shield member to shield a region of minimum non-exposure width and efficiently shielding the entire pattern region of a mask.例文帳に追加

遮光部材を選択的に用いて露光用光を遮光して、最小非露光幅の領域を遮光できるとともに、マスクのパターン領域全域を効率的に遮光することができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-segment display capable of filling gaps among segments and displaying a well-balanced suitable character while decreasing the number of wiring pattern lines passing between segments and suppressing an increase in the number of segments to the minimum.例文帳に追加

セグメントとセグメントとの間を通る配線パターンの本数を減らすとともに、セグメント数の増加を最小限に抑えつつ、セグメントとセグメントとの隙間を埋めることができ、バランスのよい適切な文字表示ができる多セグメント表示器を提供する。 - 特許庁

By measuring the dislocation in the main scanning direction and the sub-scanning direction of each monochromatic L-shaped pattern, the quantity of adjustment is calculated to make the quantity of the dislocation minimum, and printing timing is adjusted on the basis of the calculated quantity of adjustment.例文帳に追加

また、各単色Ｌ字パターンの主走査方向ならびに副走査方向の位置ずれ量を計測することにより当該位置ずれ量が最も小さくなるように調整量を算出し、算出された調整量に基づき印刷タイミングの調整を行う。 - 特許庁

Under an operation pattern where temperature of working fluid rises, the minimum tilting angle of hydraulic pumps 11 and 12 is increased to increase average flow of hydraulic oil passing an oil cooler 40 so as to increase average heat radiation quantity, and lower the equilibrium temperature of working fluid.例文帳に追加

これにより作動油流体の温度が上昇する運転パターン時は、油圧ポンプ１１，１２の最小傾転角を増大させてオイルクーラ４０を通過する圧油の平均流量を増加させ、平均放熱量を増加させ、作動油流体の平衡温度を下げる。 - 特許庁

To provide a lighting fixture for a vehicle structured to form an additional light distribution pattern for high beams, in which visibility of a vehicle front region is enhanced without giving a glare to a driver of an oncoming vehicle or a preceding vehicle and moreover power consumption is suppressed to the minimum.例文帳に追加

ハイビーム用の付加配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、対向車や先行車のドライバにグレアを与えてしまうことなく車両前方領域の視認性を高め、かつ、消費電力を最小限に抑える。 - 特許庁

A reference wave phase control section 23 controls the phase of the output reference wave of a reference wave generation section 22 so that the above integrated value level becomes maximum or minimum, and a change in the integrated value level is made maximum at the before/after the specific pattern of wobble.例文帳に追加

参照波位相制御部２３は、上記の積算値レベルが最大又は最小となるように、参照波発生部２２の出力参照波の位相を制御することで、積算値レベルの変化をウォブルの特定のパターンの前後で最も大きくする。 - 特許庁

The morphology calculation processing portion 10 calculates an opening gap of the mask image, calculates a minimum dilation repeating number of times necessary to fill the opening gap, and removes the mesh-shaped pattern by executing an erosion process of N times after a dilation process of N times.例文帳に追加

モフォロジー演算処理部１０は、マスク画像のオープニング間隙を算出し、このオープニング間隙を埋めるために必要な最小の膨張繰返回数Ｎを算出し、Ｎ回の膨張処理の後、Ｎ回の収縮処理を実行してメッシュ状のパターンを除去する。 - 特許庁

Air bubble can be prevented from piling within the thrust bearing even under environment in which oil viscosity increases under low temperature environment in such a way that minimum groove width is made to be more than 0.1 mm and less than 0.15 mm in a groove pattern of dynamic pressure generation groove 3A of the thrust bearing.例文帳に追加

スラスト軸受の動圧発生溝３Ａの溝パターンにおいて最小の溝幅を０．１ｍｍを越え０．１５ｍｍ未満にすることで、低温環境下でオイル粘度が増大した環境下でもスラスト軸受内部に気泡が滞留することを防止できる。 - 特許庁

By using the servo motor 11 for direct drive and also using the circular drum 5, it becomes possible to repeat the acceleration/deceleration of the winding speed during one cycle of line-pulling, and create "a synthetic line-pulling pattern" capable of setting each of speed-accelerating/decelerating times and maximum or minimum speed individually.例文帳に追加

直接駆動にサーボモータ１１を用い且つ円形ドラム５を使用することにより、一周期のシャクリ中に加減速を繰り返させることを可能とし、それぞれの加減速時間や最高・最低速度を個別に設定可能とした「合成シャクリ」を作り出す。 - 特許庁

Then, patterns with the minimum total amount of data including CRC codes to be rewritten are extracted from the patterns of which the data have to be rewritten and the most suitable pattern is selected from among them, and an arrangement of data which can be rewritten is decided.例文帳に追加

そして、データの書き換えが生じるパターンの中で、ＣＲＣコードを含めて、書き換えられる総データ量が最も小さくなるパターンが抽出され、その中から、最も適合するパターンが選定され、このパターンに基づいて、書き換えられ得るデータの配置が決められる。 - 特許庁

When the influence of the disturbance is small and it is judged that there is reliability, an adjustment value is calculated by using data where the deviation of the relative recording positions of first and second adjustment pattern elements is minimum and the data of the optical characteristics in the vicinity of this data.例文帳に追加

そして、外乱の影響が小さく、信頼性があると判定される場合には、第１および第２の調整パターン要素の相対的記録位置のずれが最も小さいデータとその近傍の光学特性のデータを使用して調整値を算出する。 - 特許庁

A reticle G to transfer a circuit pattern onto a semiconductor wafer has a chip layout F formed in a layout available region E where circuit patterns can be laid by arranging a plurality of minimum unit chips of the circuit pattern, while a space H, I larger than one chip is formed in an area between the outer peripheral edge of the chip layout and the outer peripheral edge of the layout available region.例文帳に追加

半導体ウエハ上に回路パターンを転写するためのレチクルＧにおいて、回路パターンを配置可能とするレイアウト可能領域Ｅに、回路パターンの最小単位のチップが複数配置されてチップレイアウトＦが形成され、該チップレイアウトの外周縁と前記レイアウト可能領域の外周縁との間は、１チップ以上の間隔Ｈ，Ｉが形成されている。 - 特許庁

The step of maximizing the ILS values further includes: calculating ILS values at the ILS evaluation points; determining a minimum ILS value; calculating changes in the ILS values as a result of associating fragments with a different exposure pattern; determining a maximum change of the ILS values; and associating fragments associated with the maximum change with a different exposure pattern.例文帳に追加

ＩＬＳ値を最大化するステップは、更に、ＩＬＳ評価点におけるＩＬＳ値を算出すること、最小ＩＬＳ値を求めること、フラグメントを異なる露光パターンに関連付けた結果としてのＩＬＳ値の変化を算出すること、ＩＬＳ値の最大の変化を決定すること、最大の変化に関連したフラグメントを異なる露光パターンに関連付けることを含む。 - 特許庁

A weight producing circuit 3 calculates weight which reduces reception signal power to the minimum, while an all-radio wave arrival direction estimating circuit 4 produces an array antenna directivity pattern by the calculated weight, and estimates (K-1) radio wave arrival directions based on its (K-1) null directions.例文帳に追加

ウエイト生成回路３は、受信信号電力を最小とするウエイトを算出し、全電波到来方向推定回路４は、算出されたウエイトによりアレーアンテナ指向性パターンを生成し、その（Ｋ−１）個のヌル方向に基づいて、（Ｋ−１）個の電波到来方向を推定する。 - 特許庁

To provide a radiosensitive composition and a polymer for a semiconductor resist, having a high transparency for a radiation and being excellent in basic physical properties for a resist, such as sensitivity and resolution, as well as in EL, LWR and a minimum collapse size when forming a line pattern.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際におけるＥＬ、ＬＷＲ、及び最小倒壊寸法に優れた感放射線性組成物及び半導体レジスト用重合体を提供する。 - 特許庁

The extrusion molded product having a woodgrain pattern is produced from a molding material prepared by mixing at least two resin compositions having different hue from each other, and the ratio of the maximum value to the minimum value of the melt flow rate of the resin compositions is 3-10,000.例文帳に追加

２種以上の異なる色調を有する樹脂組成物が混合された成形材料から得られる押出成形品であって、該樹脂組成物のメルトフローレイトの最大値と最小値との比が３〜１００００であることを特徴とする、木目調模様を有する押出成形品。 - 特許庁

To reduce warpages and curls of an optical wiring layer by relaxing stresses exerting on the optical wiring layer and to form optical elements such as a waveguide pattern, a mirror and a diffraction grating by using dry etching, a dicing saw and an electron beam exposure of the like to a minimum.例文帳に追加

光配線層にかかる応力を緩和し、光配線層のそりやまるまりを抑えることを第１の課題とし、ドライエッチングや、ダイシングソー、電子線露光などをなるべく用いずに導波路パターンや、ミラーや回折格子といった光学素子を形成することを第２の課題とする。 - 特許庁

To provide a wiring pattern forming method, capable of accurately forming a fine and linear conductive wiring with high accuracy, by forming an insulating wiring of requisite minimum by an ink-jet method and forming the cross-sectional shape of the insulating wiring to be in a form of a groove.例文帳に追加

インクジェット法により必要最小限の絶縁性の配線を形成し、絶縁性配線の断面形状を凹溝状に形成することで、高精度で正確な微細な線状の導電性配線を形成することができる配線パターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

As regards each transmission pattern wherein the number of terminals does not exceed the minimum integer number n_m, the wireless access point calculates an expected value t_n of the number of times of success in reception or interception and a distribution rate d_n of each terminal on the basis of the link loss rates L_i and the maximum number M of times of transmission in unicast communication (steps S6 to S10).例文帳に追加

無線アクセスポイントは、最小の整数ｎ_mを超えない送信パターン各々について、リンクロス率Ｌ_iとユニキャスト通信の最大送信回数Ｍとに基づいて、端末各々の受信又は傍受の成功回数の期待値ｔ_nと配信率ｄ_nとを算出する（ステップＳ６〜Ｓ１０）。 - 特許庁

An engine stall evaluation part 32 make the traveling pattern be set so that a plurality of factor changes accompanied by the changes in the engine speed serially appear per factor change, and obtains the necessary duration from the time when each factor change arises to the time when the engine speed reachs the minimum value, for each factor change.例文帳に追加

エンスト評価部３２は、機関回転数の変動を伴う複数の要因変化が要因変化毎に順次現れるような走行パターンを設定させ、要因変化毎に、個々の要因変化が生じてから機関回転数が最低値となるまでの所要時間を求める。 - 特許庁

The condensing/diverging element (3) converts light fed from the lighting system (2) to light having a light intensity distribution of a concave pattern showing that the light is reduced to a minimum in intensity at the phase-shifting part or its vicinity and increases in intensity toward its periphery, and irradiates the phase shifting mask (1) with the above light.例文帳に追加

集光発散素子は、照明系から供給された光を、位相シフト部またはその近傍において光強度が最も小さく且つその周囲に向かって光強度が増加する凹型パターンの光強度分布を有する光に変換して位相シフトマスクに照射する。 - 特許庁

The origin for polar coordinate transformation is specified as a point at which the error of the position of an object to be compared detected by performing pattern matching between an image to be compared obtained by picking up the image of an object to be compared disposed in an attitude containing displacement in the direction of rotation and the reference image becomes the minimum.例文帳に追加

極座標変換用原点は、回転方向の位置ずれを含んだ姿勢で配置されている比較対象を撮像した比較対象画像と基準画像とのパターンマッチングで検出される比較対象の位置の誤差が最小になるような点として特定される。 - 特許庁

A follow-up pattern generation part 7 follows a minimum value of the noise signal measured by the noise measurement part 6 to determine background noise, and determines a plurality of follow-up patterns for determining a response time constant of an increase and decrease in following control value from a change in the sound pressure level of the background noise.例文帳に追加

追従パターン生成部７は騒音計測部６で計測した騒音信号の最小値を追跡して暗騒音を求め、暗騒音の音圧レベルの変化から追従制御値の増加と減少の応答時定数を定める複数の追従パターンを決定する。 - 特許庁

A pattern alternately repeating a lower hook having a voltage minimum phase as a GND and an upper hook having a voltage maximum phase as a power supply every 60° electric angle is represented by linear approximation to create a sine wave driving voltage thus supplying a sine wave current to the three-phase coil.例文帳に追加

電圧最小相をＧＮＤとした下側フックと電圧最大相を電源とした上側フックを電気角６０ deg毎に交互に繰り返したパターンとし、このパターンを直線近似で表現して正弦波状の駆動電圧を生成して正弦波状の電流を上記３相コイルに流す。 - 特許庁

To provide a method for producing a glass panel which can produce a glass panel provided with design properties peculiar to glass cullets and further having a rugged pattern on the surface by the minimum production stages, to provide a glass panel, to provide a supporting member for a glass panel, and to provide a method for supporting a glass panel.例文帳に追加

ガラスカレット独特の意匠性を備えるとともに表面に凹凸状の模様を有するガラスパネルを、最小限の製造工程によって製造することができるガラスパネルの製造方法、ガラスパネル、ガラスパネルの支持部材、及びガラスパネルの支持方法を提供する。 - 特許庁

Then it is decided that the partial image can be outputted as characters when the difference between the extracted features quantity and the that of a standard character that a recognition control part 111 has is minimum and less than a threshold, and then its character code are outputted, and an image data conversion part 110 generates a character pattern.例文帳に追加

そして、この特徴量と認識制御部１１１が有する標準文字の特徴量との差が一番小さくなったときであって、その差は閾値未満の場合に、その部分画像は文字として判定し、その文字コードを出力し、イメージデータ変換部１１０が文字パターンを発生する。 - 特許庁

When the density of a interested pixel G0 is within a specified range (tha to thb) and larger than those of two pixels G1 and G2, and G0 and G3 have density larger than (the minimum value of density among the four pixels), a line pattern having an arbitrary density is detected.例文帳に追加

注目画素Ｇ０がある所定の範囲内（ｔｈａ〜ｔｈｂ）の濃度を持ち、且つ、２つの画素Ｇ１、Ｇ２以上の濃度で、且つ、Ｇ０とＧ３とが（４画素の濃度の最小値）以上の濃度を持っている場合に、任意の濃度を保持する万線パターンの検出を行う。 - 特許庁

A transistor (see figure (a)) configuring a pulse delay circuit is compared with a transistor (see (b)) configuring a latch & encoder 12, and transistor length (pattern width of gate Gp, Gn) L is designed so as to be doubled (that is, the minimum line width of a design rule is doubled), and the transistor width is designed so as to be doubled.例文帳に追加

パルス遅延回路を構成するトランジスタ（図２（ａ）参照）は、ラッチ＆エンコーダ１２を構成するトランジスタ（図２（ｂ）参照）と比較して、トランジスタ長（ゲートＧｐ，Ｇｎのパターン幅）Ｌを２倍（設計ルールの最小線幅の２倍）、トランジスタ幅も約２倍に設計する。 - 特許庁

To provide a metal foil having an adhesive layer that has an improved peel strength at the minimum loss of shear adhesive strength, is effective for encapsulating a fine pattern having a small adhesion area, has a good balance of fluidity and hardenability and is excellent in through-hole plugging property.例文帳に追加

せん断接着力を極力損なわずに剥離接着力を大幅に向上でき、接着面積の少ないファインパターンへの封止接着に有効であり、また、流動性と硬化性のバランスに優れ、スルーホール穴埋め性に優れる接着剤層付き金属箔を提供する。 - 特許庁

By using an element which can respectively set light intensity distribution emitted in the direction of giving parallax as a minimum unit constituting a pixel, pixels are arrayed nearly in the state of stripe or nearly in the state of matrix to form a three-dimensional pattern consisting of a (first) segment group.例文帳に追加

画素を構成する最小単位として、視差を持たせる方向に射出する光強度分布を個別に設定することが可能な素子を用い、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる３次元パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a power storage system which can cope with a long time of power failure by supplying power from a storage battery to indispensable minimum load apparatuses when a commercial power gives out, and also can cope with it, even if the user changes the installation place of the load apparatus due to pattern change or the like of the room.例文帳に追加

商用電力が停電した場合、蓄電池からの電力を必要とする最小限の負荷機器に供給し、長時間の停電に対応でき、また、部屋の模様替えなどで負荷機器の設置場所を変更しても対応可能な電力貯蔵システムを提供すること。 - 特許庁

On the first substrate 1, a part of a plurality of first and second wiring patterns 9, 11 connected to the first transparent electrode group 4 and the second transparent electrode group 5 is set so as to make the pitch of adjacent wiring patterns multiples of natural numbers of the minimum wiring pattern pitch P.例文帳に追加

この第１の基板１上に、第１の透明電極群４及び第２の透明電極群５に接続する複数の第１及び第２の配線パターン９、１１の一部を、隣接しあう配線パターンのピッチが最小となる配線パターンピッチＰの自然数倍に設定した。 - 特許庁

A solid image patch pattern formed on an intermediate transfer body is detected by an optical sensor, and the positions Mmax1 and Mmin1 on the intermediate transfer body in the conveying direction are detected, where the maximum value VSmax1 and the minimum value VSmin1 of the output voltage are respectively detected.例文帳に追加

中間転写体上に形成したベタ画像パッチパターンを光学センサによって検知して、その出力電圧のうち極大値ＶＳｍａｘ１及び極小値ＶＳｍｉｎ１が検知される中間転写体上の搬送方向位置Ｍｍａｘ１、Ｍｍｉｎ１をそれぞれ検出する。 - 特許庁