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patternedを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3853



例文

On the capacitor mounting wiring board 10b, a plurality of wiring layers 14a and 14b, 16a and 16b, and 18a and 18b patterned in necessary shapes respectively are laminated with insulating layers 15a and 15b, and 17a and 17b interposed, and connected to each other through conductors formed penetrating the insulating layers along the thicknesses.例文帳に追加

キャパシタ実装配線基板10bにおいて、それぞれ所要の形状にパターン形成された複数の配線層14a,14b,16a,16b,18a,18bが、絶縁層15a,15b,17a,17bを介して積層されると共に、該絶縁層を厚さ方向に貫通して形成された導体を介して相互に接続されている。 - 特許庁

A patterned Ti/Au film and a Ti/Au connecting conductor are formed on the magnetic thin film, a polyimide film of thickness 10 μm, and Cu coils each of height 35 μm, width 90 μm, and space 25 μm and a polyimide layer filling a space between the Cu coils are formed thereon.例文帳に追加

この磁性薄膜上にパターニングされたTi/Au膜とTi/Auの接続導体が形成され、その上に10μm厚のポリイミド膜と、高さ35μm、幅90μm、スペース25μmのCuコイルとCuコイル間のスペースを充填したポリイミド層が形成される。 - 特許庁

Before forming a patterned lower electrode and a first wiring layer, that is, in a state where a first conductive film is formed on the entire surface, an insulation film for capacitance formation and a second conductive film are successively deposited, then patterning is performed and an upper electrode and a capacitive insulation film are formed.例文帳に追加

パターニングされた下部電極及び第1の配線層を形成する前に、つまり第1の導電膜が全面に形成されている状態で、容量形成用絶縁膜及び第2の導電膜を順次堆積した後、パターニングして上部電極及び容量絶縁膜を形成する。 - 特許庁

In an exposure method in which a resist layer is selectively exposed with X-rays and patterned in a prescribed shape, the resist layer comprises a polymeric material having an oxygen atom content (by number) ratio nO of <0.05 and a density ρ satisfying at least one of equations (1) and (2).例文帳に追加

レジスト層に選択的にX線で露光して所定の形状にパターニングする露光方法において、上記レジスト層は、原子の数の比による酸素原子含有比率n_Oが0.05未満であり、且つ密度ρが下記の数1又は数2の少なくとも一方を満たす高分子材料を含有する。 - 特許庁

例文

To manufacture a magnetic disk medium with few defects by detecting original defects without detecting a groove of a magnetic film and a pattern of unevenness or the like as a defect in an error inspection process of a step for manufacturing the discrete track magnetic disk medium or a bit patterned magnetic disk medium.例文帳に追加

ディスクリートトラック磁気ディスク媒体またはビットパターンド磁気ディスク媒体の製造段階のエラー検査工程において、磁性膜の溝、凹凸などのパターンを欠陥として検出することなく本来の欠陥を検出し、欠陥の少ない磁気ディスク媒体を製造する。 - 特許庁


例文

To provide a patterned crystallized glass article free from warpage deformation or the like, having mechanical strength and chemical and thermal durability, having the latitude of design expression by colors compared with the conventional case, and also having an improved high-class feeling and translucency as appearance, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

反り変形等を起こさず、機械的強度、化学的及び熱的耐久性を有し、従来よりも色彩による意匠表現の自由度が広く、かつ外観として高級感及び透光性を向上させた模様入り結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

On a TFT array substrate 9 where the switching active element 5 and a switching active element protection film 7 are formed, a color filter film 11 is formed and then a contact part 6 is formed by processing the color filter film 11 and switching active element protection film 7 at the same time by dry etching using patterned etching resist 10.例文帳に追加

スイッチング能動素子5とスイッチング能動素子保護膜7が形成されたTFTアレイ基板9上に、カラーフィルタ膜11を形成した後、パターニングされたエッチングレジスト10を用いて、カラーフィルタ膜11とスイッチング能動素子保護膜7を同時にドライエッチングしコンタクト部位6を形成する。 - 特許庁

Therein, a photo-curable resin is patterned according to a photolithography method and is cured, thereby, the seal material 26 is formed and a liquid crystal material for forming the liquid crystal layer 25 is injected to the inside of the seal material 26 to manufacture the liquid crystal display panel 1.例文帳に追加

そして、光硬化性樹脂をフォトリソグラフィー法によってパターニングして、光硬化性樹脂を硬化させることにより、シール材26を形成し、シール材26の内側に液晶層25を形成する液晶材料を注入することにより、液晶表示パネル1が製造される。 - 特許庁

To provide a moire-patterned decorative body which makes a moire pattern comprising various designs appears, by merely imprinting the design pattern of a pattern layer formed on the surface of a translucent layer, on the mirror face of a mirror layer formed on the reverse side of the translucent layer.例文帳に追加

透光層の表面側に形成された模様層の模様パターンを、該透光層の裏面側に形成された鏡面層の鏡面に写り込ませるだけで、様々な模様からなるモアレ模様を現出することができるモアレ模様装飾体の提供を目的とする。 - 特許庁

例文

In this solder resist forming method, the photosensitive insulating resin film fitted with a carrier film is laminated and heated before being patterned while fitted with the carrier film, in a process wherein the solder resist if formed on a printed wiring board by using the photosensitive insulating resin film.例文帳に追加

感光性絶縁樹脂フィルムを用いてプリント配線板上にソルダーレジストを形成する工程において、キャリアーフィルムが付いた感光性絶縁樹脂フィルムをラミネートした後、キャリアーフィルムが付いた状態でパターニング前に加熱処理をすることを特徴とするソルダーレジスト形成方法である。 - 特許庁

例文

The liquid resin for the base material and one kind or plural kinds of patterning liquid resins are respectively injected in a static mixer from different injection ports and allowed to meet with each other by the mixer element of the mixer to form a confluent mixture which is, in turn, injected in the mold and cured to obtain patterned artificial marble.例文帳に追加

基材用の液状樹脂と一又は複数種の模様付け用の液状樹脂をそれぞれ異なる注入口より静的ミキサー内に注入し、該ミキサーのミキサーエレメントで合流させた合流体を成形型に注入して硬化させることにより模様付人工大理石を得る。 - 特許庁

A metal foil of the sealing component consisting of at least a support base material, a release resin layer, and the metal foil is patterned in a given plurality of shapes, and an interface of the release resin layer and the metal foil is peeled off.例文帳に追加

少なくとも支持基材、剥離樹脂層、金属箔からなる封止部材の、金属箔が所定の複数形状にパターニングされ、剥離樹脂層と金属箔の界面が剥離することを特徴とする有機EL素子用封止部材を用いて有機EL素子を封止する。 - 特許庁

In a method for producing the patterned foil, the metal foil 1 is held between thin paper sheets or films 3 and pressed by the die in which a die pattern 8 of an optional design is formed on a plate surface, the paper sheets or the films are removed, and patterns 2 of a rough surface are formed on both surfaces pressed by the die 5 of the metal foil.例文帳に追加

模様箔の製造方法は、金属箔1を薄紙又はフィルム3で挟み、版面に任意デザインの型模様8が施された型で加圧した後、薄紙又はフィルムを外し、金属箔の型5による圧接面の両面に荒れた面の模様2を形成する。 - 特許庁

To provide a display device for decreasing the influence of reflected light of external light caused by patterned bus lines, in the configuration wherein a backlight is disposed at a back surface of one substrate having common electrodes and color filters, and images are viewed from the side of the other substrate having pixel electrodes and thin film transistors.例文帳に追加

共通電極及びカラーフィルタを有する一方の基板の背面にバックライトを設け、画素電極及びTFTを有する他方の基板の側から画像を視認する構成において、配線されたバスラインによる外光の反射光の影響を低減する表示装置を提供する。 - 特許庁

After a gate electrode or a dummy gate electrode 11 for forming the gate electrode is patterned, an insulation film 29 is deposited, and after the upper part of the gate electrode or the dummy electrode is exposed by an etch-back, a first sidewall 22 is provided there, and successively, gate sidewalls 20, 21 are provided by performing an etching-back.例文帳に追加

ゲート電極またはゲート電極を形成するためのダミーゲート電極11をパターニング後、絶縁膜20を堆積し、エッチバックによりゲート電極またはダミーゲート電極の上部を露出させたのち、ここに第一の側壁22を設け、続いてエッチバックを行うことにより、ゲートサイドウォール20、21を設ける。 - 特許庁

Here, an interval D0 between the metal wiring shielding unit 30c and the vertex of the projection part 31a is set so that the interval D1 between the metal wiring forming part 40c and the vertex of the projection part 41a may become smaller than a minimum working interval E1 in a resist film R patterned by the photomask M.例文帳に追加

ここで、金属配線遮光部30cと凸部31aの頂点との間隔D0は、フォトマスクMによってパターニングされるレジスト膜Rにおいて、金属配線形成部40cと、凸部41aの頂点との間隔D1が最小加工間隔E1より小さくなるように設定されている。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises an illumination system which conditions a radiation beam, a support structure which supports a patterning device for patterning the cross section of the radiation beam, a substrate table which holds a substrate, a projection system which projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a robot which replaces a replaceable object.例文帳に追加

本発明はリソグラフィ装置に係わり、放射ビームを調整する照明系と、放射ビームの横断面にパターンを与えるパターン付与装置を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、交換可能物品を交換するロボットとを含む。 - 特許庁

Disclosed is a photomask comprising a patterned substrate, a pellicle membrane stretched in such a way that it confronts the surface of the substrate at a prescribed interval and a frame which holds the pellicle membrane and encloses the space between the pellicle membrane and the photomask substrate, wherein the frame has an opening and this opening is provided with a lid capable of blocking up the opening.例文帳に追加

パターンの形成された基板と、基板の表面に対向し、表面と所定の間隔をおいて張設されたペリクル膜と、ペリクル膜を保持し、ペリクル膜とフォトマスク基板との間を封じるフレームとを備えるフォトマスクにおいて、フレームには、開口を有し、開口には、前記開口を塞ぐことのできる、蓋部を備える。 - 特許庁

In order to attain the purpose, the substrate for an EL element is structured so as to have a substrate, a first electrode layer formed on the substrate in a patterned form, a light emitting part formed on the first electrode layer, and a protective layer formed so as to cover the surface of the light emitting part.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基板と、前記基板上にパターン状に形成された第1電極層と、前記第1電極層上に形成された発光部と、前記発光部の表面を覆うように形成された保護層とを有することを特徴とするEL素子形成用基板を提供する。 - 特許庁

Subsequently an interlayer insulating film and a spacer insulating film 117 formed on the entire surface are patterned, and self-alignment contact holes, making the semiconductor substrate 101 between the gate electrodes 107a expose, are formed, and spacers 117a are formed in the side wall of the gate electrodes 107a and the etching protecting film pattern 109a.例文帳に追加

その後全面に形成された層間絶縁膜及びスペーサ絶縁膜117をパターニングし、ゲート電極107aの間の半導体基板101を露出させる自己整列コンタクトホールを形成し、ゲート電極107a及びエッチング阻止膜パターン109aの側壁にスペーサ117sを形成する。 - 特許庁

An immersion lithographic apparatus is disclosed having a projection system configured to direct a patterned beam of radiation onto a substrate and a liquid handling system configured to supply and confine immersion liquid to a space defined between the projection system and a substrate, or a substrate table, or both.例文帳に追加

パターン付放射ビームを基板上に誘導するように構成された投影システムと、投影システムと基板、又は基板テーブル、あるいはその両方との間に画定された空間に液浸液を供給して閉じ込めるように構成された液体ハンドリングシステムとを有する液浸リソグラフィ装置が開示される。 - 特許庁

The pattern forming method includes exposing and developing a photosensitive resist material 13B to form a patterned layer 15, wherein before a step of applying the photosensitive resist material 13B on a substrate 11, an underlayer 13A comprising the same or another photosensitive resist material is formed on the substrate.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、感光性レジスト材料13Bを露光、現像してパターン層15を形成する方法において、基板11の上に感光性レジスト材料13Bを塗布する工程の前に、基板の上に同一又は他の感光性レジスト材料からなる下地層13Aを形成する。 - 特許庁

To provide a patterned decorative body and a forming method therefor, which can bring about stately finish like disorderly sticking by using a burnt plate, a molded plate, etc., without the need for skills for construction, and which enable standardized finish with certain decorativeness to be completed in a relatively short construction period.例文帳に追加

施工に熟練を必要とせず、焼成板、成形板等を用いて乱貼り調の重厚感ある仕上が得られ、しかも一定の装飾性を具え標準化された仕上げが、比較的短期の工期で完成することのできる模様を有する装飾体及び模様を有する装飾体の形成方法を提供する。 - 特許庁

Since a wiring board 10 is exposed to plasma 28 in a state that a patterned metallic wiring layer 15 is covered with a protection layer 18 in this surface processing method, plasma processing is applied to the surface of a base material 11 exposed between laminated films 13, but the metallic wiring layer 15 is not exposed to plasma 28.例文帳に追加

本発明の表面処理方法は、パターニングされた金属配線層15を保護層18で覆った状態で配線板10をプラズマ28に晒すので、積層膜13間に露出する基材11の表面はプラズマ処理されるが、金属配線層15がプラズマ28に晒されることがない。 - 特許庁

With respect to an electron exposure system using an emitter, when the emitter 3 of pyroelectric or ferroelectric materials which is patterned by a mask 4 is heated, electrons are not emitted from parts of the emitter 3 coated with the mask 4 but are emitted only from exposed parts of the surface of the emitter 3 which are not coated with the mask 4.例文帳に追加

エミッタを用いた電子露光装置において、マスク4でパターニングされた焦電性または強誘電性材料からなるエミッタ3が加熱されると、エミッタ3でマスク4によりコーティングされた部分からは電子が放出されず、マスク4でコーティングされずにエミッタ3の表面が露出した部分のみから電子が放出される。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor element, wherein after a first metal layer and a dielectric film are sequentially formed on an insulating film 120, the dielectric is left only on the part where the dielectric film is patterned and a metal-insulator-metal capacitor 160 is formed, and a second metal layer is formed on the dielectric film and the first metal layer.例文帳に追加

絶縁膜120上に第1の金属層及び誘電膜を順次形成した後、誘電膜をパターニングして金属−絶縁体−金属キャパシタ160が形成される部分にのみ誘電膜を残し、誘電膜及び第1の金属層上に第2の金属層を形成する半導体素子の製造方法である。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive polymer composition having high radiation sensitivity and useful for forming a patterned polymer film obtained by development with an aqueous alkali solution and having high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance and excellent adhesion to a substrate.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた重合体膜の形成に有用なポジ型感光性重合体組成物を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that the conditions are hard to be realized in the distance between a first layer which is patterned and has a step to a periphery and a second layer formed thereafter, in the case of a semiconductor device which is important to the distance between the two layers and yield of high dispersion thereof and needs to reduce the distance.例文帳に追加

2つの層間の距離とそのばらつきが高い歩留まりに対し重要となり、更にその距離を近づける必要がある半導体装置の場合、パターン化され、周辺と段差のある第1の層とそれ以降に形成する第2の層との距離においてこの条件を実現するのは困難である。 - 特許庁

A projection system of a lithographic projection apparatus has an operation cycle including a projection phase in which a patterned beam is projected onto a target portion of the substrate and the reticle stage supports a patterning means, and an exchange phase in which the patterning means is exchanged and the coupling system positions the patterning means with respect to the reticle stage.例文帳に追加

このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁

A lithography apparatus is equipped with a radiation system for providing projection radiation beam, a supporting structure for supporting a patterning means which functions to pattern the cross section of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィック装置は、投影放射ビームを提供するための放射システムと、投影ビームの断面をパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えている。 - 特許庁

A membrane structure includes: an air permeable hydrophobic membrane 16 having a first side 42 and a second side 46; a coating layer 28 including oleophobic fluoropolymer, which is arranged on a surface of the membrane; and a patterned layer 40 of particles arranged on the first side 42 of the membrane, which is formed by printing.例文帳に追加

第1側面42及び第2側面46を有する空気透過疎水性メンブレン16、疎油性のフルオロポリマーを含有し、メンブレンの表面に設けた皮膜28及びメンブレンの第1側面42に設けた粒子のパターン状層40を備えるメンブレン構造であり、該パターン状層40は印刷により形成されている。 - 特許庁

The spot from the micro lens array forms the hexagonal and exposed spot grid on the substrate (a) through at least one of the movement of the substrate patterned by the patterning device and/or the change of the frequency of the beam of radiation, or (b) through hexagonal configuration of the patterning device and the micro lens array.例文帳に追加

(a)パターン形成デバイスによってパターン形成される基板の移動、及び/又は放射のビームの周波数の変更の少なくとも1つを介して、或いは(b)パターン形成デバイス及びマイクロレンズ・アレイの六角形構成を介して、マイクロレンズ・アレイからのスポットは、基板上の六角形の露光されたスポット・グリッドを形成する。 - 特許庁

There are provided a process of forming a film of the piezoelectric precursor on a lower electrode, a process of patterning the piezoelectric precursor film into a predetermined shape, a process of obtaining a piezoelectric film by crystallizing the patterned piezoelectric precursor film, and a process of forming an upper electrode onto the piezoelectric film.例文帳に追加

下部電極上に圧電体前駆体膜を成膜する工程と、前記圧電体前駆体膜を所定の形状にパターニングする工程と、前記パターニングされた圧電体前駆体膜を結晶化させ圧電体膜を得る工程と、前記圧電体膜上に上部電極を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The glass substrate 4 for display is formed by depositing a ground surface film 2 of metal oxide having crystallinity for impartation of ruggedness, an amorphous insulative continuous film 3 of a film thickness reflecting the ruggedness of the ground surface film 2 and the patterned electrode films 4 in this order on substrate glass 1 having a smooth surface.例文帳に追加

表面が平滑な基板ガラス1上に、凹凸を付与するための結晶性を有する金属酸化物の下地膜2と、該下地膜2の凹凸を反映する膜厚の非晶質の絶縁性連続膜3と、パターニングされた電極膜4とがこの順序で成膜されたディスプレイ用ガラス基板。 - 特許庁

When this layer is stripped, only the segments of the display layers 63 patterned in accordance with the strength of adhesion of the transparent tacky adhesive layer 64 remain on the tacky adhesive surface 66 of the consumables unit and the display layers 62 of the other segments are pulled apart from the adhesive material layer 59 integrally with the surface layer 65.例文帳に追加

これを剥がすと、透明接着剤層64の接着強度に基づいて、パターン化された表示層63部分だけが消耗品ユニットの貼着面66に残留し、他の部分の表示層62は表面層65の引き剥がしに伴って表面層65と一体的に接着材層59から引き剥がされる。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent element using as a luminescent material a mixture of high molecular and low molecular luminescent materials wherein a high molecular luminescent layer is patterned in manufacturing of a full-color high molecular organic electroluminescent element by a laser transfer method, and color purity and luminous characteristics is improved.例文帳に追加

本発明の目的はレーザー転写法によりフールカラー高分子有機電界発光素子を製作する時高分子発光層のパターニングが可能であって色純度及び発光特性を向上させる高分子及び低分子発光物質の混合物を発光材料として用いる有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁

A digital lithographic process is configured to provide print-patterned mask features in at least two layers, with one layer printed directly atop another layer to form a feature stack, such that one feature is offset from an underlaying feature in order to selectively align the plane of the sidewall of that feature stack.例文帳に追加

デジタル・リソグラフィ・プロセスは、少なくとも2層の印刷パターン形成マスク構造部を設けるように構成され、1つの層を別の層の上に直接印刷して構造部スタックを形成し、その際、1つの構造部を下層の構造部から位置をずらして構造部スタックの側壁の平面を選択的に整列させる。 - 特許庁

Using a patterned SOG film as a mask, any one of gas selected from a group of ammonia (NH3) gas, nitrogen dioxide (NO2) gas, hydrogen cyanide (HCN) gas, methane (CH4) gas, ethylene (C2H4) gas, methanol gas and ethanol gas is introduced and etching is performed by plasma of mixture gas with oxygen gas.例文帳に追加

パターニングしたSOG膜をマスクとして用い、SOG膜の下層に位置する有機膜を、アンモニア(NH_3)ガス、二酸化窒素(NO_2)ガス、シアン化水素(HCN)ガス、メタン(CH_4)ガス、エチレン(C_2H_4)ガス、メタノールガス、エタノールガスから成るグループから選択されるいずれか1のガスを導入して、酸素ガスとの混合ガスプラズマによりエッチングする。 - 特許庁

The method of forming a conductor circuit is characterized in that a silicon-containing polymer layer patterned is formed on an insulation layer by using an ink jet device, and then, the formed layer is brought into contact with a solution of a transition metal salt or a suspension, thereby forming a transition metal layer on the silicon-containing polymer layer.例文帳に追加

インクジェット装置を用いることにより、パターン化されたケイ素含有重合体の層を絶縁層上に形成した後、遷移金属塩の溶液あるいは懸濁液と接触させることにより、該ケイ素含有重合体層上に遷移金属層を形成することを特徴とする導体回路の形成方法。 - 特許庁

To provide a dust arrester for an overflow which filters both coarse refuse and fine dust without causing clogging by installing a screen having a self-screen-cleaning (self-cleaning) function, and which can automatically select a patterned operation best suited to fluctuation in load by variedly combining screen operation patterns.例文帳に追加

自己スクリーン清掃機能(セルフクリーニング)を備えたスクリーンを設置することにより、粗いごみから微細なごみまで目詰まりを生じることなく濾過除去し、また、スクリーン運転パターンを多様に組み合わせ、負荷変動に対する最適なパターン運転を自動選択することができる越流水の除塵装置を提供すること。 - 特許庁

A chip antenna is equipped with an antenna conductor 1, which is formed of a previously patterned metal plate and embedded in a dielectric chip 2 or laminated on the surface of the dielectric chip 2, and a plurality of terminals 3 which are extracted out from the different parts of the antenna conductor 1 and protrude from the dielectric chip 2.例文帳に追加

予めパターニングされた金属板からなり、誘電体チップ2に埋め込んで、または誘電体チップの表面に積層して設けられるアンテナ導体1と、このアンテナ導体の互いに異なる部位からそれぞれ導出されて誘電体チップ2から突出する複数の端子3とを備える。 - 特許庁

The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.例文帳に追加

投影放射線ビームを供給するための放射線機構;前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体;基体を支持するための基体テーブル;及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構;を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁

A solder resist 22 is formed at the element mounting surface side of a circuit pattern 21 formed on a carrier tape 32, the solder resist is patterned for exposing a wire-bonding section, and a support member 26 is attached to a portion that is at the element mounting surface side of the circuit pattern and is also outside the formation region of the mold resin of the semiconductor device.例文帳に追加

キャリアテープ(32)上に形成した回路パターン(21)の素子搭載面側にソルダレジスト(22)を形成し、このソルダレジストをパターニングしてワイヤボンディング部を露出させ、回路パターンの素子搭載面側であって、半導体装置のモールド樹脂の成形領域の外側に支持部材(26)を貼着する。 - 特許庁

An insulating protective layer is formed on the surface of the layout substrate and patterned to expose a pad and then a well is formed to surround the pad.例文帳に追加

この方法によると、まず回路パターンがレイアウトされると共に少なくとも一つの表面に少なくとも一つの導電性のピンを具えた有機レイアウト基板を提供し、このレイアウト基板の表面上に絶縁保護層を形成し、該保護層をパターン化して該パッドを露出させ、且つパッドの周囲を囲むようにウエルを形成する。 - 特許庁

The formed film is patterned using beams, and the exposed metal surface as the result of removal of the film is plated to manufacture the printed wiring board.例文帳に追加

金属面が露出した絶縁基板上に、(A)ポリアミド酸、(B)光重合可能な基を有する化合物および(C)光重合開始剤とを含有する樹脂組成物を用いてレジスト膜を形成し、形成した膜を光線を用いてパターニングし、膜が除かれて露出した金属面上にめっきを施してプリント配線板を製造する。 - 特許庁

After depositing a first conductive film 13, a ferroelectric film 14 and a second conductive film 15 in sequence on an insulating film 11 on a semiconductor substrate 10, these films are patterned to form a capacitor which is composed of an upper electrode 15A, a capacity insulating film 14A and a lower electrode 13A.例文帳に追加

半導体基板10上の絶縁膜11の上に、第1の導電膜13、強誘電体膜14及び第2の導電膜15を順次堆積した後、これらの膜をパターニングして、上部電極15A、容量絶縁膜14A及び下部電極13Aよりなる容量素子を形成する。 - 特許庁

In the curving mat, curving is formed on the surface of a mat by shrinking a tuft synthetic fiber in at least either one of boundary parts of a ground part and a patterned part, while shrinking a single fiber synthetic material napping up tuft synthetic fiber bundles made from the base cloth with a curving agent containing shrinkage chemicals.例文帳に追加

基布から立設されたタフト用合成繊維束を起毛した単繊維状の合成繊維を収縮薬剤を含んだカービング剤で収縮させることによりグランド部分と模様部分の少なくとも一方の境界部分のタフト合成繊維を収縮させてマットの表面部分にカービングを形成した。 - 特許庁

In an organic LED panel having an insulating layer 3 made of photosensitive resin, which covers the edge portion of a patterned transparent electrode 2 and in which a part of the transparent electrode forming at least luminous pixels is made to expose, a ultraviolet light irradiates the substrate 1 after the insulating layer is formed.例文帳に追加

パターニングされた透明電極2のエッジ部分を覆い、かつ少なくとも発光画素となる部分の透明電極が露出するように形成された感光性樹脂からなる絶縁膜3を有する有機LEDパネルにおいて、絶縁膜を形成した後に基板1に紫外光を照射する。 - 特許庁

Thereby, even if a part of the ink 104 hits on the bank 103 and the mask 106, the ink is drawn into the surface of the pixel electrode 102 having lyophilic nature and patterned uniformly on the surface of the pixel electrode 102, thereby, the variation of hitting positions can be permitted to some extent.例文帳に追加

このことにより、インク104の一部がバンク103やマスク106の表面に着弾したとしても、そのインクは親液性を有する画素電極102表面に引き込まれ、かつ画素電極102表面に均一にパターニングされるため、着弾位置のずれを或る程度許容することができる。 - 特許庁

例文

Etching of an electrode forming material layer M is carried out by having a resist R1 patterned into a shape provided with a part or all of a connection electrode forming part R1C with a width, which is equal to or greater than the set beforehand width of the connection electrode E3 which is necessary for connection of a display electrode E1 and a drawing electrode E2 in the manufacturing method.例文帳に追加

レジストR1が、接続電極成形部分R1Cの一部または全部が表示電極E1と引出電極E2の接続に必要な予め設定された接続電極E3の幅以上の大きさの幅を有する形状にパターニングされて、電極形成材料層Mのエッチングが行われる。 - 特許庁




  
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