pattern Sの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 416件
After a decorative layer 2 is formed on a base material B by the lamination of a decorative sheet or the transfer due to a transfer sheet S, a transparent shaping sheet E having an embossed pattern 3 on the surface thereof is laminated on the decorative layer 2 through an adhesive A so that the embossed pattern is formed on the surface side to obtain a decorative material D.例文帳に追加
化粧シートの積層又は転写シートSによる転写にて、基材Bに装飾層2を形成した後、更に該装飾層の上に凹凸模様3を表側に有する透明な賦形シートEを、間に接着剤Aを介して、該凹凸模様が表側となる様な向きで積層して化粧材Dとする。 - 特許庁
A light emission pattern is taken into a control part 42 via an image pickup part 50, and the control part 42 carries out a pointer function corresponding to a preliminarily stored light emission pattern to the coordinates of the display image of the screen and the monitor 60 corresponding to the coordinates of the heading LED (reference light emission point) 21 on the virtual screen S.例文帳に追加
発光パターンが撮像部50を介して制御部42に取り込まれ、制御部42は、予め記憶する発光パターンに応じたポインタ機能を、仮想スクリーンS上における先端のLED(基準発光点)21の座標に対応するスクリーンおよびモニタ60の表示画像の座標に合成する。 - 特許庁
This semiconductor device includes first and second wiring layers L4, L5 each having a hollow structure and stacked vertically so as to be adjacent to each other on a semiconductor substrate S, a dummy pattern P formed in the first wiring structure L4 and not working as a signal line, and a conductive pattern P formed in the second wiring layer L5.例文帳に追加
本発明の例に係る半導体装置は、半導体基板S上に互いに上下に隣接してスタックされる中空構造の第1及び第2配線層L4,L5と、第1配線層L4内に形成され、信号線として機能しないダミーパターンPと、第2配線層L5内に形成される導電パターンPとを備える。 - 特許庁
As a more concrete mode, a focus adjustment method of carrying out focus adjustment as well as pattern measurement by alternately arranging (each other, or each several) beam scanning position(s) for obtaining signals for focus adjustment and for obtaining signals for pattern measurement in the same FOV, and the charged particle beam device are proposed.例文帳に追加
より具体的な一態様として、同じFOV内にて、フォーカス調整用信号を得るためのビーム走査位置と、パターン測定用信号を得るためのビーム走査位置を交互(1本ごと、或いは複数本ごと)に配置して、焦点調整とパターン測定を実行する焦点調整方法、及び荷電粒子線装置を提案する。 - 特許庁
In a surface acoustic wave device S, an excited electrode 14 and a grounding conductor pattern 3 to be connected to the electrode 14 are arranged on a piezoelectric substrate 21, a part of the pattern 3 is lead to the side end part of the substrate 21, and a part of the pattern 3 lead to the side end part of the substrate 21 is in a form having periodicity.例文帳に追加
圧電基板21上に、励振電極14と、該励振電極14に接続される接地用導体パターン3とが配設されているとともに、接地用導体パターン3の一部が圧電基板21の側端部に導出されているものとし、圧電基板21の側端部に導出されている接地用導体パターン3の一部が周期性を有する形状を成している弾性表面波装置Sとする。 - 特許庁
The ideal pattern generation part 30 extracts and compares *>3 reference unit patterns Pi included in an inspected image S and selecting as the gradation value of the ideal pattern PR a gradation value regarding one of reference unit patterns Pi for every corresponding pixel according to specific reference, e.g. the selection of the 2nd gradation value from the smallest value to generate the ideal pattern PR.例文帳に追加
理想パターン生成部30は、被検査画像Sに含まれる3つ以上の基準単位パターンPiを抽出して比較し、たとえば下から2番目の大きさを有する階調値を選択する旨などの所定の基準に基づいて対応画素毎に基準単位パターンPiのうちの1の単位パターンに関する階調値を理想パターンPRの階調値として選択することにより、理想パターンPRを生成する。 - 特許庁
The exposure device EX is provided with an exposure part S for exposing a pattern of mask M to a substrate P, a library LB which can keep a mask case C for storing the mask M used by the exposure part S, and a conveyance system H1 having an arm 20 for conveying to library LB while being able to hold each of the mask M and the mask case C.例文帳に追加
露光装置EXは、マスクMのパターンを基板Pに露光する露光部Sと、露光部Sで用いるマスクMを収納するマスクケースCを保管可能なライブラリLBと、マスクMとマスクケースCとのそれぞれを保持可能であるとともに、ライブラリLBに対して搬送するアーム部20を有する搬送系H1とを備えている。 - 特許庁
A conductive paste 20 is formed so that it protrudes from the surface of the printed board 30 on the conducive land 14 of an electrode pattern 13 formed on the surface of the printed board 30 to be connected with electrodes of the resonators S, P, the conductive land 14 and the electrodes of the resonators S, P are conducted via the conductive paste 20.例文帳に追加
共振子S,Pの電極と接続されるプリント基板30の表面に形成された電極パターン13の導電ランド部14上に、導電ペースト20を、プリント基板30表面に食出すようにして形成し、導電ペースト20を介して導電ランド部14と共振子S,Pの電極とを導通したものである。 - 特許庁
Slits S that transmit UV rays to a photosetting sealing member constituting a sealing section are formed along electric lines of force 48 perpendicular to equipotential lines 47 of a wiring pattern body LP1 formed on a glass substrate of a liquid crystal cell.例文帳に追加
液晶セルのガラス基板上に形成した配線パターン本体LP1の等電位線47に直交する電気力線48に沿って、シール部を構成する光硬化性のシール部材へとUV光を透過させるスリットSを形成する。 - 特許庁
A conductor pattern 20 has a length corresponding to {(Co/f)/(εr)^1/2}/4 regarding the frequency f (Hz) of the transmission signal, the wavelength λ0 (m) in a vacuum, light velocity Co (m/s) and the dielectric constant εr of a dielectric substrate 15.例文帳に追加
伝送信号の周波数f(Hz)、真空中での波長λ0(m)、光速Co(m/s)、誘電体基板15の比誘電率εrに関して、{(Co/f)/(εr)^1/2}/4に対応する長さを持つ導体パターン20を含む。 - 特許庁
Therein, a discrimination pattern S is attached to both or either one side of the connection piece and the lateral wall in the surface on which the connection piece of the overlapping part and the other side lateral wall are opposed to each other, and in the area where the adhesion is not performed.例文帳に追加
そして、その重畳部の接続片と他方の側壁とが対向する面、かつ接着がなされていない領域における接続片または側壁の双方またはいずれか一方には識別模様Sが付されている。 - 特許庁
In the case of e.g. lighting the fabric with a parallel light from its front surface side and observing, the reflected amounts of light from the S-twist yarn group or Z-twist yarn group becomes both similar and mere plain pattern is observed.例文帳に追加
例えば織物にその正面側から平行光を当てて、織物を正面から観察した場合には、前記S撚糸群又はZ撚糸群の光の反射量が共に同じになって単なる無地模様として観察される。 - 特許庁
After strings 1, which are formed by drying vine stalks 11 collected in the neighborhood, are arranged and fixed in a contour-line pattern at proper intervals on the slope S subjected to leveling, a borrow material 3 for planting is sprayed widely enough to conceal the strings.例文帳に追加
整地施工した法面Sに、近隣で採取した葛茎11を乾燥させて形成した紐体1を等高線状に適宜間隔で配設固定した後、紐体が隠れる程度に緑化用の客土材3を吹き付ける。 - 特許庁
A wave pattern of near-infrared light emitted from an outgoing end of the light guide 12 is converted into terahertz light with a predetermined angle of luminous intensity distribution by the use of a silicon lens 14 and an optical conduction element 15, and then is irradiated into an inner wall surface S of the body organ.例文帳に追加
ライトガイド12の出射端から出射する近赤外線の波形をシリコンレンズ14と光伝導素子15により所定の配光角を呈するテラヘルツ光とし、体内器官の内壁面Sに照射する。 - 特許庁
and 0.3<R≤1 in a third zone A3 being the formula III: 6.0P<S, and moreover closed loops going around the coil patterns are not formed with the conductor pattern inside the first zone A1 expressed by the formula I.例文帳に追加
式1:0≦S≦1.5Pである第1の領域A1においては0≦R≦0.3 式2:1.5P<S≦6.0Pである第2の領域A2においては0≦R≦0.8 式3:6.0P<Sである第3の領域A3においては0.3<R≦1 - 特許庁
The noodles are obtained by forming the single body 1 of the noodle ribbon through the combination of plural colors, wherein a noodle mass 4 formed by collecting many single bodies 1 of the noodle ribbons shows vertical stripe pattern(s) due to the colors of the single body 1 of the noodle ribbons.例文帳に追加
麺線単体1を複数の色彩の組み合わせによって形成し、麺線単体1を多数集めることによって形成された麺玉4が、麺線単体1の色彩により縦縞模様を表示している。 - 特許庁
The decorative sheet S has an irregular pattern 1 of a crosslinking curable resin comprising a gathering of meandering curved segments of a finite length as a plane view shape and an upward projecting continuous curve as a transverse section shape, formed on a base material sheet 2.例文帳に追加
化粧シートSは、基材シート2上に、平面視形状が有限長の蛇行した曲線分の集合体から成り、且つ横断面形状が上に凸の連続曲線から成る、架橋硬化樹脂の凹凸模様1を設ける。 - 特許庁
The effective coating pattern width of the coating material in the atomized and diffused state is controlled by the air after the collision (hitting) to deposit the coating material in thus controlled state to an object face S to be coated set ahead of the coating material atomization head 41.例文帳に追加
霧化拡散状態にある塗料の有効塗装パターン幅を上記衝突後のエアによりコントロールし、当該コントロール状態の霧化塗料を塗料霧化頭41の先方にある被塗装面Sに付着させる。 - 特許庁
The gel coat applied by spray coating sneaks into the gap S between the fixture and the mold 10 as mist and is dispersed so as to be gradually lowered in density to express a blurred part around the pattern when cured.例文帳に追加
スプレー塗布されたゲルコートは、そのミストが成形型10との間の隙間Sに回り込むようになり、次第に密度を低下させるように分散することで、硬化物としたときに模様の周囲にぼかし部を表出する。 - 特許庁
In addition, before the working with the working roller, the rotational origin of the working roller is automatically detected and the working roller during its ascent is rotated at the step (S 315) to a pattern located at the position rotated by the predetermined angle from the origin.例文帳に追加
そして、加工ローラによる加工の前に、加工ローラの回転の原点が自動的に検出され、その原点から所定角度回転した位置の模様に、上昇中の加工ローラが自動的に回転される(S315)。 - 特許庁
This pattern is made to emerge as a patterned beam pb of the charged particles, that emerge from a surface of a material body via at least one crossover c and is focused into an image S having a given magnitude and distortions.例文帳に追加
このパターンは、少なくとも1つのクロス・オーバ(c)を介して物体平面から出現する前記荷電粒子のパターン形成したビーム(pb)として表され、それは所与の大きさおよび歪曲を有する像(S)に結像される。 - 特許庁
A concrete form (S) for imitation stones is a form for building a imitation stone structure with the surface formed to a rock pattern and has a two-layer construction comprising a core member layer (1) made of a formed resin and a covering layer (2) made of a non-foamed resin.例文帳に追加
擬岩用コンクリート型枠(S)は、表面が岩状に成形された擬岩構造物を構築するための型枠であり、発泡樹脂から成る芯材層(1)と非発泡樹脂から成る被覆層(2)の2層構造を備えている。 - 特許庁
In each display area S, the planting data X such as the ridge width A, the root distance B, the ridge distance C, and the ridge height D corresponding to the designation of a planting crop are displayed in a pattern with an actual size of the crop name.例文帳に追加
各表示域Sに植え付け作物における上記呼称に応じた畦幅A、株間B、条間C、及び、畦高D等の植え付けデータXを実物大寸法にて作物名の絵柄によって表示している。 - 特許庁
As for the frequency f (Hz), the wave length λ0 (m) in vacuum and the light velocity Co (m/s) of a transmission signal and the dielectric constant εr of a dielectric substrate 15, a conductor pattern 20 having a length corresponding to {(Co/f)/(εr)1/2}/4 is included.例文帳に追加
伝送信号の周波数f(Hz)、真空中での波長λ0(m)、光速Co(m/s)、誘電体基板15の比誘電率εrに関して、{(Co/f)/(εr)^1/2}/4に対応する長さを持つ導体パターン20を含む。 - 特許庁
The attachment verifying print pattern (S) comprises not less than one kind of elements, such as characters, figures, marks, and the like, which are formed, for example, through a heat coloring reaction of a heat coloring ink layer or a transfer on a hologram metallic foil.例文帳に追加
係着証明印影(S)は、文字,数字,記号,マーク等の1種又は2種以上の要素で構成され、例えば、感熱発色性インキ層の加熱発色反応により、あるいはホログラム金属箔の転写等により表出される。 - 特許庁
To provide a three-dimensional shape measuring device capable of extracting the image of a pattern portion in an acquired image to be used for a three-dimensional shape measurement with a high signal to noise (S/N) ratio, and capable of improving the accuracy of measurement and repeatability.例文帳に追加
3次元形状測定で使用する取得した画像中のパターン部分の画像を高いS/N(SN比)で抽出でき、測定精度と繰り返し性を向上できる3次元形状測定装置を提供すること。 - 特許庁
When a braking control device 2 is actuated by detecting unstable behaviors of a vehicle, a step-drive current setting part 150 selects a step-drive pattern suitable for stabilizing vehicle behaviors by steering of vehicle wheels based on its actuation signal S and a step-drive map 152, so as to output a step-drive current value Ist corresponding to the step-drive pattern.例文帳に追加
ステップ駆動電流設定部150は、制動制御装置2が車両の不安定挙動を検知して作動すると、その作動信号Sとステップ駆動マップ152に基づいて、車輪の操舵によって車両挙動を安定化するのに適切なステップ駆動パターンを選択して、そのステップ駆動パターンに対応するステップ駆動電流値Istを出力する。 - 特許庁
Regarding a plane sensor S with a mechanical part having at least one structure pattern element ST1 or ST2 of temperature dependent electric conductivity for measuring the temperature and/or elongation of a length measurement device or an angle measurement device, at least two tracks SP1 to SP4 are formed out of the structure pattern elements ST1 and ST2 connected to each other.例文帳に追加
温度依存性の電気伝導度を持つ少なくとも一つの構造パターン要素ST1,ST2 を備えた機械部分、または測長装置、または測角装置の温度および/または伸び測定に対する面状センサにあって、互いに接続された構造パターン要素ST1,ST2 から成る少なくとも二つのトラックSP1 〜SP4 が設けてある。 - 特許庁
A control means 61 for changing the pattern of the voltage applied to the unit electrodes 20b disposed in the matrix by controlling the switch means 60 changes the pattern of the voltage applied to micro electrodes so that an electrostatic force is generated between a sheet S and the electrode array 20 in the sheet conveying direction and in the direction perpendicular to the sheet conveying direction.例文帳に追加
そして、スイッチ手段60を制御し、マトリックス状に配置された単位電極20bに印加する電圧のパターンを変化させるコントロール手段61は、シートSと電極アレイ20との間にシート搬送方向及びシート搬送方向と直交する方向の静電気力が発生するよう微小電極に印加する電圧のパターンを変化させる。 - 特許庁
A process liquid application jig 110 is arranged to face a template T so that the coated surface 111 of the process liquid application jig 110 covers the pattern region D_1 of the template T, and the distance of a clearance 116 between the coated surface 111 and the pattern region D_1 becomes the distance of generating capillary phenomenon of a mold release agent S (Fig. 12(a)).例文帳に追加
処理液塗布治具110の塗布面111がテンプレートTのパターン領域D_1を覆い、且つ塗布面111とパターン領域D_1との間の隙間116の距離が離型剤Sの毛細管現象を発生させる距離となるように、処理液塗布治具110をテンプレートTに対向して配置する(図12(a))。 - 特許庁
A filtering processing means 120 removes the periodic pattern caused by the scattered ray removal means from the radiation image P obtained by detecting the radiation transmitting through the subject S via the scattered ray removal means by a radiation detector 10.例文帳に追加
フィルタリング処理手段120は、被写体Sを透過した放射線を散乱線除去手段を介して放射線検出器10により検出して得られた放射線画像Pから散乱線除去手段に起因する周期的パターンを除去する。 - 特許庁
Lighting the woven fabric 11 with a parallel light from its front surface side and observing the woven fabric 11 from the front, the light from the S-twist yarn group 14S and the Z-twist yarn group 15Z has the same reflection amount, so that the woven fabric is observed as a plain pattern.例文帳に追加
そして、織物11に正面側から平行光を当て、織物11を正面から観察した場合にはS撚糸群14S又はZ撚糸群15Zの光の反射量が同じになって無地模様として観察される。 - 特許庁
When the game ball enters into a first starting slot 21 to start a special graphic pattern lot, a determination part 1312 determines whether a time period from the previous game ball' s entrance until the next game ball's entrance is less than a predetermined time period or not.例文帳に追加
特別図柄抽選を始動させる第1始動口21へ遊技球が入賞すると、先に遊技球が入賞してから次の遊技球が入賞するまでの時間が、所定時間未満であるか否かが判定部1312によって判定される。 - 特許庁
To provide a device for measuring the eye refracting power of an eye to be measured from the pattern image detected by a 2D light receiving element by which the light quantity is not required to be make strong, an image with a high S/N ratio can be acquired, and measuring precision can be enhanced.例文帳に追加
2次元受光素子にて検出されたパターン像を基に被検眼の眼屈折力を測定する装置において、光源の光量を強くする必要がないとともに、S/N比の高い画像を取得し、測定精度を向上させる。 - 特許庁
The ink composition including a conductive fine particle 15A, a dispersant 15B, and a burning material 15C which starts burning reaction by receiving light is discharged onto a substrate S as a droplet D to form a liquid pattern 15P on a discharge surface Sa.例文帳に追加
導電性微粒子15Aと、分散媒15Bと、光を受けることにより燃焼反応を開始する燃焼物15Cとを含むインク組成物を液滴Dにして基板Sに吐出し、吐出面Saに液状パターン15Pを形成する。 - 特許庁
Therefore, when a length (d) of the valid region 24 held between both the terminal parts is 0.4 μm, width(w) is 0.6 μm, the fuse element can be made smaller than L/S=1.2 μm/0.8 μm of a minimum pattern rule specified in patterning ability.例文帳に追加
このため、両端部に挟まれた実効領域24の長さdを0.4μmとし、その幅wを0.6μmとして、パターニング実力に規定された最小パターンルールのL/S=1.2μm/0.8μmより小さくすることが可能になる。 - 特許庁
Also, when the identification part (the flag sign F, a star sign S) is stopped and displayed at a pattern stop location in a display window H when symbols for respective rows having started a variable display stop, a game performance for a big jackpot state is specially presented.例文帳に追加
そして、変動表示を開始した各列の図柄が停止したときに、表示窓Hの図柄停止位置に識別部分(フラッグ記号F,スター記号S)が停止表示されたときには、特別に大当たり状態の遊技演出がなされる。 - 特許庁
The exposure treatment is carried out by making a step pitch (c) times as long as the chip pattern dimension (however, (a) is a divisor of (a) and a positive integer smaller than (a)), and making one shot S exposure (c/a) times as much as the exposure necessary for the photosensitive coloring resist layer.例文帳に追加
ステップピッチをチップパターンの寸法のc倍(ただし、cはaの約数であり、かつaより小さい正の整数)とし、1ショットSの露光量を、感光性着色レジスト層が必要とする露光量のc/aとして露光処理を行う。 - 特許庁
To perform selective growth of a solid on a fine scale of nano meter with high accuracy in a short time, by readily conducting drawing of a high resolution pattern at a high speed and a low cost, when a solid s selectively grown on a substrate surface.例文帳に追加
基材上に固体を選択的に成長させる場合のパターンの描画を、高速にかつ高解像度で、また低コストで容易に行い、固体の選択成長をナノメーターの微細なスケールで高精度にかつ短時間で行えるようにする。 - 特許庁
The pattern data PTN of the output expected values corresponding to input signals IN1-INm are inputted in series from a test input terminal 9, converted into parallel data by a S/P converter 7, and fed to a first input side of a comparator 5.例文帳に追加
入力信号IN1〜INmに対応した出力期待値のパターンデータPTNが、試験入力端子9から直列に入力され、S/P変換器7で並列データに変換されて比較器5の第1の入力側に与えられる。 - 特許庁
The decorative sheet S is constituted such that a pattern ink layer 3 is printed for formation on the back of the transparent base sheet 1 having a fish-eye-form unevenness F on at least its back after a transparent coat film 2 to smooth and flatten the unevenness is coated and formed.例文帳に追加
加飾シートSは、少なくとも裏面にフィッシュアイ状の凹凸Fを有する透明基材シート1の裏面に、該凹凸を平滑・平坦化する透明平滑化塗膜2を塗工形成してから、絵柄インキ層3を印刷形成した構成とする。 - 特許庁
The measurement device for modulators is provided with an oscillator 1, a frequency divider 2, a 4-phase modulation pattern generator 3, S/P converters 4a, 4b, a vector network analyzer 6, a modulator 5 as a measurement object, and terminals 11, 12, 13, 14 used to interconnect each section of the measurement device.例文帳に追加
発振器1と、分周器2と、4相変調パターン発生器3と、S/P変換器4a,4bと、ベクトルネットワークアナライザ6と、被測定対象としての変調器5と測定装置各部とを接続する端子11,12,13,14とを設ける。 - 特許庁
The polarization (alpha)(an angle (alpha) from s-polarization) of light irradiated to a sample, an object under defect detection, is calculated by substituting the condition of the circuit pattern of the sample, and the azimuth angle, and incident angle of irradiation light into a prescribed formula.例文帳に追加
欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光(アルファ)(s偏光からの角度(アルファ))を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁
To provide a screen printing method, in which all the creamy solder filler in the opening part of the pattern of a printing screen S is transferred to a substrate at the leaving of the substrate from the screen and neither blur nor break nor deficit portion develops in the printing of the substrate and its printing equipment.例文帳に追加
基板の離版の際、印刷スクリーンSのパターンの開口部に充填されたクリーム半田が全て基板に転写し、基板の印刷にかすれや欠けや欠損部分が発生しないスクリーン印刷方法及びその印刷装置を提供する。 - 特許庁
At this time, an S polarized light component s1 reflected by a vibrating diaphragm 151 in the first optical path is made to interfere with the reference light (P polarized light component p02 of reference light) passing the third optical path to form a first interference pattern.例文帳に追加
この際、第1の光路において振動膜151により反射されたS偏光成分s1と、第3の光路を通る参照光(参照光のP偏光成分p02)とを互いに干渉させて第1の干渉縞を形成する。 - 特許庁
To provide a pair of vintage jeans-style jeans looking as if reproducing a peculiarity of a condition that the right and left bottoms of jeans turn in the same direction, and twist in an S shape line, and making the legs look long through upward positioning a color pattern of a friction mark near the knee.例文帳に追加
ジーンズの左右の裾が同一方向に回転して、S字状のラインによじれる状態の癖を再現したかのように見え、膝下付近のアタリの色模様を上方に位置させて脚長に見せるヴィンテージ・ジーンズ調のジーンズを提供する。 - 特許庁
Polarization (alpha) (an angle (alpha) from s polarization) of light to be emitted on a sample which is an object for performing defect detection is calculated by substituting a condition of a circuit pattern of the sample, an azimuth angle and an incident angle of irradiation light in a predetermined formula.例文帳に追加
欠陥検出を行なう被対象物である試料に照射する光の偏光(アルファ)(s偏光からの角度(アルファ))を、試料の回路パターンの条件、照射光の方位角及び入射角を所定の計算式に代入して算出する。 - 特許庁
Then, bits as the bit value of 0 from the bits in the S-1 number are inverted to 1 to the bit pattern at the maximum value, and the mask generation in which the all upper bits from the inverted bit positions are set in 1 and the lower bits in 0 is conducted.例文帳に追加
一方、最小値のbitパターンに対しては、S−1番目のbitからbit値0となるbitを1に反転し、反転したbit位置より上位のbitを全て1、下位のbitを0としたマスクを生成を行う。 - 特許庁
Various sophisticated designs were devised as follows; the formation of Katomado (specially shaped windows with many s-shaped curves in a Zen temple) and its above Shoji of tsukeshoin, the design of kugikakushi (object which conceals the head of nail) of transom and the usage of karakami (printed paper, paper sliding door) xylographed simple komon (small fine pattern) motif. 例文帳に追加
付書院の花頭窓とその上の障子の構成や欄間の釘隠しの意匠そして、襖障子には木版でシンプルな小紋文様をすり込んだ唐紙を使用するなど、さまざまなしゃれた意匠を工夫していった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
For example, with respect to frame lines or continuous lines M_1 and M_2 of individual unit patterns "1" and "2" constituting a given pattern "12", a curve part is defined by the minimum required number of circular arcs E in stead of many minute segments S by data compression processing.例文帳に追加
たとえば、所与のパターン「12」を構成する個々の単位パターン「1」,「2」の枠線または連続線M_1,M_2について、データ圧縮処理により、曲線部分を多数の微小線分Sに代えて必要最小限の個数の円弧Eで定義する。 - 特許庁
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