「pattern S」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The needle traverse data corresponding to plurality of needle traverse patterns (two-point zigzag, three-point zigzag, four-point zigzag) is stored, the base line standard (S, R, L) and the base line position are inputted for each needle traverse pattern, and the data is stored in the table form corresponding to each needle traverse pattern (A).例文帳に追加

複数の針振りパターン（２点千鳥、３点千鳥、４点千鳥）に対応する針振りデータが記憶され、これらの各針振りパターンに対してそれぞれ基線基準（Ｓ、Ｒ、Ｌ）と基線位置が入力され、これらのデータが各針振りパターンに対応してテーブルの形で記憶される（Ａ）。 - 特許庁

To provide an outside corner column imparting continuity to the pattern of the right and left plate pieces 1a, 1a by making a chamfered part 8 in the apex part 3 of the outside corner column A1 inconspicuous as much as possible and forming the similar image with the image (S, D) generating in the surface pattern in the chamfering processing part 8.例文帳に追加

出隅柱Ａ１の頂角部３における面取り加工部８をできるだけ目立たなくし、かつ面取り加工部８に表面柄部に生じる陰影（Ｓ，Ｄ）と同様な陰影が形成されるようにして、左右の板片１ａ，１ａの柄模様に連続性を持たせる。 - 特許庁

Because it is difficult to propagate heat to the pattern of irregularities during heating the decorative sheet S and also a residual stress which could be unleashed by heat is not accumulated in the resin of the pattern of irregularities part on account of the irregularities formed by machine cutting, the possibilities that the irregularities might be levelled during molding are eliminated.例文帳に追加

装飾シートＳを加熱した際に熱が凹凸模様のところに伝播し難いことから、また機械切削により凹凸を形成したことで、凹凸模様部の樹脂に加熱によって解放され得る残留応力を蓄積しないことから、成形時に凹凸が戻るようなことがない。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a MOS transistor formed on a semiconductor substrate, wiring connected to a gate electrode for composing the MOS transistor via a first insulation film, an antenna pattern in L/S shape connected to the wring, and a second insulation film forming on the wiring and the antenna pattern.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたＭＯＳトランジスタと、第１絶縁膜を介して前記ＭＯＳトランジスタを構成するゲート電極に接続された配線と、該配線に接続されたＬ／Ｓ状のアンテナパターンと、前記配線及びアンテナパターン上に形成された第２絶縁膜からなる半導体装置。 - 特許庁

By changing a constitution pattern of a toner image pattern to be formed on an intermediate transfer belt 33 according to a measured value by a sensor S that measures surface roughness of the intermediate transfer belt 33, abrasive particles or lubricant particles are selectively supplied to the cleaning blade 92 when an image is not formed.例文帳に追加

中間転写ベルト３３の表面粗さを測定するセンサＳの測定値によって、中間転写ベルト３３に形成するトナー画像パターンの構成模様を変化させて、非画像形成時にクリーニングブレード９２に研磨粒子又は潤滑粒子を選択的に供給する。 - 特許庁

In the decorative sheet S wherein a pattern ink layer 2 and a surface layer 3 comprising a polyolefinic resin are laminated on a base material layer 1, the base material layer consists of a polyolefinic resin layer 4 formed on the side of the pattern ink layer and an amorphous polyester resin layer 5 provided on the undersurface side of the resin layer 4.例文帳に追加

基材層１上に絵柄インキ層２、ポリオレフィン系樹脂からなる表面層３を積層した化粧シートＳについて、基材層の絵柄インキ層側がポリオレフィン系樹脂層４からなり、他方の側が非晶性ポリエステル樹脂層５からなる構成とする。 - 特許庁

The setting of the length of the optical path of an illumination light IL at this parallel flat board 47 is changed, by changing the said parallel flat board 47 into the one of different thickness, based on the difference of line width between the image of an isolated line pattern Pa and the image of an L/S pattern Pb being measured in advance.例文帳に追加

予め計測された孤立線パターンＰａの像とＬ／ＳパターンＰｂ像との線幅差に基づいて、前記平行平面板４７を異なる厚さのものに変更することにより、この平行平面板４７における照明光ＩＬの光路長を設定変更する。 - 特許庁

If a specific big-win pattern is definitely displayed by a special pattern display unit 6, an hour reduction treatment (S81) is executed so that a fluctuating display of normal patterns and special patterns is prohibited (S89, S90) to decide the number of passage-suspended balls S by drawing lots, and a specific operation gate passage treatment (S92) is executed.例文帳に追加

特別図柄表示器６で特定大当図柄が確定表示されたら、時短処理（Ｓ８１）を実行し、普通図柄及び特別図柄の変動表示を禁止（Ｓ８９、Ｓ９０）して通過保留球数Ｓを抽選決定し、特定作動ゲート通過処理（Ｓ９２）を実行する。 - 特許庁

When the optical fiber 11 is positioned with respect to the light receiving part 7, the tip end surface of the optical fiber 11 is adjusted to fall within a range S in a contour 23 of the positioning pattern 21 under a microscope.例文帳に追加

光ファイバ１１を受光部７に位置合わせする場合は、顕微鏡下において、光ファイバ１１の先端面を位置決めパターン２１の輪郭２３内の範囲Ｓに合わせて設置する。 - 特許庁

The width of the dot D itself is set to be 0.1-0.5 mm for instance, and the gap S and respective color concentrations are adjusted and set according to the light reflection by the metallic layer 5 and a design pattern, etc.例文帳に追加

ドットＤ自体の幅は、例えば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍに設定され、隙間Ｓや各色濃度は、メタリック層５による光反射や下記意匠パターンなどに応じて調整、設定がなされている。 - 特許庁

In the irregularity formation step, a solvent S is adhered only to a first region 10b exposed from the internal electrode pattern 12 on the first main surface 10a of the ceramic green sheet 10 to form irregularities.例文帳に追加

凹凸形成工程では、セラミックグリーンシート１０の第１の主面１０ａにおいて内部電極パターン１２から露出する第１の領域１０ｂのみに、溶剤Ｓを付着させて凹凸を形成する。 - 特許庁

The simultaneous injection molding with decoration is applied to the surface of a base material sheet 2 of a thermoplastic resin, by using a decorative sheet S in which a resin pattern layer 2 is formed partially by a cured ionizing radiation curable resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂の基材シート２の表面側に、電離放射線硬化性樹脂の硬化物で樹脂模様層２を部分的に形成した加飾シートＳを用いて、射出成形同時加飾する。 - 特許庁

A contact pattern 32b is formed in the circuit substrate 32 and a rubber switch is constituted together with a movable contact 35b placed to correspond to the operation part S provided on the sheet member 35 of elastic material.例文帳に追加

回路基板３２には接点パターン３２ｂが形成され、弾性材料のシート状部材３５に設けた操作部Ｓに対応するように設けた可動接点３５ｂとともにラバースイッチを構成する。 - 特許庁

In the lapse of designated time after the start of pattern variation, candidate information S composed of two or more types of patterns is displayed as a candidate becoming the derivation result of display presentation on a variable display device H.例文帳に追加

図柄の変動開始後、所定時間の経過時に、表示演出の導出結果となり得る候補として複数種類の図柄から構成される候補情報Ｓを可変表示器Ｈに表示する。 - 特許庁

To provide a polarizing device for rotating body which is capable of polarizing N-pole and S-pole, reduced in the variety of polarizing strength and polarizing pattern, on the end surfaces of the rotary shaft for the rotating body employing a permanent magnet.例文帳に追加

回転体の回転軸の軸端面に、永久磁石を用いて、着磁強度及び着磁パターンのばらつきの少ないＮ極とＳ極を着磁することができる回転体への着磁装置を提供する。 - 特許庁

Laser light S radiated from a laser output device 38 is caused to scan in a direction of an arrow G by a polygon mirror 41 to expose the pattern of the core onto a photosensitive layer of a belt-shaped work 11 through a photomask 29.例文帳に追加

レーザ出力器３８から照射されたレーザ光Ｓをポリゴンミラー４１で矢印Ｇ方向に走査し、フォトマスク２９を介して帯状ワーク１１の感光層にコアのパターンを露光する。 - 特許庁

To provide a reflective optical sensor and image forming device having high light use efficiency, a good S/N ratio, and high detection accuracy, for detecting toner concentration or a toner position even in a contracted toner pattern.例文帳に追加

光利用効率が高く、ＳＮ比が良く、検出精度が高く、縮小化されたトナーパターンでも、トナー濃度またはトナー位置の検出が可能な反射型光学センサおよび画像形成装置を得る。 - 特許庁

When a mother substrate S wherein the seal patterns are formed in such a manner is stuck on the other substrate, each seal pattern is expanded and the end parts opposed to each other are closely bonded in the corner parts of the seal patterns.例文帳に追加

このようにシールパターンが形成されたマザー基板Ｓを他の基板と貼り合わせた場合、各シールパターンが広がり、シールパターンの角部では、対向する端部同士がぴったりと結合する。 - 特許庁

When a monitoring circuit 26 detects that a pattern of the detection member 25 is cut, power supply from a battery is stopped and data stored in a memory (S-RAM) is deleted, thereby unauthorized modification is prevented.例文帳に追加

監視回路２６が検知部材２５パターンの切断を検出した場合には、バッテリからの電源供給を停止させ、メモリ（Ｓ−ＲＡＭ）の記憶データを消去することにより、不正改造の防止を図る。 - 特許庁

As regards the molding of the molding 10, first, a coloring material is kneaded with a material with a viscosity of 10^6-5×10^7 mPa s at 25°C to manufacture a molding material for the pattern layer.例文帳に追加

成形品１０の成形は、先ず、材料温度２５℃の条件下で粘度が１００〜５０００万ｍＰａ・ｓとなる材料に、着色材料を混練して模様層用成形材料を作製する。 - 特許庁

A seat belt alarm apparatus executes a weak alarm pattern 4 in which an alarm lamp is blinked and lighted repeatedly when a seat belt switch is turned on and a seat belt is unfastened, and a vehicle speed S is equal to or less than a buzzer sound start vehicle speed So (S45).例文帳に追加

シートベルトスイッチがＯＮのシートベルト非装着時の車速Ｓがブザー吹鳴開始車速Ｓｏ以下のときは、警報ランプの点滅／点灯を繰り返す弱い警報パターン４を実行する（Ｓ４５）。 - 特許庁

When a photoresist composition to which a crosslinker of formula (1) or (2) has been added is used, the flow characteristics of a resist are improved and the resolution and contrast of an L/S pattern can be enhanced.例文帳に追加

下記化学式（１）又は化学式（２）の架橋剤を添加したフォトレジスト組成物を用いれば、レジストフロー特性を改善させてＬ／Ｓパターンの解像度及び対照比を向上させることができる。 - 特許庁

Since resist images 23a and 23b around the patterned part 10' become wider by a shrunk width S at a time on the side of the patterned part, the patterned part 10' become narrower and a fine pattern can be formed.例文帳に追加

すると、パターン部１０´の周囲のレジスト像２３ａ、２３ｂはパターン部側で、シュリンクされた幅Ｓずつ太り、その結果パターン部１０´の幅が細くなり、微細なパターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide a processing system which uses a diffraction grating pattern and an s-image, containing a submicroscopic holographic and a diffraction grating of other form for security in a document, a credit card and a package.例文帳に追加

文書、クレジットカード及びパッケージにおける、セキュリティ目的の超顕微鏡的、ホログラフィック及び他の形態の回折格子を含む回折格子パターン及びｓイメージを使用する処理システムを提供する。 - 特許庁

Thereby, the vehicle lighting fixture can prevent the shadow S of the mobile shade in moving from being formed as a dark part which moves toward the center form its right/left end, in the additional light distributing pattern PA3.例文帳に追加

これにより、移動途中の可動シェードの影Ｓが、付加配光パターンＰＡ３に、その左右方向の端部から中心部へ向けて移動する暗部として形成されてしまうのを未然に防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board by which even a substrate having a micro copper pattern with high density of L/S=50/50 μm or less can be selectively plated by nonelectrolytic metal.例文帳に追加

Ｌ／Ｓ＝５０／５０μｍ以下の高密度な微細銅パターンを有する基板であっても、選択的に無電解金属めっき処理を行うことのできるプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Picture data, obtained by picking up a measurement pattern by a CCD camera, are integrated in a direction corresponding to a stripe direction of the cathode-ray tube, thereby signals having large S/N ratios can be obtained.例文帳に追加

カラーＣＣＤカメラが、計測用パターンを撮像して得た画像データを、ブラウン管のストライプ方向に対応する方向に積算することにより、Ｓ／Ｎ比の大きい信号を得ることが出来る。 - 特許庁

A magnetic layer 51 containing at least one kind of elements selected from a group including iron, cobalt and nickel and a mask pattern 52 exposing the etching area 51E of the magnetic layer 51 are formed on a substrate S.例文帳に追加

基板Ｓ上に、鉄、コバルト、ニッケルからなる群から選択される少なくとも一種の元素を含有した磁性層５１と、磁性層５１のエッチング領域５１Ｅを露出するマスクパターン５２を形成する。 - 特許庁

The tilt angle θ of the original file margin is detected from the center positions x, y of the luminance pattern YT and a 2nd position (t) on the original file margin is detected from the position (s) and the tilt angle θ.例文帳に追加

この輝度パターンＹ_T の中心位置ｙと位置ｘより原稿綴じ部の傾き角θを検出し、位置ｓと傾き角θから原稿綴じ部上の第２の位置ｔを検出する。 - 特許庁

One of the pair is randomly selected by a switch SW12 every time when encryption is executed to obtain the exclusive-OR 32a of the input to an S box 29 and the selected mask pattern and to obtain the exclusive-OR 33a of the output of the S box 29 and the bit of the reverse transposition P-1 of the mask (a).例文帳に追加

暗号化を行う毎にこのペアの一方をスイッチＳＷ１２によりランダムに選択し、Ｓ箱２９への入力と選択したマスクパターンとの排他的論理和３２ａが取られると共に、Ｓ箱２９の出力と、マスクａの逆転置Ｐ^-1のビットとの排他的論理和３３ａが取られる。 - 特許庁

In a preferred embodiment, the liquid sample is tested for the presence of soluble constituent(s) by contacting a sample with a sensor array under specific conditions, removing unbound sample constituent(s), determining the mass increase on the surface and comparing the mass increase data with a reference standard using pattern recognition software.例文帳に追加

好ましい態様において、特殊な条件下で試料とセンサーアレイとを接触し、非結合性の試料成分を除去し、表面上の質量増加を決定し、パターン認識ソフトウェアを用いて前記質量増加データと参照用基準とを比較し、可溶性成分の存在に関して液体試料を測定する。 - 特許庁

This calibration pattern unit for acquiring correction information for an imaging system by image pick-up by the imaging system is put on a plurality of planes or one or more of curved face(s) arranged three-dimensionally to provide a calibration pattern 5-2 or 5-3 formed with a prescribed pattern within a range having a shape substantially same to an object imaged by the imaging system.例文帳に追加

撮像系により撮像することによって当該撮像系の補正情報を取得するためのキャリブレーションパターンユニットを、三次元的に配置された複数の平面上または一つ以上の曲面上において、上記撮像系の撮像する対象物と概ね同形状を有する範囲に所定のパターンが形成されたキャリブレーションパターン５−２又は５−３を有するよう構成する。 - 特許庁

By making a connection piece part 8 fit into a fitting part 5, depending on a prescribed electrical connection pattern S, the flexible flat cables 1, 2 are connected with each other in electrical connection of a conductive wire part 1a and a conductive wire part 2a.例文帳に追加

接続片部８を嵌合部５に嵌合することにより、所定の通電パターンＳに基づいて導線部１ａと導線部２ａとが電気的に導通してフレキシブルフラットケーブル１、２同士が接続される。 - 特許庁

A subfield 51 of an evaluating pattern 50 is divided into four regions S so that lines and spaces are extended in an X direction in regions S2 and S4, while the lines and spaces are extended in a Y direction in regions S1 and S3.例文帳に追加

評価用パターン５０のサブフィールド５１は４つの区域Ｓに分割され、区域Ｓ２及びＳ４でライン及びスペースがＸ方向に延び、区域Ｓ１及び区域Ｓ３でＹ方向に延びるように配置されている。 - 特許庁

The interlayer insulating film 40 is vertically dry-etched with respect to the surface of the semiconductor substrate 20 with the resist pattern 50 as a mask, and an opening 100' toward the S/D region 25 is formed in the interlayer insulating film 40.例文帳に追加

次に、このレジスパターン５０をマスクに層間絶縁膜４０を半導体基板２０表面に対して垂直にドライエッチングして、層間絶縁膜４０にＳ／Ｄ領域２５に至る開口部１００´を形成する。 - 特許庁

To measure a diffraction pattern having a desired S/B ratio by reducing the background due to the scattering of air generated by X-rays transmitted through a sample in the case of the measurement of the diffraction of obliquely emitted X-rays.例文帳に追加

斜出射Ｘ線回折測定を行う場合において、試料を透過したＸ線で発生する空気散乱によるバックグラウンドを低減させることにより、所望のＳ／Ｂ比を有する回折パターンを測定する。 - 特許庁

To provide a versatile warp printer high in the degree of freedom of pattern(s) to be given to a woven fabric and compatible with producing small-lot-and-multikind woven fabrics as well, to provide a loom equipped with the warp printer, and to provide a weaving method using the warp printer.例文帳に追加

この発明は、織物へ表す柄の自由度が高く、少量多種の織物の生産にも対応できる汎用性のある経糸印刷装置、織機、織布方法を提供すことを目的とする。 - 特許庁

The semiconductor device in one form has an annular worked-film pattern along the outer periphery of the semiconductor substrate on a worked film (E) formed on the semiconductor substrate (S) with a plurality of chip regions.例文帳に追加

本発明の一形態の半導体装置は、複数のチップ領域を有する半導体基板（Ｓ）上に形成された被加工膜（Ｅ）上に、前記半導体基板の外周部に沿ってリング状の被加工膜パターンを有する。 - 特許庁

The light from an artificial light source S as a line segment light source extending in vehicle width direction is reflected to the front by a first reflector 14 and a light distribution pattern having cut-off lines CL1, CL2 at the top end part is formed.例文帳に追加

車幅方向に延びる線分光源としての擬似光源Ｓからの光を、第１リフレクタ１４で前方へ向けて反射させて、上端部にカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２を有する配光パターンを形成する。 - 特許庁

When development is performed by using alkaline developing solution after exposure to light, a region which is exposed to light with the pattern 3b having L/S equal to or rougher than the resolution limit is formed in a shape having a comb tooth type section by narrow trenches 5 with depth not getting to the substrate 1.例文帳に追加

露光後、アルカリ性現像液で現像すると、解像限界以下のＬ／Ｓのパターン３ｂにより露光された領域は、基板１に達しない深さの狭い溝５によって断面櫛歯状に形成される。 - 特許庁

The control device controls the revolving angle and turning-on/off of the spot lamp 3 based on the positional information of the pedestrian M, and changes an emission pattern of the spot light S in accordance with the characteristic information of the pedestrian M.例文帳に追加

制御装置は、歩行者Ｍの位置情報に基づいてスポットランプ３の旋回角度と点消灯を制御するとともに、歩行者Ｍの特性情報に応じてスポット光Ｓの照射パターンを変化させる。 - 特許庁

Each of the units M, S transmits an acknowledgement message including an ID code of its own unit to the controller 10 and the controller 10 decides provision of the local transmission pattern to a sender of the acknowledgement message received at first.例文帳に追加

各ユニットＭ，Ｓはコントローラ１０に自ユニットのＩＤコードを含めた応答メッセージを送信するが、コントローラ１０は最初に受信した応答メッセージの送信元に対して、当該ローカル伝送パターンの付与を決定する。 - 特許庁

A P polarized light component p1 reflected by a vibrating film 152 in the second optical path is made to interfere with the reference light (S polarized light component s02 of reference light) to form a second interference pattern.例文帳に追加

また、第２の光路において振動膜１５２により反射されたＰ偏光成分ｐ１と、参照光（参照光のＳ偏光成分ｓ０２）とを互いに干渉させて第２の干渉縞を形成する。 - 特許庁

By using the half-wave plate 38, an effective incidence range 60 for emitting the s-polarized light from an entire back face of the polarization conversion element 30 becomes the checkered pattern and it becomes easier to irradiate to the effective incident range with the illumination light from the light source arranged in the checkered pattern.例文帳に追加

この１／２波長板３８を用いることで、偏光変換素子３０の背面全体からＳ偏光を出射させるための有効入射範囲６０が市松模様状となり、市松模様状に配列された光源からの照明光を有効入射範囲に照射することが容易となる。 - 特許庁

To provides method and device for exposure capable of exposing a pattern, having a fine hole diameter and patterns of rows of contact holes or mixed independent contact holes with the rows of contact holes, with a high degree of resolution (or the degree of resolution equal to L-and-S pattern employing a phase shift mask for the rows of contact holes) without exchanging any mask.例文帳に追加

微細なホール径を持ち、コンタクトホール列のパターン、あるいは孤立コンタクトホールとコンタクトホール列とが混在するパターンを、マスクを交換せずに、高解像度（即ち、コンタクトホール列については位相シフトマスクを用いたＬ＆Ｓパターンと同等の解像度）で露光可能な露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁