「object pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR REMOVING PHOTOSET OBJECT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法 - 特許庁

Thus erroneous recognition of the reference figure in pattern matching is prevented when a relative position of the object image to the reference image is detected.例文帳に追加

これにより、参照画像に対する対象画像の相対位置を検出する際のパターンマッチングにおける基準図形の誤認識が防止される。 - 特許庁

A defect detecting process S4 detects the defect of the wiring pattern of the to-be-inspected object, based on an output value from the foreign substance determining process S3.例文帳に追加

欠陥検出工程Ｓ４は、前記異物判別工程Ｓ３の出力値に基づいて前記検査対象物の前記配線パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide a means enabling a cell sheet, a cell pattern, etc. to be transcribed to a desired object material at a high speed.例文帳に追加

本発明は細胞シート、細胞パターン等を所望の対象材料に高速で転写することを可能にする手段を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a step S3, first exposure treatment is performed by only deciding a grating pattern forming area as a substantial object to be exposed, and executed by using two-lens illumination.例文帳に追加

ステップＳ３において、２眼照明を用いて、グレーティングパターン形成領域のみを実質的な露光対象とする第１の露光処理を実行する。 - 特許庁

A two-phase image is detected by projecting a two-phase grid pattern, in which a phase having an intensity distribution of a sine wave or a triangular wave is shifted by π/2, to an object.例文帳に追加

正弦波、あるいは三角波の強度分布を有する位相がπ／２シフトした２相の格子パタンを物体に投影し、２相画像を検出する。 - 特許庁

The generated burn-in pattern signal is input into the semiconductor device of the tested object attached to a burn-in card 32 to conduct a burn-in test.例文帳に追加

生成されたバーンインパターン信号は、バーンインカード３２に装着された被試験対象の半導体装置に入力されバーンイン試験が行われる。 - 特許庁

the tendency to perceive the veridical size of a familiar object despite differences in their distance (and consequent differences in the size of the pattern projected on the retina of the eye) 例文帳に追加

距離が違う（その結果、目の網膜に映し出される形状の大きさが異なる）にも関わらず、身近な物の本当の大きさを知覚する傾向 - 日本語WordNet

To provide a tack labeler capable of affixing a plurality of tack labels to a label-affixed object, and having versatility with large degree of versatility in the tack label affixing pattern.例文帳に追加

被貼着体に複数のタックラベルを貼着することができる、タックラベルの貼付パターンの自由度が大きい汎用性を有するタックラベラーを提供する。 - 特許庁

To provide a multi-directional projection type moire interferometer for irradiating an inspecting object with pattern lighting from many directions, and an inspection method using this.例文帳に追加

多方向からパターン照明を検査対象物に照射する多方向映写式モアレ干渉計及びこれを用いた検査方法を提供する。 - 特許庁

A bit stream generator 148 outputs the pattern information, the encoding object data, and the flex bit in a predetermined order to output a bit stream 80.例文帳に追加

ビットストリーム生成部１４８は、パターン情報と符号化対象データとフレックスビットとを所定の順序で出力して、ビットストリーム８０を出力する。 - 特許庁

The headlight device control ECU reduces the illuminance of the light distribution pattern PH for high beams by controlling the light source when the vehicle determination device detects an object.例文帳に追加

前照灯装置制御ＥＣＵは、車両判定装置が物体を検知したら、光源を制御してハイビーム用配光パターンＰＨの照度を低減せしめる。 - 特許庁

The pixel replacement section 108 replaces pixels of an object drawn on a stereoscopic image such as pixels corresponding to a pattern among pixels of the two-dimensional image.例文帳に追加

画素置換部１０８は二次元画像の画素のうち、立体画像に描かれた物体、たとえば模様に相当する画素をその物体の画素によって置換する。 - 特許庁

An etching object film 102, a hard mask film 104, and first auxiliary patterns are formed on a semiconductor substrate, and silyration process is applied for the auxiliary pattern.例文帳に追加

半導体基板上にエッチング対象膜１０２、ハードマスク膜１０４及び第1の補助パターンを形成し、第1の補助パターンにシリレーション工程を行う。 - 特許庁

In order to evaluate the pattern of a sample K, an electron beam 2a emitted from an electron gun 37 is made incident on a sample face Ka through an object lens 10.例文帳に追加

試料Ｋのパターンを評価するため、電子銃３７から放出される電子線２ａを対物レンズ１０を介して試料面Ｋａへ入射させる。 - 特許庁

To radiate a spot-like ultraviolet rays to an irradiation object, in a structure in which a diffraction grating pattern is formed on each side of a diffractive optical element.例文帳に追加

回折光学素子の両面に回折格子パターンが形成された構造で、照射対象にスポット状の紫外線を照射対象に照射する。 - 特許庁

To provide a television door phone with an electric lock locking/ unlocking function locking and unlocking an electric lock of a door by using the video pattern of an object.例文帳に追加

ある被写体の映像パターンを使用することによりドアの電気錠を施錠／解錠する電気錠施錠／解錠機能付きテレビドアホンを提供する。 - 特許庁

Every time the editing processing is executed to the embroidery pattern of an editing object, the processing name of the editing processing is stored in an editing history memory.例文帳に追加

編集対象の刺繍模様に対して編集処理が実行される毎に、その編集処理の処理名が編集履歴メモリに記憶されている。 - 特許庁

Since the finished layout pattern is not a simple set of fixed patterns, a change of process or the like can be quickly coped with in the design object circuit.例文帳に追加

出来上がったレイアウトパターンも単なる固定パターンの集合ではないから、設計対象回路において、プロセスの変更等に迅速に対処することができる。 - 特許庁

To provide an image photographing device capable of detecting glasses when an object is wearing a pair of glasses, and of photographing an image with a satisfactory iris pattern.例文帳に追加

被写体が眼鏡をかけている場合にそれを検知でき、かつ、良好な虹彩パターンの画像を撮影することができる画像撮影装置を提供する。 - 特許庁

To highly accurately enable pattern matching with template data at a high speed on the basis of object images obtained to image electronic components having a plurality of corners.例文帳に追加

複数のコーナ部を有する電子部品を撮像して得られる対象画像に基づいて、テンプレートデータと高速且つ高精度でパターンマッチングできるようにする。 - 特許庁

In accordance with the coordinates of a pattern object OZ set on a world coordinate system and the coordinates of the view point SP, a distance ΔPx from the view point SP is found.例文帳に追加

ワールド座標系に設定された図柄オブジェクトＯＺの座標値と、視点ＳＰの座標値とに基づいて、視点ＳＰからの距離ΔＰｘを求める。 - 特許庁

To correct a process model matching with each layout pattern set as the object of the simulation and to enhance the fitting accuracy of a simulation.例文帳に追加

シミュレーションの対象となる個々のレイアウトパターンに合わせてプロセスモデルを補正できるようにすると共に、シミュレーションのフィッティング精度を向上できるようにする。 - 特許庁

By using a suitable optical filter 11a, the outline of the measuring object pattern 31 is made to be capatured sufficiently on an image.例文帳に追加

また、この際、適当な光フィルタ１１ａを用いることにより、測定対象パターン３１の輪郭３１ａを画像上で充分に捕らえられるようにする。 - 特許庁

The press fitting treatment S1 is a procedure which uses a preliminary pattern formed mold as the press fitting object and drives it in the direction of fibers of the lumber.例文帳に追加

圧入処理Ｓ１は、予め模様が形成されている金型を圧入体として用いて、これを木材の繊維方向に圧入する処理である。 - 特許庁

The system further comprises an image-processing system (26) that is operable to capture an image (20) of the fringe pattern modulated by the object (12).例文帳に追加

このシステムはさらに、物体（１２）によって変調された干渉縞パターンの画像（２０）を取得するように動作可能な画像処理システム（２６）を備える。 - 特許庁

A polishing material 2 is composed of a pattern body 1 for imitating a member for pressing to the optical element 5 from a polishing object surface, that is, the aspheric surface 5F of the optical element 5.例文帳に追加

研磨材２を光学素子５に対して押圧する部材を光学素子５の被研磨面すなわち非球面５Ｆから模りした型体１で構成する。 - 特許庁

The image recording means 20 records the information for distinguishing the appearance such as color, size, and pattern for specifying the stored object 3 by relating the information to the images.例文帳に追加

画像記録手段２０では、収納物３を特定する色、大きさ、模様などの外観の識別情報を画像に関連付けして記録させるようにした。 - 特許庁

To provide a printing data editing device and a printing data editing program for printing a printing object, such as photograph, character, painting and pattern, by imparting cutting lines.例文帳に追加

写真、文字、絵、模様などの印刷オブジェクトに切取線を付与して印刷する印刷データ編集装置及び印刷データ編集プログラムを提供する。 - 特許庁

To the amount of recording set like this, a dot pattern to be an object for forming by applying a binary processing is prepared in a half-tone processing part 108.例文帳に追加

そして、このように設定された記録量に対し、ハーフトーン処理部１０８で２値化処理を施して形成対象となるドットパターンを作成する。 - 特許庁

The failure prediction system 1 comprises a log analysis part 39 which executes data mining to event logs 35 related to events caused in the object device 10 of prediction to extract a precursor pattern specified, for example, by the occurrence order of events, and predicting occurrence of failure in the object device 10 when the precursor pattern is detected in an object log of analysis.例文帳に追加

障害予測システム１は、予測対象装置１０に生じたイベントに関するイベントログ３５に対しデータマイニングを実施して、たとえばイベントの発生順序によって特定される前兆パターンを抽出し、解析対象ログに前兆パターンが検出されたときに予測対象装置１０に障害が発生すると予測するログ解析部３９を備えている。 - 特許庁

The position of a monitoring object is detected, and the degree of exception of a behavior pattern in the time section of a determination object is detected for every monitoring object by an exception behavior detection part 112 based on positioning information to be output from mobile terminal equipment 10 or an environment side positioning device 12 by adding ID information for uniquely identifying the monitoring object.例文帳に追加

監視対象者の位置を検出し、監視対象者を一意に識別可能とするＩＤ情報を付加して移動体端末装置１０や環境側測位装置１２から出力される測位情報に基づき、判定対象の時間区間における行動パターンの例外度が例外行動検出部１１２で監視対象者ごとに検出される。 - 特許庁

An object position detection part 21 determines, when an object detected in a predetermined object detection pattern by the millimeter wave radar-detectable ranges β_2 or the side lobes β_3 and an object detected by a pair of cameras are present within a predetermined distance range, that the objects detected by the millimeter wave radar and the pair of cameras are identical.例文帳に追加

物体位置検知部２１は、ミリ波レーダの検出可能範囲β_２またはサイドローブβ_３で所定の物体検出パターンで検出された物体と、１対のカメラにより検出された物体とが、所定の距離範囲内に存在する場合に、ミリ波レーダおよび１対のカメラにより検出された各物体を同一物体であると判定する。 - 特許庁

In a maskless lithography system having a spatial light modulator (SLM), a method for generating a gray scale on an object comprises: forming a pattern by exposing the object to a light; and forming a gray scale region on the object by modulating an exposure time of the object.例文帳に追加

空間光変調器（ＳＬＭ）を有するマスクレスリソグラフィシステムにおいて、対象上にグレースケールを形成する方法であって、当該方法は、前記対象を光で露光してパターンを形成すること、および前記対象の露光時間を変調して、対象上にグレースケールレベルの範囲を形成することを含む、ことを特徴とする、対象上にグレースケールを形成する方法。 - 特許庁

To provide an object to be transferred which is made by laminating an optical diffraction pattern layer and an acceptance layer capable of accepting a dye image orderly on a base material, and which can avoid an influence of a decrease of adhesion between the base material and the optical diffraction pattern layer when the object to be transferred is exposed to a high temperature when transferring the dye image using a sublimation transfer sheet.例文帳に追加

基材上に、光回折パターン層、および染料画像を受容し得る受容層が順に積層されたものが、昇華転写シートを用いて転写する際に、高温にさらされて、基材と光回折パターン層との間の接着性低下による影響を回避することを課題とする。 - 特許庁

An encoder includes a rotating section having a pattern and fixed on a rotating axis member of an object to be measured, a body section having a detection section for detecting the pattern and fixed on a non-rotating section of the object to be measured, and a plurality of latching sections disposed on the body section for positioning the body part, by latching to the non-rotating section.例文帳に追加

パターンを有し、測定対象の回転軸部材に固定される回転部と、パターンを検出する検出部を有し、測定対象の非回転部分に固定される本体部と、本体部に設けられ、非回転部分に係止させることで本体部を位置決めする複数の係止部とを備える。 - 特許庁

Input control information is converted into a predetermined pattern series and modulated to specific wavelength light with time series changes depending on the converted predetermined pattern series, the modulated specific wavelength light is radiated to an object, and the object irradiated with the specific wavelength light is shot at predetermined frame rates.例文帳に追加

入力された制御情報を所定のパターン系列に変換し、変換された所定のパターン系列に従って時系列変化を伴った特定波長光に変調し、変調された特定波長光を目標物に照射し、特定波長光が照射された目標物を所定のフレームレートで撮影する。 - 特許庁

Shape pattern image data sets are stored so as to correspond to information about measurement conditions of the object to be measured, and a coincidence degree is calculated between an image data set corresponding to the image of the object to be measured and a shape pattern image data set which is stored so as to correspond to the information about the measurement conditions.例文帳に追加

計測対象物の計測条件に関する情報に対応付けた該計測対象物の形状パターン画像データを記憶しておき、計測条件に関する情報に対応付けて記憶されている形状パターン画像データと、計測対象物の画像に対応する画像データとの一致度を算出する。 - 特許庁

The image processing apparatus uses at least part of a document image for a processing object, applies low resolution processing to the processing object image, generates a pattern image on the basis of the low resolution image obtained by the low resolution processing, and composes the pattern image with the document image to generate a composite document image.例文帳に追加

ドキュメント画像の少なくとも一部の画像部分を処理対象として、当該処理対象画像部分を低解像度処理し、この低解像度処理により得られた低解像度画像に基づいてパターン画像を生成し、当該パターン画像をドキュメント画像に合成して、合成ドキュメント画像を生成する画像処理装置である。 - 特許庁

To provide pattern printing equipment using an intaglio of a flexible metal flat sheet which has a high alignment precision, enables effective supply of ink to a printing object and enables formation of a uniform ink film thickness in transfer, in the case when a pattern is printed precisely on the printing object of a hard material such as glass.例文帳に追加

ガラス等の硬質材からなる被印刷体にパターンを精密に印刷する場合に、位置合わせ精度が高く、被印刷体へのインク供給を無駄なく行えると共に、転写時でのインク膜厚を均一に形成できるようにした可撓性金属平板状の凹版を用いたパターン印刷装置を提供する。 - 特許庁

A first light irradiation structure relating to this invention irradiates an inspection object (1) with light required for imaging the vein pattern in the authentication device utilizing the vein pattern and is characterized by that the light (6) emitted from a directional luminous body (2) is concentrated in a specified region (3) on the inspection object.例文帳に追加

本発明にかかる第一の光照射構造は、静脈パターンを利用した認証装置において該静脈パターンの撮像に必要な光を検査対象(1)に照射するもので、指向性を有する発光体(2)から発した光(6)が該検査対象上の特定領域(3)に集中することを特徴とする。 - 特許庁

An auxiliary light projection part 302 includes a telephoto lens projection member projecting the auxiliary light pattern for focusing on the object at a prescribed magnification and a wide-angle lens projection member projecting the auxiliary light pattern for focusing on the object at a projection magnification higher than that of the telephoto lens projection member.例文帳に追加

補助光投影部３０２は、所定の投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する望遠レンズ用投影部材と、望遠レンズ用投影部材よりも高い投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する広角レンズ用投影部材とを備える。 - 特許庁

A minimum run continuation limit object processing part 53 detects an object pattern in which continuation of the minimum run is to be limited and outputs a corresponding detection flag, while detecting the prescribed pattern at a position being not a head, and outputting a corresponding expectation flag.例文帳に追加

最小ラン連続制限対象処理部53は、変換パターン決定部52により変換された符号列から、最小ランの連続を制限すべき対象のパターンを検出し、対応する検出フラグを出力すると共に、先頭ではない位置において所定のパターン列を検出し、対応する予想フラグを出力する。 - 特許庁

The image reader is provided with a detection pattern for detecting a home position of the travel object disposed in the home position of a reading auxiliary scanning direction in a part or a whole part in a reading main scanning direction and a detection means detecting the position of the travel object from the electric signal which optically reads the detection pattern.例文帳に追加

本発明の画像読取装置は、読取主走査方向のある一部もしくは全部に読取副走査方向のホームポジション位置に設けられた、走行体のホームポジションを検出するための検出パターンと、検出パターンを光学的に読み取った電気信号から走行体の位置を検出する検出手段とを有する。 - 特許庁

The film thickness measuring method forms a laminated film L0 by integrating an adhesion layer L1 comprising film thickness T1 on a substrate S including a mask pattern M by forming the mask pattern M on the substrate S, a measuring object layer Lm, and a protection layer L2 comprising film thickness T2 by having higher mechanical strength than the measuring object layer Lm in order.例文帳に追加

基板Ｓの上にマスクパターンＭを形成し、マスクパターンＭを含む基板Ｓの上に膜厚Ｔ１からなる密着層Ｌ１と、測定対象層Ｌｍと、測定対象層Ｌｍよりも高い機械的強度を有して膜厚Ｔ２からなる保護層Ｌ２とを順に積層して積層膜Ｌ０を形成した。 - 特許庁