「object pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目)

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object patternの部分一致の例文一覧と使い方

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例文

This microscope where observation data are acquired by irradiating an observation object with the deep ultraviolet light has a control part measuring the line width of a pattern provided at the prescribed position of the observation object and stopping the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light when the line width of the pattern attains a prescribed limiting value.例文帳に追加

観察対象に深紫外光を照射して観察データを取得する顕微鏡において、該観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅を測定し、該パターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、該観察対象への深紫外光の照射を停止する制御部を有することを特徴とする。 - 特許庁

The image pickup device includes an optical element 10 for imaging and focusing an object Obj; an imaging unit 30 for picking up an image of the object Obj imaged by the optical element 10; and a pattern 20, provided between the optical element 10 and the imaging unit 30 to optically superimpose a pattern image h (x/k) on the image of the object Obj.例文帳に追加

撮像装置は、被写体Ｏｂｊを結像し、合焦するための光学素子１０と、光学素子１０によって結像された被写体Ｏｂｊの像を撮像する撮像素子３０と、光学素子１０と撮像素子３０との間に設けられ、被写体Ｏｂｊの像に対してパターン像ｈ（ｘ／ｋ）を光学的に重畳するためのパターン２０を含む。 - 特許庁

An information aquiring system for fetching information on the shape, pattern, temperature distribution, etc., of an object from the object is provided with a sensor 14 for detecting a relative positional relation with the object and a setting supporting means 20 for guiding setting of a fetching object range in accordance with the output D2 of the sensor 14.例文帳に追加

対象物からそれがもつ形状、模様、温度分布などの情報を取り込む情報取得システムにおいて、対象物との相対位置関係を検出するセンサ１４と、センサ１４の出力Ｄ２に応じて取込み対象範囲の設定を案内する設定支援手段２０とを設ける。 - 特許庁

When the image of the object to be inspected has periodic variations in density, defects on the surface of the object to be inspected are detected by capturing an image of the object to be inspected, dividing the captured image of the object to be inspected into a grid pattern, evaluating the periodicity by the density of each divided grid, and eliminating the periodic variations in density.例文帳に追加

被検査物を撮像した画像が周期的な濃淡を有する場合に、被検査物を撮像し、前記被検査物の撮像画像を格子状に分割し、前記分割された格子毎の濃度で周期性を評価し、その周期的な濃淡を除去することで、被検査物表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

例文

This device comprises a camera for photographing the printed board, an object detecting section for detecting, using a pattern matching, a predetermined object disposed in the printed board from image data photographed with camera, and a coordinate position acquiring section for acquiring a coordinate position of the object detected by the object detecting section in association with the printed board.例文帳に追加

プリント板を撮影するカメラと、カメラにより撮影された画像データからプリント板に設けられた所定の対象物を、パターンマッチングを用いて検出する対象物検出部と、対象物検出部により検出された前記対象物の座標位置をプリント板に対応付けて取得する座標位置取得部とを備えた。 - 特許庁

例文

To reduce interference between an embedding object image and a pattern image in the case of generating an image with additional information embedded thereto by expressing the additional information through the arrangement of a plurality of kinds of pattern images with a characteristic direction component and by composing the arrangement with the embedding object image.例文帳に追加

特徴的な方向成分を持つ複数種類のパターン画像の配列により付加情報を表現し、その配列を埋め込み対象画像と合成することで、付加情報が埋め込まれた画像を生成する場合に、埋め込み対象画像とパターン画像の干渉を低減する。 - 特許庁

An exposure light pattern having spatially changeable intensity is formed by illuminating light on an array of a spatial light modulator and patterning the light with SLM, the patterned light is written on the object and the gray-scaled pattern is formed on the object based on the above-mentioned spatially changeable intensity.例文帳に追加

光を空間光変調器のアレイ上に照明し、光をＳＬＭによってパターニングして、空間的可変強度を有する露光光パターンを形成し、パターニングされた光を対象上に書き込み、前記空間的可変光度に基づいて対象上にグレースケール化されたパターンを形成する。 - 特許庁

The character and the object perform a race, one of them arrives at the gap of relocated variable display patterns earlier than the other correspondingly to the result of lottery, and the display pattern stuck to the first arriving character or object is defined as a remaining variable display pattern to be stopped.例文帳に追加

キャラクタとオブジェクトとが競走を行い、抽選の結果に応じて、その一方が他方より先に並び替えた変動表示図柄の間に到着させ、先に到着したキャラクタ又はオブジェクトに付着した表示図柄を停止させるべき残りの変動表示図柄とする。 - 特許庁

A confocal optical system projecting a grating pattern 34 via a projection lens 32 from the direction with no view disturbance in the measuring object region of the measured object 36, and focusing the grating pattern image on the light receiving surface 46 of a CCD 50 by a focusing lens 44 via a half mirror 42 is formed.例文帳に追加

被測定物３６の測定対象領域に視野の遮りがない方向から格子パターン３４を投影レンズ３２を介して投影し、格子パターン像をハーフミラー４２を介して結像レンズ４４によりＣＣＤ５０の受光面４６に結像させる共焦点光学系を形成する。 - 特許庁

例文

To provide a mask where a joining accuracy of a transfer pattern to be transferred on an object suppresses an effect by a variation of an amount of exposure, sensibility of a resist etc., and where a stable pattern excellent in the joining accuracy can be transferred on the object to be exposed, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

被露光体に転写される転写パターンのつなぎ精度が、露光量やレジスト感度等の変動による影響を受けることを抑え、安定してつなぎ精度の良好なパターンを被露光体に転写することができるマスクおよびその作製方法、並びに露光方法を提供する。 - 特許庁

例文

The characteristic quantity extract section 18 extracts a characteristic quantity of a coding object pattern extracted by the coding object block extract section 12 and a reference pattern that is extracted by the reference block extract section 14 and converted and generated by the conversion section 16.例文帳に追加

特徴量抽出部１８は、符号化対象ブロック抽出部１２によって抽出された符号化対象パタン、及び、参照ブロック抽出部１４によって抽出され変換部１６によって変換されて生成された参照パタンの特徴量を抽出する。 - 特許庁

A pattern comparison processing part 108 compares in pattern the specific object on a screen included as an image in video data S6 decoded by a decoding part 103 with image data of a comparison source included in the other data S4 to generate position information of the specific object on the screen.例文帳に追加

パターン比較処理部１０８は、デコード部１０３でデコードされたビデオデータＳ6に画像として含まれる画面上の特定のオブジェクトを、その他のデータＳ4に含まれる比較元の画像データとパターン比較し、画面上における特定のオブジェクトの位置情報を生成する。 - 特許庁

To prevent a phenomenon of no transferring of fine transfer pattern set in the central part of a mold to a molding object, without providing a backup member for the mold even with a thin mold, in a transferring device transferring a fine transfer pattern formed in the mold to the molding object.例文帳に追加

型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する転写装置において、型が薄い場合であっても、型をバックアップする部材を設けることなく、型の中央部に設けられている微細な転写パターンが被成型品に転写されない現象が発生することを防止する。 - 特許庁

To adequately form an image corresponding to a pattern on the surface of an object OB to be machined when forming the pattern on the surface of a cylindrical tubular object OB to be machined having a very small diameter by the laser beam machining by using a two-dimensional spatial light modulator.例文帳に追加

直径が非常に小さい円筒パイプ状の加工対象物ＯＢの表面に２次元空間光変調器を用いてレーザ加工による模様を形成する際、前記模様に対応した像が加工対象物ＯＢの表面に適正に形成されるようにする。 - 特許庁

When the system receives a structural pattern which indicates an element or an element group in a document logical structure of a structuralized document and is designated by a user, an edit object item determining means determines edit object items to be edited among items constituting the structural pattern.例文帳に追加

ユーザにより指示された、構造化文書の文書論理構造中の要素または要素群を指す構造パターンがシステムに与えられると、編集対象階項決定手段は、当該構造パターンを構成する項のうち、編集対象となる編集対象項を決定する。 - 特許庁

Even when a first moving condition is not satisfied, when it is determined that a second moving condition is satisfied and at the same time an object 2 belongs to a first classification, an operation of a robot 1 is controlled so as to prompt the object 2 to move according to a first pattern or an optional pattern.例文帳に追加

第１移動条件が満たされていないものの、第２移動条件が満たされており、かつ、物体２が第２分類に属すると判定された場合、物体２に第１態様または任意態様にしたがった移動を促すようにロボット１の動作が制御される。 - 特許庁

第１移動条件が満たされていないものの、第２移動条件が満たされており、かつ、物体２が第１分類に属すると判定された場合、物体２に第１態様または任意態様にしたがった移動を促すようにロボット１の動作が制御される。 - 特許庁

On the other hand, a composite image display device identifies an identification pattern included in the captured image of a pattern display tool captured by image capturing means and superimposes a virtual object image corresponding to the identification pattern onto the captured image to generate a composite image for a display.例文帳に追加

一方、合成画像表示装置は、撮影手段により図柄表示具を撮影した撮影画像に含まれている識別図柄を特定し、当該識別図柄に対応する仮想オブジェクト画像を撮影画像に重ねて合成画像を生成し表示する。 - 特許庁

The method includes an exposure step of irradiating the transfer object body with exposure light using a photomask, wherein the photomask 5 used in the exposure step has a first light shielding pattern 53 and a second light shielding pattern 55 different from the first light shielding pattern formed on the same transparent substrate 51.例文帳に追加

フォトマスクを用いて被転写体に露光光を照射する露光工程を有し、露光工程で用いるフォトマスク５は、同一の透明基板５１上に形成された、第１遮光パターン５３と、該第１遮光パターンとは異なる第２遮光パターン５５とを有する。 - 特許庁

Light generated from a light source 1 passes a pretreating lens group, and respective lattice patterns are formed by a measuring lattice pattern 22 and a position lattice pattern 23 in two frequency regions in a pattern prism 3, and light is projected from a projection lens 4 onto a measuring object 5.例文帳に追加

光源１より発生した光は、前処理レンズ郡２を通過し、パターンプリズム３で２つの周波数領域に測定格子パターン２２と位置格子パターン２３でそれぞれの格子パターンが作成され、投影レンズ４より測定対象物５に投影される。 - 特許庁

The inserting apparatus produces a magnification reduction detecting pattern, a rotary angle detecting pattern, and a data pattern set to a position combined with inserted data among object positions, applies inverse Fourier transform to all the patterns, and adds an image obtained by the conversion to an original image.例文帳に追加

挿入装置は、拡大縮小率検出用パターン、回転角検出用パターン、候補位置のうち挿入データにより組み合わされる位置にデータパターンを設定し、全てのパターンを合わせて逆フーリエ変換し、原画像に変換により得た画像を加算する。 - 特許庁

Using brightness of a reference pattern including the object figure in the reference image and, on the other hand, brightness of a shape pattern same as that of the reference pattern in the relative image, correlative parameters are computed and then corresponding patterns are extracted, based on the computed correlative parameters (S17).例文帳に追加

基準画像中の対象物像を含む基準パターンの輝度値と、比較画像中の、基準パターンと同一形状のパターンの輝度値とを用いて、相関性パラメータ値を算出し、算出した相関性パラメータ値に基づいて対応パターンを抽出する（Ｓ１７）。 - 特許庁

To provide a pattern shape inspection method capable of inspecting fine pattern shape formed in an object to be inspected such as a discrete track medium and having nearly several ten nm or finer at high speed and with high sensitivity including a pattern edge state and to provide a device thereof.例文帳に追加

ディスクリートトラックメディア等の被検査対象に形成された数１０ｎｍ程度以下の微細なパターンの形状を、パターンエッジの状態を含めて、高速、かつ高感度に検査できるようにしたパターン形状検査方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To execute ion beam machining by allowing a reference object to be always recognized in process of the machining to carry out accurate drift correction even when a minute hole or a minute pattern is used as the reference object in correcting the drift of an irradiation position of an ion beam using the reference object.例文帳に追加

参照対象を用いてイオンビームの照射位置のドリフトを補正する際に、参照対象として微細穴や微細パターンを用いた場合でも、加工途中で参照対象を常に認識できるようにし、高精度のドリフト補正をし、イオンビーム加工を行なう。 - 特許庁

To provide a configuration capable of predicting the flying pattern of a flying object in a competitive game between a personified character for releasing the flying object and a personified character for hitting back the flying object, and also capable of reflecting the prediction result on a degree of operation difficulty in a game.例文帳に追加

飛翔体を送出する人間を模したキャラクタと、その飛翔体を打ち返す人間を模したキャラクタとの対戦における、飛翔体の飛翔パターンの予想が可能な構成を実現するとともに、その予想結果をゲーム上の操作難易度に反映する。 - 特許庁

The exposure method comprises: making a beam from a light source scan an exposure object via an optical element LG; and exposing a pattern PA1 whose region is enlarged on the exposure object in a direction approximately perpendicular to the scanning direction X, via the optical element on the exposure object.例文帳に追加

この露光方法は、光源からの光を光学素子ＬＧを介して走査するとともに、光学素子を介することでその走査方向Ｘと略直交する方向に被露光物上で領域が拡大したパターンＰＡ１を被露光物上に露光する。 - 特許庁

This semiconductor testing device for performing a test by giving a test signal generated based on pattern data to a test object includes a pattern editor means for describing the pattern data on the spread sheet constituted by using the rectangular region partitioned by rows and columns as the minimum unit, creating the pattern file of a spread sheet form, and editing the pattern file.例文帳に追加

本発明は、パターンデータに基づいて生成した試験信号を被試験対象に与えて試験を行う半導体試験装置において、行および列によって区切られた矩形領域を最小単位として構成したスプレッドシートに前記パターンデータを記述し、スプレッドシート形式のパターンファイルを作成するとともに、前記パターンファイルを編集するパターンエディタ手段を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In a distribution table SP, a leading variation pattern number for specifying a leading variation pattern to be the object of starting comparison with the value of a random number for variation pattern selection, the number of data determining the number of continuous variation patterns counting from the leading variation pattern number, and distribution data DB set for the number of the data and used when specifying the variation pattern are stored.例文帳に追加

振分テーブルＳＰにおいて、変動パターン選択用乱数の値との比較を開始させる対象となる先頭変動パターンを特定する先頭変動パターン番号と、該先頭変動パターン番号から数えて連続している変動パターンの個数を定めたデータ数と、該データ数の数分だけ設定されるとともに変動パターンを特定する際に用いる振分データＤＢとを格納した。 - 特許庁

To provide a film with hologram pattern and a vessel with hologram pattern capable of visualizing a hologram pattern without selecting states and conditions of keeping, transportation and displaying of an object with a convenient constitution, at the same time, setting parts to be desirably left and parts to be desirably erased in the hologram pattern with arbitrary shapes and patterns and forming a higher decorative hologram pattern.例文帳に追加

簡便な構成により、対象物の保管、運送、及び陳列の状態及び条件を選ばずに、ホログラムパターンを視認することのできるともに、ホログラムパターンを残したい部分と消したい部分とを、任意の形状、パターンで設定することができ、より装飾性の高いホログラムパターンを形成することができるホログラムパターン付きフィルム及びホログラムパターン付き容器を提供する。 - 特許庁

A data generating apparatus converts a description format of basic pattern CAD data into XML to generate pattern formation data 91, adds a rule addition index 912 representing pattern formation conditions and an object pattern element to the pattern formation data 91, and further adds a correction rule as a correction rule part 913 acquired from a database, based on the rule addition index 912.例文帳に追加

データ生成装置では、基礎パターンＣＡＤデータの記述形式がＸＭＬに変換されてパターン形成用データ９１が生成され、パターン形成用データ９１には、パターン形成条件および対象パターン要素を示すルール付加用インデックス９１２が付加され、さらに、ルール付加用インデックス９１２に基づいてデータベースから取得された補正ルールが補正ルール部９１３として付加される。 - 特許庁

The electron beam exposure system has a plurality of the electron beam exposure devices which deflect electronic beam, based on the control data and expose a pattern on an exposed object, and a data control means which sends the control data, corresponding to the exposed pattern to the electron beam exposure devices which sends pattern information, in response to the pattern information about the exposed pattern which is sent from the electron beam exposure devices.例文帳に追加

制御データに基づいて電子ビームを偏向し、被露光物体上にパターンを露光する複数の電子ビーム露光装置と、前記電子ビーム露光装置から送られてくる露光されるパターンに関するパターン情報に応じて、前記パターン情報を送出した電子ビーム露光装置に前記露光されるパターンに対応した前記制御データを送出するデータ制御手段とを有する。 - 特許庁

To appropriately correct a displacement or a distortion, or displacement and distortion between an optical image and a reference image by using characteristics of a pattern of an inspection object.例文帳に追加