「pattern accuracy」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

To reduce the effects due to a multipath or a height pattern, and accurately detect the distance or the direction although the detection accuracy is excessively degraded by the effect due to the multipath or the height pattern, if the distance or the direction is detected by utilizing ultrasonic signal, a high-frequency signal or an optical signal.例文帳に追加

超音波信号あるいは高周波信号あるいは光信号を利用して距離あるいは方向を検知する場合、マルチパスあるいはハイトパターンの影響を受け検知精度が極端に劣化する場合があり、これらの影響を軽減して高い精度で検知できるアクティブタグ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern having a large depth of focus (DOF), small line width roughness (LWR) and reduced bridge defects, in order to more stably form a high-accuracy fine pattern for manufacturing a highly integrated and accurate electronic device, and to provide a chemical amplification resist composition used in the method and a resist film formed from the chemical amplification resist composition.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法、これに用いる化学増幅型レジスト組成物、及び、該化学増幅型レジスト組成物により形成されるレジスト膜を提供する。 - 特許庁

When a membrane structure having a membrane on a frame comprising Si is manufactured and then an etching mask for etching-opening the membrane is formed, a resist pattern of a pattern 34 in a membrane region 16a surrounded by a beam 12a is formed and an etching mask having a resist pattern of a positional accuracy evaluation mark 40 is formed as for a mask distortion evaluation.例文帳に追加

Ｓｉからなる枠体上にメンブレンを備えたメンブレン構造体を作製し、次いでメンブレンをエッチング開口するエッチングマスクを形成する際、梁１２ａで囲まれたメンブレン領域１６ａにパターン３４のレジストパターンを形成すると共に、ステンシルマスク１０の格子状に延在する梁１２ａの交点下のメンブレン領域に、マスク歪み評価用として位置精度評価マーク４０のレジストパターンを有するエッチングマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a casting pattern reducing labortime for forming a cavity during casting by a casting pattern and thus realizing drastic reduction of the number of production processes, and also provide a production method for the casting pattern which is formed with high accuracy and efficiency in accordance with a product to be casted even when it has especially large and complicated shape and realizes drastic reduction of production cost in casting production.例文帳に追加

鋳造模型によって鋳型中にキャビティを造形する手間を省くことで、鋳造工数の大幅な削減を実現する鋳造模型と、鋳造される製品が特に大型で複雑形状のものでも、それを象って製作する非常に高精度でかつ能率的に製作可能として、模型製作に伴う大幅なコスト低減を実現できる鋳造模型の製造方法を提供する。 - 特許庁

With this configuration, even if the reticle stage RST moves upward and downward, the positional relationship between a reticle R and the wafer focal position detecting system 24 can be free from variation and the tilt of the wafer W for the reticle R can be measured with high accuracy, and as the result, the pattern formed on the reticle R can be transferred to the wafer W with high accuracy.例文帳に追加

これにより、レチクルステージＲＳＴが昇降しても、レチクルＲとウエハ焦点位置検出系２４との位置関係が変動することがなくなるので、レチクルＲに対するウエハＷの傾斜を精度よく計測することができ、結果的にレチクルＲに形成されたパターンを精度よくウエハＷに転写することができる。 - 特許庁

The bus electrode 13 and the exposed electrode 15 can be formed so that the respective positions of the side edge parts of the bus electrode 13 and the exposed electrode 15 nearly coincide with each other without strictly controlling pattern accuracy and alignment accuracy, since the bus electrode 13 is utilized as a part of an exposure mask when the exposure from the rear side of a first glass substrate 11 is performed.例文帳に追加

第１のガラス基板１１の裏面側からの露光に際して、バス電極１３を露光マスクの一部として利用するため、パターン精度及びアライメント精度を厳密に制御することなく、バス電極１３の側縁部の位置と、露出電極１５の側縁部の位置とをほぼ一致するように形成することができる。 - 特許庁

To provide an optical system manufacturing method by which high optical performance is secured without restraining the accuracy of individual parts or assembling accuracy very strictly, a projection optical device whose extant aberration is easily adjusted and which realizes high optical performance and an aligner capable of excellently projecting and exposing the image of the pattern of a mask on a substrate.例文帳に追加

個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなく，高い光学性能を確保可能な光学系の製造方法，および残存する収差の調整が容易に可能であり，高い光学性能を達成可能な投影光学装置，ならびにマスクのパターンの像を基板に良好に投影露光し得る露光装置を提供すること。 - 特許庁

To enhance writing accuracy of a servo pattern and to reduce manufacturing cost by observing relative positions of a head and feeding them back to a magnetic disk device by using an actuator and the head mounted on the magnetic disk device itself without using an exclusive external servo writer.例文帳に追加

専用の外付けサーボライタ装置を用いず、磁気ディスク装置自体が搭載するアクチュエータとヘッドを用いてヘッドとディスクの相対位置を観測してフィードバックし、サーボパターンの書き込み精度の向上と製造コストの削減を図る。 - 特許庁

Since the values of the unknown quantities a, b, c, and d have weak pattern-dependency, sufficiency accuracy is obtained when the mean value of one characteristic subfield or several patterns is found and the same value can be used for other subfields.例文帳に追加

a、b、c、dの値はパターン依存性が弱いので、一つの特徴的なサブフィールドパターンについて求めるか、数個のパターンについての平均を求めれば、十分な精度が得られ、他のサブフィールドについても同じ値を使用することができる。 - 特許庁

In this carved seal reader 1, an infrared LED 43 and a green LED 44 are used for an illumination means 40 so as to improve the contrast of the carved seal in time of the imaging to improve the distinction accuracy of the carved seal pattern.例文帳に追加

刻印読取り装置１は、撮像時における刻印のコントラストを向上させて、刻印パターンの識別精度を向上させるために、照明手段４０には、赤外線ＬＥＤ４３と緑色ＬＥＤ４４とが利用される。 - 特許庁

To provide a method increasing the accuracy of a method (Tm method) detecting mutation of a base sequence of a nucleic acid by heating a double-stranded nucleic acid to the temperature (Tm value) at which the nucleic acid is dissociated into a single-stranded nucleic acid or its dissociation pattern.例文帳に追加

２本鎖核酸を加熱して１本鎖核酸に解離する温度点（Ｔｍ値）あるいは解離パターンから核酸の塩基配列の変異を検出する方法（Ｔｍ法と呼ぶ）の検出精度を高めた方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electro-optical device having an inspection pattern for verifying film thickness or resistance of a resin film or a conductive film with high accuracy, and to provide an inspection method for an electro-optical device, a method for manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus.例文帳に追加

樹脂膜又は導電膜の膜厚や抵抗値を精度良く検証できる検査用パターンを備えた電気光学装置、電気光学装置の検査方法、及び電気光学装置の製造方法、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a color filter, preventing deterioration of contrast in a display image and manufacturing a high-accuracy color filter according to a design pattern, and to provide a color filter and a liquid crystal display device.例文帳に追加

表示画像のコントラスト悪化を防止すると共に、設計パターン通りの高精度のカラーフィルタを製造することができるカラーフィルタ製造方法及び製造装置、並びにカラーフィルタ及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The method also includes measuring the accuracy of at least one property of the at least one location of the pattern on the substrate that has been determined as being prone to patterning errors, and adjusting the lithographic process according to the measuring.例文帳に追加

方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 - 特許庁

To provide a grinding material and a polishing material, or a grinding method and a polishing method for obtaining a base board having no flaw and a polishing trace by improving polishing accuracy of surfaces of the base board, an interlayer insulating film, a circuit pattern, etc.例文帳に追加

本発明は、基板や層間絶縁膜、回路パターン等の表面の研磨精度を向上させ、キズや研磨痕の無い基板が得られる研削材や研磨材若しくは研削方法や研磨方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The edges of the dot are extracted and counted in one direction to detect the position of a deformed dot located at the boundary between patterns different in gradation value at an output resolution level, thereby specifying the position of a pattern pixel at a high accuracy.例文帳に追加

網点のエッジを抽出し、一方向にカウントすることにより、階調値の異なる絵柄の境界に位置する変形した網点の位置を出力解像度レベルで検出し、絵柄画素の位置を高精度に特定する。 - 特許庁

To provide a method for forming a minute and highly accurate pattern even on a highly reflective substrate or a substrate with a transparent film, by solving a problem (deterioration in dimensional accuracy) caused by halation of reflected light from the substrate.例文帳に追加

基板からの反射光によるハレーションや干渉現象による問題（寸法精度劣化）を解決し、反射率の高い基板，透明膜が介在する基板等においても微細で高精度のパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for manufacturing a substrate in which accuracy in detecting a finishing point of etching process can be improved even when an etching object has light transmissivity and has a minute pattern.例文帳に追加

エッチング対象が透光性を有し、且つパターンが微細である場合であってもエッチング処理の終点検出の精度を向上させることができる基板の製造装置および基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁

A plurality of surface patterns having a boundary wherein a reflection characteristic of light or electron beam at a light shielding film surface varies are disposed as dedicated patterns for measuring mask position accuracy on the light shielding film in the device pattern forming region of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのデバイスパターン形成領域の遮光膜に、遮光膜表面での光線又は電子線の反射特性が変化する境界を持つ表面パターンをマスク位置精度測定専用パターンとして複数配置しておく。 - 特許庁

To provide a multicore cable assembly that simplifies the operation of connecting a plurality of coaxial cables to the wiring pattern of a wiring board or of a connector and reduces the positioning accuracy required in the connecting operation, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

複数本の同軸ケーブルと配線基板またはコネクタの配線パターンとの接続作業を簡素化でき、接続時に要求される位置合わせ精度を低減できる多芯ケーブルアセンブリ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask which holds a prescribed strength and effectively avoids deforming due to a thermal stress, even if the mask is made fine and as a thin film, and has a pattern having a precise processing accuracy.例文帳に追加

微細化され且つ薄膜化されたステンシルマスクに於いても、所定の強度を保持すると同時に熱応力による変形を有効に防止すると共に、精密な加工精度を有するパターンを有するステンシルマスクを提供する。 - 特許庁

To perform punching work of a TAB tape superior in positioning accuracy between mutual patterns, with little rotation of a punching pattern, by minimizing rotation of a tape material without being influenced by the meandering of the tape longitudinal edge.例文帳に追加

テープ長手縁の蛇行の影響を受けずにテープ材の回転を小さく押さえることができ、従って穿孔パターンの回転が少なく、パターン相互間の位置精度が良好なＴＡＢテープの穿孔加工をなすことを可能とする。 - 特許庁

When an analog input signal Vin has a feature of EYE pattern, a reference voltage generating circuit 21 outputs (m) ((m) is an integer of ≥2) reference voltages having different voltage values respectively corresponding to the bit accuracy of a digital code Dout'.例文帳に追加

アナログ入力信号ＶinがＥＹＥパターンの特徴を有する場合、基準電圧発生回路２１は、各々異なる電圧値を有し、デジタルコードＤout’のビット精度に応じたｍ（ｍは２以上の整数）個の基準電圧を出力する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a deposition mask having the excellent positional accuracy of a pattern part even with a body frame of low strength with a sash removed therefrom when manufacturing the deposition mask by affixing a metal mask on a screen fabric, and transferring the metal mask to the body frame.例文帳に追加

紗上にメタルマスクを貼り、このメタルマスクを本枠へ転写する蒸着マスクの製造にて、桟を取り除いた強度の低い本枠でも、パターン部の位置精度の良好な蒸着マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device for applying paste increasing accuracy in repairing application for a defectively applied part of a pattern applied and drawn on a substrate of a liquid crystal display device or the like, and to provide a method of applying paste in repairing application.例文帳に追加

液晶表示装置等の基板上に塗布描画されたパターンにおける塗布欠陥部の塗布補修精度を向上させることができるペースト塗布装置及び塗布補修の際のペースト塗布方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductive film pattern having a fine structure, excellent in adhesiveness to a base material, form accuracy and reliability, formed requiring no complicated and costly equipment and steps and a method of forming the same.例文帳に追加

本発明の目的は、微細な形状を有し、基材との密着性や形状精度、信頼性に優れ、複雑、高価な設備、工程を必要とせずに形成する導電膜パターン及びその形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To inspect the defects of a pattern at a high speed and with high accuracy with a laser light having a large amount of light, by solving the problems of the temporal and spatial coherences that are generated by using the laser light as a light source.例文帳に追加

照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。 - 特許庁

To provide a stamper for micropattern transfer which is a soft stamper having a microstructure layer in which release processing is not needed and pattern transfer accuracy in repetitive transfer is not deteriorated.例文帳に追加

本発明の課題は、本発明の課題は、離型処理が不要で、かつ繰り返し転写におけるパターンの転写精度が劣化しない微細構造体層を有するソフトスタンパである微細パターン転写用スタンパを提供することにある。 - 特許庁

To provide a copper foil peeling method of a printed wiring board capable of improving accuracy of a peel strength test, and improving efficiency of a measuring work, by peeling off with a fixed width, a copper foil pattern for the peel strength test.例文帳に追加

ピール強度試験用の銅はくパターンを一定幅で引き剥がすことによりピール強度試験の精度の向上と測定作業の効率向上を実現できるプリント配線板の銅はく引き剥がし方法を提供する。 - 特許庁

Since exposure value dependency of a best focus position to be calculated can be neglected while preventing occurrence of pattern collapse due to defocus, image plane position of a projection optical system can be measured with high accuracy.例文帳に追加

これにより、デフォーカスによってパターン倒れが発生することを抑制しつつ、算出されるベストフォーカス位置の露光量依存性を無視することができるので、投影光学系の像面位置を精度高く計測することができる。 - 特許庁

Moreover, the amount of paper expansion/contraction can be measured with the accuracy close to a nozzle pitch by way of newly making an additional recording of the expansion/contraction reference mark on the first surface and detecting the position of the mark recorded additionally in corresponding with the non-discharge detecting pattern.例文帳に追加

また、前記第１面に新たに伸縮基準マークを追加記録し、当該追加記録したマークの位置を不吐検知パターンと対応させて検出することでノズルピッチに近い精度で用紙伸縮量を計測できる。 - 特許庁

As positioning accuracy of a coated sealing material 120 is improved and waviness in an edge of the sealed sealing material enable to make reduce or lose by these pattern, a space between the pixel area and the coated sealing material is possible to be minimized.例文帳に追加

これらパターンにより、塗布されたシール材１２０の位置決め精度を高め、かつ、封着されたシール材の縁のうねりを低減又は消失させることができ、画領域と塗布されたシール材とを極力近づけることを可能とする。 - 特許庁

To improve the accuracy of measuring the displacement of solder by previously calculating correction data composed of a difference between the height of resist and the height of a conductive pattern and correction data composed of the dyeing amount of solder to a laser beam.例文帳に追加

レジストの高さと導電性パターンの高さとの高低差からなる補正データやレーザビームに対する半田の染み込み量からなる補正データを予め算出することにより、半田の変位量の測定精度の向上を図る。 - 特許庁

The centroid of an electric conductive pattern 3 having the correction pad 25 coincides with the centroid of the photoelectric conversion face 133A, thus first and second optical modules 12A and 12B are mounted on the photoelectric circuit board 1 with high accuracy.例文帳に追加

この補正パッド２５を有する導電性パターン３の重心と、光路変換面１３３Ａの重心が一致するので、高い精度で第１及び第２の光モジュール１２Ａ、１２Ｂを光電子回路基板１に実装することができる。 - 特許庁

To provide a bio-information read unit that can enhance the accuracy of the identification of personal identification that uses bio-information related to a vein pattern, a fingerprint and the like, and can suppress the enlargement of an apparatus as a whole and an increase of cost.例文帳に追加

静脈パターンや指紋等の指にかかる生体情報を用いた個人認証の認証精度を向上させ、且つ、装置本体の大型化およびコストアップが抑えられる生体情報読取ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method, capable of controlling the pattern of a rugged structure to be formed on a surface of a substrate with high accuracy and avoiding waste of particles, and to provide the substrate processed by the method.例文帳に追加

基板表面に形成されるべき凹凸構造のパターンを高精度に制御することができ、粒子の無駄をなくすことができる基板処理装置、基板処理方法、及びこの方法によって処理された基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a light-emitting device and a substrate for evaporation capable of improving accuracy of pattern formation of respective color EL layers when manufacturing a full-color flat panel display using red, green, and blue light-emitting colors.例文帳に追加

赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a logic verification device applicable to logic circuit unit verification and system verification and capable of generating a verification pattern corresponding to pipeline processing for improvement of verification accuracy.例文帳に追加

論理回路の単体検証及びシステム検証に対応した論理検証装置において、パイプライン処理に対応した検証パターンを生成可能にし、検証精度を向上させることができる論理検証装置を提供する。 - 特許庁

To provide an intagliated plate, in which a glass board with grooves formed thereon is employed, the pattern of the groove of which can be formed with exact dimensional accuracy, hardly takes scratches and is excellent in surface strength.例文帳に追加

溝を形成したガラス基板を用いた凹版であって、溝のパターンを高い寸法精度で形成することが可能であって、且つ、引っかき疵がつきにくく、さらに表面強度に優れた凹版、を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer substrate on which conductor patterns causing no disconnection or short circuit, particularly, a portion for connecting end portions of respective conductor pattern layers, can be formed with a required thickness and line width and favorable location accuracy.例文帳に追加

断線やショ—トを生じることのない導電体パタ—ン、特に導電体パ夕—ン各層の端部接続部を所望の厚みおよび線幅にかつ位置精度よく形成することができる多層基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for supplying an alkaline developing solution, in which a deterioration state of an alkaline developing solution can be reliably evaluated, dimensional accuracy of a resist pattern can be maintained fully and deterioration in cost benefit can be prevented.例文帳に追加

アルカリ系現像液の劣化状態を確実に見極めることができ、レジストパターンの寸法精度を充分に確保でき、経済性の悪化をも抑止できるアルカリ系現像液供給方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, whereby the thickness of a resist film and the thickness of a resist base film can be optimized with high accuracy for minimizing a standing wave in the resist film under conditions of a kind of resist which is determined.例文帳に追加

レジストの種類が決められた条件下において、レジスト膜中の定在波の発生を極小化するためのレジストの膜厚、レジスト下地膜の膜厚を高い精度で最適化し得るレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic package which is easy to be manufactured, makes narrow the width of a recessed groove having a conductor pattern is capable of high-density wiring, improves the dimension accuracy of the recessed groove and does not cause position deviation, and is capable of lateral conduction.例文帳に追加

側面導通が可能なセラミックパッケージであって、製造が容易であり、導体パターンを備えた凹溝の幅が狭く、高密度配線が可能であり、また、凹溝の寸法精度が高く位置ズレも示さないセラミックパッケージを提供すること。 - 特許庁

To decrease the problems of a plurality of motions by detecting a large motion vector in the unit of one pixel or a small block, without increasing the calculation amount and preventing deterioration in accuracy of motion detection, so as to reduce errors due to repetitive pattern.例文帳に追加

計算量を増大させずに、１画素単位または小ブロック単位で、大きな動きベクトルを検出でき、また、動き検出の精度の低下を防止し、反復パターンによるエラーを低減し、複数動きの問題を低減する。 - 特許庁

To provide a stencil mask and an alignment apparatus used for the alignment of the stencil mask whereby the alignment marks of a wafer can be sensed even when Si is used in its pattern portion for depictions, and the large improvement of the accuracy of the alignment can be achieved.例文帳に追加

描画用のパターン部にＳｉを使用しても、ウエハの位置合わせマークが検出可能であり、位置合わせ精度の大幅な向上が達成できるステンシルマスク、及びその位置合わせに使用されるアライメント装置を提供する。 - 特許庁