「object pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The coded images are acquired while scanning the object with a laser beam pattern, and the flash images are acquired, while illuminating the object with a set of light sources at different locations in the vicinity of the camera, one by one for each light source.例文帳に追加

符号化画像は、レーザービームパターンで物体を走査しながら取得され、フラッシュ画像は、カメラに近い異なる場所にある一組の光源で物体を照らしながら各光源につき１枚ずつ取得される。 - 特許庁

A photographing prevention system 150 gives pattern shape on the photographing object in image data photographing the photographing object 200 with a digital camera 300 by the light irradiated from a light-emitting part 100.例文帳に追加

撮影防止システム１５０は、発光部１００から照射される光により、撮影対象物２００をデジタルカメラ３００で撮影した画像データ中の撮影対象物にパターン形状を付与するように構成される。 - 特許庁

To provide a high speed moving object position detecting device for detecting the position of an object moving at a high speed using an artificial retina chip having a pattern matching function available as a human interface system.例文帳に追加

ヒューマンインターフェースシステムとしても使用可能な、パターンマッチング機能を有する人工網膜チップを使用した、高速で移動する物体の位置検出を行う高速移動物体位置検出装置を提供する。 - 特許庁

The reticle 2 for projecting a light is subjected to dark-field illumination, and the scattering light from a first reticle pattern is guided to an object lens 4 via a beam splitter 3, collimated at the object lens 4, and projected to an autocollimator mirror M.例文帳に追加

投光用レティクル２が暗視野照明され、第１レティクルパターンからの散乱光が、ビームスプリッタ３を介して対物レンズ４に導かれ、対物レンズ４でコリメートされた散乱光は、オートコリメータミラーＭに投影される。 - 特許庁

To provide a game machine such as a Pachinko machine or a slot machine in which right and left pattern images respectively displayed on right and left divided screens bisected by a movable object is made to pass through the back side of the movable object and move.例文帳に追加

パチンコ機やスロットマシン等の遊技機に関し、可動物により二分割された左右の分割画面にそれぞれ表示された左右の図柄画像を、可動物の裏側を通過させて移動できるようにする。 - 特許庁

The target track of the action force between the robot and the object, etc. are re-decided after correcting a moving plan of the object and the new target gait pattern is generated by using it in the case when it is impossible to satisfy it.例文帳に追加

満たすことができない場合には、対象物の移動計画を修正した上で、ロボット・対象物間の作用力の目標軌道などを再決定し、それを用いて新たな目標歩容を生成する。 - 特許庁

A semiconductor device includes a test object circuit (700), scan chains (650) that enable scanning of the test object circuit, and a first random generation circuit (100) that forms a test pattern supplied to the scan chains.例文帳に追加

テスト対象回路（７００）と、上記テスト対象回路のスキャンを可能とするスキャンチェイン（６５０）と、上記スキャンチェインに供給されるテストパタンを形成するための第１乱数発生回路（１００）とを設ける。 - 特許庁

The preheating pulse generating means 9 generates the preheating pulse based on a dot pattern as a printing object among the plurality of dots positioned around the printing object dot and located in a dot row direction and a line direction.例文帳に追加

予熱パルス生成手段９は、印刷対象ドットの周辺にありドット列方向及びライン方向に位置する複数のドットのうち印刷対象となっているドットパターンに基づいて予熱パルスを生成する。 - 特許庁

On the display screen of this game machine, an object B1 equipped with a component object B1b wherein octopus legs are provided at every 45° around a connecting point C0 in order to display a pattern of an octopus, is arranged in a world coordinate system.例文帳に追加

遊技機の表示画面にタコの図柄を表示するための、連結点Ｃ_0 の周りに４５度ごとにタコの腕が設けられた部品オブジェクトＢ１ｂを備えるオブジェクトＢ１をワールド座標系内に配置する。 - 特許庁

Object tracking is executed with respect to a tracking point group on the detection object map 2M obtained in a time series order while performing decision of characteristic point, detection of occlusion, and inclusion of occlusion to a pattern for matching.例文帳に追加

時系列的に取得した検出物マップＺＭ上の追跡点グループに対し、特徴点の決定、オクルージョンの検出、マッチング用パターンへのオクルージョン組み込み等を行いながら物体追跡を行う。 - 特許庁

Then the object is carried in a post-treating section 24 and the surface deterioration layer, etc., of the resist pattern is removed by performing post treatment on the object by using a mixed acid containing nitric acid, acetic acid, and phosphoric acid.例文帳に追加

次に、対象物を後処理部２４内に搬入し、硝酸、酢酸、燐酸を含有する混酸（硝酸は数ｗｔ％含有）を用いて後処理を行い、レジストパターンの表面変質層等を取り除く。 - 特許庁

The projection optical system which projects a pattern of a first object on a second object has a birefringence correction means, which corrects the birefringence property of the optical element included in the projection optical system.例文帳に追加

第１物体のパターンを第２物体上に投影する投影光学系において、該投影光学系はそれに含まれる光学エレメントが有する複屈折性を補正する複屈折補正手段を有していること。 - 特許庁

For displaying a pattern of an octopus on a display screen of the game machine, an object B1 having a part object B1b with octopus arms spaced at 45° intervals about a connection point C_0 is arranged in a world coordinate system.例文帳に追加

遊技機の表示画面にタコの図柄を表示するための、連結点Ｃ_0 の周りに４５度ごとにタコの腕が設けられた部品オブジェクトＢ１ｂを備えるオブジェクトＢ１をワールド座標系内に配置する。 - 特許庁

This slot machine 1 determines the number of object areas according to the number of bets (S21), determines the matrix pattern constituted of the number of object areas by a lottery (S22) and forms the symbol matrix 95 (S13).例文帳に追加

スロットマシン１では、ベット数に応じて対象領域数を決定し（Ｓ２１）、当該対象領域数で構成されたマトリクスパターンを抽選により決定することにより（Ｓ２２）、シンボルマトリクス９５を形成する（Ｓ１３）。 - 特許庁

Also, the die which has been formed to have the edge roughness being 30 nm or lower and an object to be processed are pressed, and by transferring the pattern of the die to the surface to be molded of the object to be processed, this microfabricated article is formed.例文帳に追加

また、このようにエッジラフネスが３０ｎｍ以下に形成された型と加工対象物とを押圧し、型のパターンを加工対象物の被成型面に転写することにより微細加工品を形成する。 - 特許庁

When a pattern selected by the operation of a pattern selecting means is displayed on a display means, the explanation of a sewn object of the pattern and the action explanation display of the sewing machine for sewing it can be made by the operation of a sewing method explanation information means.例文帳に追加

模様選択手段の操作により選択された模様を表示手段に表示しているときに、縫い方説明情報切換手段の操作によりその模様の縫製対象物の説明とこれを縫製するためのミシンの操作説明表示を行うことができる。 - 特許庁

The forming method is as follows: the print pattern of the conductive paste is formed on the print object by the intaglio offset printing method using the transfered body whose surface is formed of a silicone rubber, and the print pattern is baked at temperature ≥500°C to form a conductive pattern.例文帳に追加

形成方法は、表面をシリコーンゴムにて形成した転写体を用いて、凹版オフセット印刷法により、被印刷物上に、上記導電性ペーストからなる印刷パターンを形成したのち、この印刷パターンを５００℃以上で焼成して導電性パターンを形成する。 - 特許庁

From the diffracted lights reflected by the etched object 6 and a diffraction grating pattern 7, the height H1 of the diffraction grating pattern 7 before etching, the distance from the long wavelength semiconductor laser for measurement-side surface of the diffraction grating pattern 7 after etching to the bottom face of a trench, and the depth of the trench, are found.例文帳に追加

エッチング対象物６および回折格子パターン７による回折光に基づいて、エッチング前の回折格子パターン７の高さＨ１と、エッチング後の回折格子パターン７の測定用長波長半導体レーザ側の表面から溝の底面までの距離と、溝の深さとを求める。 - 特許庁

The microscopic inspection apparatus for cataract operation comprises a microscopic inspection optical system and a pattern developer, wherein the microscopic inspection optical system forms an image showing the flat surface of an object and the pattern developer forms a pattern for overlapping on the image.例文帳に追加

白内障手術用顕微鏡検査装置は、顕微鏡検査光学系とパターン発生器とを含み、前記顕微鏡検査光学系は、前記顕微鏡検査光学系の物体平面の像を形成し、前記パターン発生器は、前記像に重畳されるパターンを形成する。 - 特許庁

A mask pattern is divided into a region 102 near a region 101 of a flare distribution calculation object and a region 103 far there from; a pattern density distribution is calculated for the region 102 by mesh division; and pattern coverage in the whole region 103 is calculated for the region 103.例文帳に追加

マスクパターンをフレア分布計算対象の領域１０１から近い領域１０２と遠い領域１０３とに分割し、領域１０２についてメッシュ分割によりパターン密度分布を算出し、領域１０３については領域１０３全体におけるパターン被覆率を算出する。 - 特許庁

A positional difference between a coordinate of the representative point of the standard pattern and a coordinate of the representative point of the determination pattern in the corresponding divided area is obtained, and when the positional difference is within a predetermined range at every divided area, the determination pattern is judged as a target object.例文帳に追加

対応する分割領域における標準パターン代表点の座標と被判定パターン代表点の座標の位置的差異を求め、すべての分割領域において位置的差異が予め定められた範囲内であるときに被判定パターンは目的の対象物であると判定する。 - 特許庁

To perform high speed processing by efficiently using a halftone pattern for a plotting object being the same tone value, and to reduce the capacity of a halftone pattern memory by successively searching the shift value of the horizontal direction of the halftone pattern for every plotting word.例文帳に追加

同じ階調値である描画オブジェクトに対して効率よくハーフトンパターンを使用することにより、高速処理を実現し、ハーフトンパターンの水平方向のシフト値を描画する描画ワード毎に逐次求める構成にすることにより、ハーフトンパターンメモリの容量を小さくすること。 - 特許庁

Layout polygonal data forming the test pattern is created, and informations on a design rule identifier, a check sort of rule, a check value, a fine adjustment range of check pattern, and steps are added to an edge of a counterpart as a checking object of polygonal data within a predetermined range, thereby, the correct test pattern can be formed.例文帳に追加

テストパターンを構成するレイアウトのポリゴンデータを作成し、そのポリゴンデータのチェック対象となる対のエッジに、デザインルール識別子、ルールのチェック種別、チェック値、チェックパターンの微調整範囲およびステップの情報を、所定の範囲内で順次付加させていくことで正しいテストパターンを生成する。 - 特許庁

On the other hand, an imaging portion 602 shoots an image including the irradiation pattern produced by the emitted pattern lights, and an image processing portion 603 detects a fault on the surface of the inspection object on the basis of changes of the shape of the irradiation pattern included in the shot image.例文帳に追加

一方、撮像部６０２は、照射されたパターン光により生成される照射パターンを含む画像を撮影し、画像処理部６０３は、前記撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する。 - 特許庁

Intensities among the corresponding respective cells are compared sequentially from the center of the image, a new code is generated and allocated when the pattern is varied by a factor such as a reflectance of an object to bring the intensity among the cells into a threshold value ore more, so as to correct the stripe pattern of the reference stripe pattern memory 111.例文帳に追加

画像の中心から順に対応する各セル間の強度を比較し、対象物の反射率などの要因によってパターンが変化してセル間の強度が閾値以上異なった場合には新たなコードの生成、割り付けを行い、基準ストライプパターンメモリ１１１のストライプパターンを補正する。 - 特許庁

A biological information detection part 24 detects the pattern waveform most closely akin to the frequency waveform among the plurality of generated pattern waveforms, and detects the biological information on the heart beat etc. as the detection object, on the basis of an interval between peak positions of the respective waveform components which constitute the pattern waveform.例文帳に追加

生体情報検出部２４は、生成された複数のパターン波形のうち、周波数波形に最も良く近似されるパターン波形を検出し、このパターン波形を構成する各波形成分のピーク位置の間隔に基づき、検出対象である心拍等の生体情報を検出する。 - 特許庁

The Pachinko game machine selects any of a plurality of reference coordinates and determines dividing lines for showing the pattern object while dividing the same from the selected reference coordinate when the variable showing pattern of the specified discriminating information is determined as the variable showing pattern of the discriminating information.例文帳に追加

パチンコ遊技機は、識別情報の可変表示パターンとして特定の識別情報の可変表示パターンが決定された場合には、複数の基準座標からいずれかを選択し、選択された基準座標に基づいて、図柄オブジェクトを分割して表示させるための分割線を決定する。 - 特許庁

The method for detecting a fault of a pattern comprises the steps of positioning an inspecting pattern image imaged from an object to be inspected at the same coordinate position as that of a reference pattern image obtained by imaging a reference sample of a good article, detecting a distance between boundary points of the respective patterns, and deciding the fault from a maximum value of the distance between the points.例文帳に追加

検査対象物を撮像した検査パターン画像を、良品である基準サンプルを撮像した基準パターン画像と同一座標位置に位置決めし、それぞれのパターンの境界点間の距離を検出して、各境界点間の距離の最大値から欠陥を判定する。 - 特許庁

The display control device 30 determines the variation pattern based on the kind of the event pattern indicated by the inputted main command signal and the kind of the object of display indicated by the sub-command signal, and controls the display device 33 based on the determined variation pattern.例文帳に追加

表示制御装置３０は、入力された主コマンド信号で指示されているイベントパターンの種類と副コマンド信号で指示されている表示対象の種類に基づいて変動パターンを決定し、決定した変動パターンに基づいて表示装置３３を制御する。 - 特許庁

The pattern detecting method comprises photographing an object substrate to obtain a digital picture, masking a pattern coincident with regions previously registered with coordinate data or previously registered pattern to detect defects, using the digital picture, and indicating the detected defects.例文帳に追加

本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて予め座標データで登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し、この検出した欠陥を表示するようにした。 - 特許庁

To provide an aligner that supports, aligns, and controls an object such that the reaction forces and the vibrations caused by the motion of the object are not transferred to other elements, such as a projection optical device for exposing a pattern of a mask onto the object, and to provide a method of exposure using the apparatus.例文帳に追加

対象物の運動により生ずる反力及び振動が、マスクのパターンを対象物に露光するための投影光学装置の如き他の要素に伝達しないように、対象物を支持、位置決め、及び、制御する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

To precisely detect the relative position of an object surface to the focal point position of an objective lens substantially without any influence of diffraction light from the object surface even when a fine wiring pattern is formed on the surface of the object such as a semiconductor element or a liquid crystal display element.例文帳に追加

半導体素子や液晶表示素子のように微細な配線パターンが形成された物体面の場合にも、物体面からの回折光の影響を実質的に受けることなく、対物レンズの焦点位置に対する物体面の相対位置を高精度に検出する。 - 特許庁

The semiconductor device has a holding part 16 which holds information regarding the reference etching rate of an etching object and an etching rate calculation part 15 which calculates the etching rate when the etching object is etched based on information regarding a pattern formation region of the etching object.例文帳に追加

エッチング対象物の基準エッチングレートに関する情報を保持する保持部１６と、基準エッチングレートに関する情報及びエッチング対象物のパターン形成領域に関する情報に基づいて、エッチング対象物をエッチングする際のエッチングレートを算出するエッチングレート算出部１５とを備える。 - 特許庁

Since the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light is stopped when the line width of the pattern provided at the prescribed position of the observation object attains the limiting value, the observation object is prevented from being damaged equal to or above the limiting value.例文帳に追加

本発明によれば、観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、観察対象への深紫外光の照射を停止するので、観察対象が制限値以上に損傷を受けることを防止することができる。 - 特許庁

A computer hologram production device 10 converts pattern data of a three-dimensional object corresponding to observation angle data input by an input part 15, to pattern data input by the input part 15 and calculates interference fringes data per interference fringe recording point from image data of the three-dimensional object whose pattern data have been converted, and records interference fringe data onto a substrate 5.例文帳に追加

計算機ホログラム作製装置１０は、入力部１５により入力された観察角度データに対応する３次元物体の模様データを、入力部１５により入力された模様データに変換し、模様データが変換された３次元物体の画像データから干渉縞記録点毎の干渉縞データを計算し、干渉縞データを基板５上に記録する。 - 特許庁

The dry etching process comprises a step of disposing a semiconductor substrate where the photoresist pattern is formed on an etched membranous object in a reactor, a step of selectively depositing polymer on an upper section of the photoresist pattern by supplying the CO gas into the reactor to form a polymer layer, and a step of etching the etched membranous object with the photoresist pattern and polymer layer as the masks.例文帳に追加

乾式エッチング方法は、被エッチング膜質上にフォトレジストパターンが形成された半導体基板を反応器内に配置する段階と、反応器内にＣＯガスを供給してフォトレジストパターンの上部にポリマーを選択的に蒸着してポリマー層を形成する段階と、フォトレジストパターン及びポリマー層をマスクとして被エッチング膜質をエッチングする段階と、を含む。 - 特許庁

A defect judging part 22 judges whether the respective through-holes are defective or not based on comparison result between hole information concerning the through-hole which exists in the object pattern division area extracted as the defective candidate area among the plurality of object pattern division areas and hole information concerning the through-hole which exists in the master pattern area corresponding to the defective candidate area.例文帳に追加

さらに、欠陥判定部２２は、複数のオブジェクトパターン区分領域のうち欠陥候補領域として抽出されたオブジェクトパターン区分領域に存在する貫通孔についての孔情報と、欠陥候補領域に対応するマスターパターンの領域内に存在する貫通孔についての孔情報との比較結果に基づいて、各貫通孔が欠陥であるか否かを判定する。 - 特許庁

A random pattern floodlighting image from a different viewpoint can be photographed by a constitution having a pattern floodlighting part for floodlighting a random pattern to an object, a stereo mirror adapter part having a mirror constitution for inputting into a camera part image data from a plurality of different viewpoints to the object, and the camera part for photographing the image data from the different viewpoints inputted through the stereo mirror adapter part.例文帳に追加

ランダムパターンを被写体に投光するパターン投光部と、被写体に対する異なる複数視点からの画像データをカメラ部に対して入力するミラー構成を持つステレオミラーアダプタ部と、ステレオミラーアダプター部を介して入力する異なる視点からの画像データを撮り込むカメラ部とを有する構成により、異なる視点からのランダムパターン投光画像を撮影可能とした。 - 特許庁

The pattern drawing system has a pattern drawing device 40 which draws pattern on an object 2 by using an optical modulator 5 including several light modulation devices whose modulation state can be selectively set respectively, and a data output device 30 which outputs data for setting the modulation state of the light modulation devices to the pattern drawing device 40.例文帳に追加

パターン描画システムは、それぞれ変調状態を選択的に設定可能な複数の光変調素子を含む光変調器５を用いて対象物２にパターンを描画するパターン描画装置４０と、該パターン描画装置に対して、光変調素子の変調状態を設定するためのデータを出力するデータ出力装置３０とを有する。 - 特許庁

A dispersion of line widths of a first pattern and a second pattern occurring due to dispersion occurring in resist patterns (an opening 111, an opening 211) due to dispersion of lithography when forming a first pattern and a second pattern in the first region 110 and the second region 210 of an etching object material 105, respectively, is suppressed by adjusting the thickness of a mask material 106.例文帳に追加

被エッチング材１０５の第１領域１１０、第２領域２１０に、それぞれ第１パターン、第２パターンを形成する際に、リソグラフィのばらつきによりレジストパターン（開口部１１１、開口部２１１）に生じるばらつきに起因して発生する、第１パターン、第２パターンの線幅がばらつき、マスク材１０６の厚みを調整することにより抑制する。 - 特許庁

The exposure mask includes a substrate 10 having a mask pattern 11 as an exposure object, a monitoring pattern 12 disposed on the substrate 10, and a polarized light controlling element 20 disposed in the optical path of the monitoring pattern 12 on the substrate 10 and partially changing the polarization direction of polarized light illumination by 90 degrees irradiating the monitoring pattern 12.例文帳に追加

本発明では、露光対象となるマスクパターン１１を有する基材１０と、基材１０に設けられるモニタ用パターン１２と、基材１０におけるモニタ用パターン１２の光路上に設けられ、モニタ用パターン１２へ照射される偏光照明の一部の偏光方向を９０度変化させる偏光制御素子２０とを備える露光用マスクである。 - 特許庁

When the object is detected between the beam radiating position of the vehicle 22 and the position of the surface of the road to be radiated by the visible light beam in the specified pattern, the visible light pattern by the visible light beam is changed to a pattern avoiding the obstacle, and the visible light beam is radiated by the beam radiating machine 24 in the changed pattern.例文帳に追加

車両２２のビーム照射位置と可視光ビームが所定のパターンで照射されるべき道路路面の位置との間に存在する障害物が検知された場合、可視光ビームによる可視光パターンをその障害物を避けたパターンに変更し、ビーム照射機２４にその変更されたパターンで可視光ビームを照射させる。 - 特許庁

A moving mechanism integrally moves the first reflector 28 and the fourth reflector 34 so as to avoid formation of the first separate light-distribution pattern PH1 and the fourth separate light-distribution pattern PH4, and avoids projection of glare to a target object such as a front-traveling vehicle existing in the first separate light-distribution pattern PH1 and the fourth separate light-distribution pattern PH4.例文帳に追加

移動機構は、第１リフレクタ２８および第４リフレクタ３４を、第１個別配光パターンＰＨ１および第４個別配光パターンＰＨ４の形成を回避させるよう一体的に移動させ、第１個別配光パターンＰＨ１または第４個別配光パターンＰＨ４に存在する前走車などの対象物へのグレアの付与を回避する。 - 特許庁

A storage section 103 of this remote control system stores in advance a pattern of a remote control, code to remotely control operations of apparatuses 11a-11c which are control object devices.例文帳に追加

記憶部１０３は、制御対象機器である機器１１ａ〜１１ｃの動作をリモート制御するためのリモコンコードのパターンを予め記憶している。 - 特許庁

The circuit operation simulation device receives a pattern of a transfer unit from a regulated interface, and gives it to the logic circuit of verification object at a regulated signal time.例文帳に追加

回路動作摸擬装置は規定のインターフェースにより転送単位のパターンを受け取り、検証対象論理回路へ規定の信号タイミングにより与える。 - 特許庁