「patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a patterned medium type magnetic recording medium having a smooth surface and excellent signal characteristics and reliability without reducing corrosion resistance, even when tape burnishing is performed after protective layer formation and lubricant application on a magnetic recording layer having a discrete track formed thereon.例文帳に追加

ディスクリートトラックが形成された磁気記録層に保護層形成および潤滑剤塗布後にテープバーニッシュを行っても、耐腐食性を低下させることなく、平滑な表面を有し、かつ、信号特性や信頼性に優れたパターンドメディア型磁気記録媒体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A second metal layer 503 which has a gap is formed by laminating metal to form the second metal layer in a direction inclined to a normal direction of a surface of the support base 501 using the patterned metal film 514 to form the second metal layer as a mask.例文帳に追加

このパターニングした第二の金属層となる金属膜５１４をマスクとして、支持基体５０１の表面の法線方向に対し斜め方向から第二の金属層となる金属を積層で成膜することによりギャップを有する第二の金属層５０３を形成する。 - 特許庁

The connecting terminal is manufactured by using a patterned conductive connecting material including a resin composition layer and a metal foil pattern layer formed by arranging solder foils or tin foils so as to have the same pattern as at least a part of a pattern formed by each end surface of a plurality of electrodes.例文帳に追加

また、樹脂組成物層と、複数の電極の各端面が形成するパターンの少なくとも一部と同じパターンを有するように半田箔又は錫箔が配列されてなる金属箔パターン層とを含むパターン化導電接続材料を用いて接続端子を製造する。 - 特許庁

A layer of a photoresist 2 is formed on the surface of a base 1 made of a metal material and the photoresist 2 is patterned by exposure and development subsequent thereto through a photomask 4 having a desired pattern presented by dots.例文帳に追加

金属材料からなる基材１の表面にフォトレジスト２の層を形成し、網点で所望の絵柄を表現してなるフォトマスク４を介しての露光とそれに続く現像によりフォトレジスト２をパターニングし、腐食液を用いて基材１の露出部分をハーフエッチングした後、フォトレジスト２を残したままにする。 - 特許庁

The film is patterned in such a way that taper length at an end of the CrSi film 3 with which a laser beam is to be irradiated becomes length in which laser trimming is realized with the laser energy value lower than that by which the insulating film and the semiconductor substrate are cracked in later laser trimming.例文帳に追加

このとき、後に行うレーザートリミングにて、レーザー光が照射される予定のＣｒＳｉ膜３の端部におけるテーパー長が、絶縁膜や半導体基板に亀裂が入るレーザーエネルギー値よりも低いレーザーエネルギー値にてレーザートリミングを行うことができる長さとなるようにパターニングする。 - 特許庁

The electrochromic display element which has at least a display electrode made of a substrate with a transparent conductive film, a counter electrode made of a substrate with a conductive film, and an electrochromic composition is characterized in that the conductive film of the transparent electrode is patterned by a laser.例文帳に追加

少なくとも透明導電膜付き基板からなる表示電極と導電膜付き基板からなる対向電極、エレクトロクロミック組成物を有するエレクトロクロミック表示素子において、該透明電極の導電膜がレーザーによりパターニングされて成ることを特徴とするエレクトロクロミック表示素子。 - 特許庁

To provide a photocurable composition having satisfactory interlayer conductivity in a black layer of a black and white two-layer bus electrode without spoiling satisfactory blackness for enhancing the contrast of a screen, and capable of ensuring satifactory insulation between display electrodes in a black patterned layer.例文帳に追加

画面のコントラスト向上のための充分な黒さを損なうことなく白黒二層バス電極の黒層においては充分な層間導電性を有し、かつブラックパターン層においては表示電極間の充分な絶縁性を確保しうる光硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

In addition, the device includes a generation source 1202 and a lens for generating incident beam focused on a plurality of arrays, as well as a circuit for controlling the pixels in each array so that a pixel portion selectively reflects the incident beam, to form a patterned beam.例文帳に追加

加えて、この装置は、複数の配列上に合焦させる入射ビームを生成するための発生源１２０２およびレンズと、パターン化ビームを形成するために、画素部分が入射ビームを選択的に反射するように各配列の画素素子を制御するための回路と、を含む。 - 特許庁

To provide a simplified method of producing marble-patterned multicolor moldings made of thermoplastic resin, provide a specific resin pellet material to be used in this molding and provide a resin molded product having beautiful and bright color marble patterns as a result.例文帳に追加

熱可塑性樹脂製のマーブル模様、多色成形品を製造するための方法を簡易化すること、その方法に使用するための特別な樹脂ペレット原料を提供すること、その結果として美しい色鮮やかなマーブル模様を呈する樹脂成形品を提供すること。 - 特許庁

A resin film forming process has a process for forming an optical element 2 having a mounting surface 27 on the upper surface on the substrate 30 and a process in which after a sacrifice film 42 and the resin film 43 are formed in turn on a resin film forming substrate 40, the formed resin film 43 is patterned.例文帳に追加

樹脂膜の形成工程は、上面に取り付け面２７を有する光学素子２を基板３０の上に形成する工程と、樹脂膜形成基板４０の上に犠牲膜４２及び樹脂膜４３を順次形成した後、形成した樹脂膜４３をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

A temperature sensor TS includes a conductive thin film P patterned by an ink jet method on an insulating thin film M formed on the surface of an outer ring 11 taken as a component of a bearing 10, which can accurately and responsively measure a temperature of the bearing by the conductive thin film P.例文帳に追加

温度センサＴＳは、軸受１０の構成部品である外輪１１の表面に形成された絶縁性薄膜Ｍ上に、インクジェット方式によりパターニングされた導電性薄膜Ｐを有するので、かかる導電性薄膜Ｐにより精度良く且つレスポンス良く軸受の温度を測定できる。 - 特許庁

Titanium nitride film (third TiN film 13) is formed in a covering state of the sacrificial layer pattern made of the second HCD-SiN film 9, and the film is patterned, thereby forming an oscillating beam (structure pattern) 13a of which end is supported on the substrate surface across the sacrificial layer pattern.例文帳に追加

第２ＨＣＤ−ＳｉＮ膜９からなる犠牲層パターンを覆う状態で窒化チタン膜（第３ＴｉＮ膜１３）を成膜し、これをパターニングすることによって犠牲層パターンを跨いでその下地面上に端部が支持された振動ビーム（構造体パターン）１３ａを形成する。 - 特許庁

In the case of a negative or positive photoresist layer patterned by a conventional lithography technique, a photoresist layer in an interface region with a semiconductor substrate is overheated to a temperature higher than its fusing temperature in a short time in order to fusedly bond a photoresist layer at an interface to a layer located therebelow on the semiconductor substrate.例文帳に追加

従来のリソグラフィー技術を用いてパターンされたネガもしくはポジフォトレジスト層の場合、界面のフォトレジスト層を、その下に位置する層と、半導体基板において溶着するために、半導体基板との界面領域のフォトレジスト層は、短期的に、溶解温度より高い温度で過熱される。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device in which a floating gate electrode itself is patterned easily, in addition, patterning performance is improved and yield in wiring is not degraded, even in patterning of an upper layer such as a subsequently formed control gate electrode; and a method for fabricating the device.例文帳に追加

フローティングゲート電極そのもののパターニングを容易にすると共に、その後に形成されるコントロールゲート電極など上層のパターニングにおいても、パターニング性能の向上及び配線歩留まりの低下を防ぐことができる半導体記憶装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the waveguide type optical device by which the core layer consisting of a polymer is patterned by dry etching to form the optical waveguide is characterized in that first, second and third etching gases used in respective steps have compositions respectively different from each other.例文帳に追加

ポリマーからなるコア層を、ドライエッチングによってパターニングし光導波路とする導波路型光デバイスの製造方法であって、各工程に用いられる第１、第２、及び第３のエッチングガスが、それぞれ異なる組成であることを特徴とする導波路型光デバイスの製造方法である。 - 特許庁

This detector is produced by adhering an active matrix substrate 1 equipped with a charge accumulating capacity 4 and TFT 5 with an opposite substrate 2 comprising a semiconductor substrate via a connecting material (photosensitive resin 3) having conductivity and adhesiveness which is patterned corresponding to a pixel electrode of the charge accumulating capacity 4.例文帳に追加

電荷蓄積容量４およびＴＦＴ５を具備したアクティブマトリクス基板１と、半導体基板を備えた対向基板２とを、電荷蓄積容量４の画素電極に対応させてパターニングされた導電性および接着性を有する接続材（感光性樹脂３）を用いて接着する。 - 特許庁

A self-organizing monomolecular film (SAM) 12 is patterned on a glass substrate 14 by a micro-contact printing method, and then, silver nanoparticles 24 are deposited locally on a pattern substrate 16 by a silver mirror reaction, wherein a dispersant is added to a solution containing silver complex ions, to thereby produce a SERS substrate 18.例文帳に追加

マイクロコンタクトプリント法により自己組織化単分子膜（ＳＡＭ）（１２）をガラス基板１４上にパターニングした後、銀の錯イオンを含む溶液に分散剤を加えた銀鏡反応によりパターン基板１６上に銀ナノ粒子２４を局所的に析出させて、ＳＥＲＳ基板１８を作成する。 - 特許庁

A method for manufacturing a patterned body is provided, which includes: a preparation step of preparing a substrate 10, having a photoresist layer 20 that allows a shape change in a heat mode on the surface; and an exposure step of irradiating the photoresist layer 20, with a laser beam to partially remove the photoresist layer 20.例文帳に追加

表面にヒートモードによる形状変化が可能なフォトレジスト層２０を有する基板１０を用意する準備工程と、フォトレジスト層２０にレーザ光を照射してフォトレジスト層２０の一部を除去する露光工程と、を有するパターン形成体の製造方法である。 - 特許庁

An electron beam transfer device is provided with an illumination optical system to sequentially illuminate each small area on a reticle 10 with the electron beam, and a projection optical system to sequentially project and form an image of the electron beam patterned through each small area at the position on a wafer 14.例文帳に追加

本電子線転写装置は、レチクル１０上の各小領域を電子ビームで順次照明する照明光学系と、該小領域を通過してパターン化された電子ビームをウエハ１４上のしかるべき位置に順次投影結像させる投影光学系を備える。 - 特許庁

Next, the conditioning gate layer, the conditioning oxide film layer, the dot layer and the tunnel ring oxide film layer are patterned to predetermined profile, a double gate having a tunnel ring oxide film 112, a dot floating gate 114, a conditioning oxide film 116 and a conditioning gate 118 is formed.例文帳に追加

次に、前記調節ゲート層、前記調節酸化膜層、前記ドット層及び前記トンネルリング酸化膜層を所定形状にパターニングしてトンネルリング酸化膜１１２、ドットフローティングゲート１１４、調節酸化膜１１６及び調節ゲート１１８を備える二重ゲートを形成する。 - 特許庁

To provide a powder coating composition which is adaptable to any powder coating material, can be produced easily at a low cost without changing the production process, and can form a satin-like uneven-patterned coating film with high design properties expressed by a homogeneous, compact, and fine pattern.例文帳に追加

任意の粉体塗料に適用可能で、製造工程を何ら変更する事無く容易且つ安価に粉体塗料を得ることができ、均一かつ緻密で微細な模様で表現される、意匠性の高いサテン調の凹凸模様塗膜を形成する粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁

A discharge printing agent is sprayed or applied from one surface of a colored web having 35-65% moisture content on a papermaking process and the discharge printing agent is then made to migrate in the Z-axis direction by steam heat applied in the subsequent drying step to thereby produce a patterned paper having the same front and back sides.例文帳に追加

抄紙工程上の水分が３５％〜６５％の着色ウェブに抜染剤を片面より噴霧、または塗布し、その後の乾燥工程で加えられる蒸熱によってその抜染剤がＺ軸方向にマイグレーションすることによって表裏同一なる模様紙が得られた。 - 特許庁

A cover layer is formed on a temporary substrate having a flat surface, a patterned recording layer is formed on the cover layer, a reinforcing layer is formed on the recording layer, a main substrate is bonded onto the reinforcing layer and the temporary substrate is removed after the main substrate is bonded onto the reinforcing layer.例文帳に追加

表面が平坦な仮基板上にカバー層を形成し、カバー層上にパターン化された記録層を形成し、記録層上に補強層を形成し、補強層上に本基板を接合し、本基板を補強層上に接合後に仮基板を除去するように構成する。 - 特許庁

The glass product coloring apparatus includes a rotating device 1 which holds a glass product 30 having sculpturally-patterned recessed portions formed in the bottom part and rotates the glass product 30 around the axis, and a coloring liquid feeding device 2 which sprays a luster liquid for coloring on the recessed portions of the glass product 30.例文帳に追加

底部に彫刻模様調の凹み部が形成されたガラス製品３０を保持するとともに、このガラス製品３０を軸中心に回転する回転装置１と、前記ガラス製品３０の凹み部に向け着色用のラスター液を噴射する着色液供給装置２を設けた。 - 特許庁

There is provided: a method comprising conducting lithography to form a first pattern on a substrate, and conducting block-copolymer self-assembly to form a second pattern on the substrate; a patterned substrate template; and a method comprising a combination of lithography and self-assembly techniques.例文帳に追加

リソグラフィを行ない、基板上に第１のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第２のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。 - 特許庁

In the array antenna apparatus provided with antenna elements 21A, 21B and a feeder line 10 which are patterned on an upper substrate 1 and a lower substrate 2, a no-power-supply element 32 is formed so as to be disposed on a position of less than 1/2 wavelength from respective antenna elements 21A, 21B.例文帳に追加

上層基板１及び下層基板２上にパターン化されたアンテナ素子２１Ａ，２１Ｂと給電線路１０とを備えたアレーアンテナ装置において、各アンテナ素子２１Ａ，２１Ｂに対して、２分の１波長未満の位置に位置するように無給電素子３２を備える。 - 特許庁

The patterned optical waveguide is composed of a lower clad layer, a core portion, and an upper clad layer, and either one of them is formed of a silica-based compound, and the waveguide is characterized by the fact that the surface roughness (Ra) in the forwarding direction of light in the core portion is 0.4 μm or smaller.例文帳に追加

下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか１層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路であって、コア部分の光の進行方向の表面粗さ（Ra）が０．４μｍ以下であることを特徴とする光導波路。 - 特許庁

This CPU 100 reads a BOOT setting value from a BOOT setting ROM 20 or a non-volatile memory 11 in which the BOOT setting values to be used for BOOT processing at the activation are patterned and stored for every device based on a value stored in a BOOT setting switch.例文帳に追加

ＣＰＵ１００は、ＢＯＯＴ設定スイッチに記憶されている値に基づいて、ＢＯＯＴ設定用ＲＯＭ２０または起動時のＢＯＯＴ処理で使用するＢＯＯＴ設定値をデバイス毎にパターン分けして記憶する不揮発性メモリ１１からＢＯＯＴ設定値を読み出す。 - 特許庁

The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm.例文帳に追加

非晶質シリコン膜１２ａは、フォトリソグラフィ処理でＷａの３倍の幅寸法４５ｎｍでパターニングされるが、スリミング技術で３０ｎｍに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜１５に変質させ、これによって寸法がＷａである１５ｎｍに形成される。 - 特許庁

A conductive layer 40 patterned next to the dielectric film 10 includes a plurality of conductive struts 41 which extend through the one or more through holes 11 aligned with the contact pads 22 and 23 and electrically connect the conductive layer 40 to the contact pads 22 and 23.例文帳に追加

誘電体膜１０に隣接するパターン形成された導電層４０は、コンタクトパッド２２および２３と揃えられた１つまたは複数のスルーホール１１を通して延び、導電層４０をコンタクトパッド２２および２３に電気的に結合する１つまたは複数の導電性支柱４１を持つ。 - 特許庁

The VCM includes a set of magnetic sensing elements; a lens carrier physically connected to the set of magnetic sensing elements for placing a lens; a pedestal; a set of printed circuit boards (PCB) fixed onto the pedestal; and a flat coil formed on a patterned metal layer on the set of PCB so as to face the magnetic sensing elements.例文帳に追加

ＶＣＭは、一組の感磁素子と、一組の感磁素子に剛結合され、レンズを載置するレンズキャリアと、台座と、台座に固設される一組のプリント回路基板（ＰＣＢ）と、一組のＰＣＢにあるパターン化金属層において、感磁素子に対向するように形成されるフラットコイルとを含む。 - 特許庁

Additionally, a patterned metallic layer 74 is formed on a dielectric cap layer 70 and at the inside of a through hole 72 to complete the interconnection structure.例文帳に追加

各々のサブモジュールは、上面上に設けられた部品接続パッドを有する少なくとも１個の電子部品と、該上面に結合されて部品接続パッドの特定のもの同士を相互接続する、少なくとも１つの相互接続層を有する第１の相互接続構造物とを含んでいる。 - 特許庁

Since the temperature dependence of the etching rate of hydrofluoric acid in vapor- phase etching is extremely high, the gate insulating film formed on the wafer W can be well patterned by selectively removing the film without significantly damaging the silicon oxide film and polysilicon film by appropriately adjusting the temperature of the wafer W.例文帳に追加

ふっ酸の気相エッチングにおけるエッチングレートは、温度依存性が極めて高いので、ウエハＷの温度を適切に調整することによって、酸化シリコン膜およびポリシリコン膜に大きな損傷を与えることなく、ウエハＷ上のゲート絶縁膜を良好に選択除去してパターニングできる。 - 特許庁

In the luminaire, an irradiated surface is arranged to face an LED chip group capable of exciting a fluorescent substance, the irradiated surface is patterned by the fluorescent substance to have an artistic or advertising function, and it is excited by the LED to emit light as a direct light source.例文帳に追加

蛍光物質を励起できるＬＥＤチップ群に、対峙するよう設けられた被照射面を配置し、当該被照射面を、蛍光物質にて、芸術的あるいは宣伝機能を持たせた模様形状とし、これをＬＥＤにて励起発光させて、直接的な光源とした照明装置とする。 - 特許庁

Thereafter, the SiO_2 film is etched (S9), the exposed seed layer is reformed anisotropically in the film thickness direction (S10), and the reformed seed layer, the exposed barrier/adhesion layer, and the mask Al film are removed sequentially by etching (S10-S13) thus obtaining a patterned metal film.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_２膜をエッチング（Ｓ９）、露出したシード層をその膜厚方向に異方的に改質し（Ｓ１０）、改質されたシード層、露出したバリア・密着層、及びマスクＡｌ膜を順次エッチングにより除去することにより（Ｓ１０〜Ｓ１３）、パターン化金属膜を得る。 - 特許庁

This device is composed of a flexible wiring board 5, where a metal foil such as copper foil, is patterned to a flexible film-shaped insulation base 10 for forming a circuit conductor part 11, a terminal land part 12, or the like, and a terminal member 8 where one end is connected to the terminal land part 12.例文帳に追加

可撓性を有するフィルム状絶縁基材１０に銅箔等の金属箔をパターン化して回路導体部１１や端子ランド部１２等が形成されたフレキシブル配線基板５と、端子ランド部１２に対して一端部が接続された端子部材８とから構成される。 - 特許庁

Afterwards, a metal film is formed on the surface protecting film 7 including the inside of the opening 8, and the metal film is patterned, thereby forming an anode electrode 9a in contact with the p-type diffusion layer 6 and an outer peripheral electrode 9b in contact with the n-type epitaxial layer 2 exposed in the outer periphery of the chip.例文帳に追加

その後、開口部８の内部を含む表面保護膜７上にメタル膜を成膜し、メタル膜をパターニングすることによって、ｐ型拡散層６に接するアノード電極９ａおよびチップの外周部に露出したｎ型エピタキシャル層２に接する外周電極９ｂを形成する。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is applied on the interlayer insulation film 4 and the second conductor layer 7 by a spin coating method, the composition is dried and irradiated with light through a mask patterned so as to form a window 6C in a predetermined portion, and a pattern is formed by development with an alkaline aqueous solution.例文帳に追加

本発明によるポジ型感光性樹脂組成物をスピンコート法にて層間絶縁膜４及び第２導体層７上に塗布、乾燥し、所定部分に窓６Ｃを形成するパターンを描いたマスク上から光を照射した後、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成する。 - 特許庁

The high conductivity printed wiring board 1, having a hollow conductor structure, at least includes a copper foil pattern 4 that is patterned on the outer surface of an insulating substrate 2, a conductor coat 9 which covers the copper foil pattern 4, and a foam hollow layer 7 formed between the copper foil pattern 4 and the conductor coat 9.例文帳に追加

この高伝導化プリント基板１は、中空導体構造よりなり、絶縁基材２の外表面にパターニングされた銅箔パターン４と、銅箔パターン４を被覆する導体被膜９と、銅箔パターン４と導体被膜９間に形成された発泡中空層７とを、少なくとも有している。 - 特許庁

A different refractive index film is layered by (a) depositing an energy-sensitive insulating film on a substrate, (b) depositing a film having a 1st refractive index which is patterned by irradiation with patterning energy, and (c) depositing a film having a 2nd refractive index on the film having the 1st refractive index.例文帳に追加

（ａ）基板上にエネルギー感受性の絶縁膜を形成し；（ｂ）パターン化エネルギーの照射により、パターン化された第１の屈折率を有する膜を形成し；（ｃ）該第１の屈折率を有する膜上に、第２の屈折率を有する膜を形成することにより、異なる屈折率膜を積層する。 - 特許庁

The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

After a process in which matrix light-shielding layers, containing an ink repellant material, are formed on a transparent substrate, and a process in which an image-receiving layer is formed between the matrix light-shielding layers, a patterned coloring layer is formed on the image-receiving layer by the inkjet method.例文帳に追加

透明基板上に、撥インク性物質を含むマトリックス状遮光層を形成する工程後、前記マトリックス状遮光層の間に受像層を形成する工程を経て、前記受像層の上にインクジェット法によりパターン状着色層を形成することにより解決した。 - 特許庁

This designable powder coating composition characterized by containing crystalline polytetrafluoroethylene having an average particle diameter of 0.05 to 5 μm in an amount of 0.01 to 5 pts.wt. per 100 pts.wt. of a powder coating component, and the coating composition is used to form a texture- patterned coating film on an article to be coated.例文帳に追加

平均粒径が０．０５〜５μｍの結晶性ポリテトラフルオロエチレンを、粉体塗料成分１００質量部に対して０．０１〜５質量部含有することを特徴とする意匠性粉体塗料組成物、およびこの塗料を使用し、被塗物上にテクスチャー模様塗膜を形成する。 - 特許庁

To form the optical wave guide 9, the upper face of the element 1 is covered with a clad layer 91, a core layer 93 is formed on the clad layer, a core part 94 having a desired shape such that the core part 94 laps the light emitting part 101 of the element 1 in a planar view is patterned, and clad layer 97 is lapped on the core part 94.例文帳に追加

光導波路９の形成は、素子１の上面をクラッド層９１で覆い、その上にコア層９３を形成し、平面視で素子１の発光部１０１と重なるような所望形状のコア部９４をパターニングし、その上にクラッド層９７を重ねる。 - 特許庁

A gate electrode 105 is made on a substrate 101 and is covered with a spacer 107 and a thermal oxide film 109, and then a first interlayer insulating film 114 is made and flattened, and this is patterned and etched and it is filled with a embedding landing pad 117 of polysilicon thereby being flattened.例文帳に追加

基板１０１上にゲート電極１０５を形成してスペーサ１０７、熱酸化膜１０９で覆いこの後に第１層間絶縁膜１１４を形成して平坦化し、これをパターニングしてエッチングし、ポリシリコンの埋め込みランデングパット１１７を充填して平坦化する。 - 特許庁