patternedを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3853件
This cathode substrate of a carbon nanotube(CNT) field remission display includes a glass substrate, a cathode layer patterned on the glass substrate, and patterning a surface of the cathode layer as mutually separate electron emitting areas, and a plurality of CNT structures respectively grown on a plurality of electron emitting areas.例文帳に追加
本発明のカーボンナノチューブ(CNT)フィールドエミッション・ディスプレイのカソード基板が、ガラス基板と、ガラス基板上にパターニングされて、カソード層の表面が互いに離された電子放出領域としてパターニングされたカソード層と、複数の電子放出領域上にそれぞれ成長された複数のCNT構造とを含む。 - 特許庁
To provide a patterned medium which has narrow boundaries between the ferromagnetic domains and the antiferromagnetic domains and a steep transition from the ferromagnetism to the antiferromagnetism and vice versa, can make high density recording and magnetic separation between magnetic bits and also reduce the surface property degradation.例文帳に追加
強磁性領域及び反強磁性領域の境界が狭くかつ強磁性から反強磁性への変化あるいは反強磁性から強磁性への変化が急峻であり、高密度化及び磁気ビット間の磁気分離が可能であり、表面性の劣化を抑制することができるパターンド媒体を提供すること。 - 特許庁
The manufacturing method for the circuit board includes a process for forming the adhesive layer 33 to the conductor having at least one patterend surface and bonding the patterned conductor and the board, wherein the adhesive layer 33 contains (a) an organic solvent soluble polyimide, (b) an epoxy compound and (c) a curative agent.例文帳に追加
少なくとも片面がパターニングされた導電体に接着剤層を設け、パターニングされた導電体と基板とを貼り付ける工程を含む回路基板の製造方法であって、接着剤層が、(a)有機溶媒可溶性ポリイミド、(b)エポキシ化合物、(c)硬化剤を含有することを含む回路基板の製造方法。 - 特許庁
This method comprises a step of processing a first wafer with two faces and providing at least one semiconductor layer patterned and made plane, on at least one face of these two faces, and a step of connecting a second wafer of monocrystal silicon to the semiconductor layer on the first wafer.例文帳に追加
本方法は、2つの面を有する第1のウェーハを処理し、これらの2つの面の少なくとも一方の上に少なくとも1つのパターン化されて且つ平面化された半導体層を設けるステップと、単結晶シリコンの第2のウェーハを、第1のウェーハ上の半導体層に結合させるステップとを含む。 - 特許庁
After forming a conductive layer 12a composed of chromium film or chromium alloy film for a lower electrode on an insulating substrate 11, a resist layer 9 is formed on the conductive layer 12a (fig.(a)), then the conductive layer 12a is patterned by a wet etching process, thereby, the lower electrode 12 is formed (fig.(b)).例文帳に追加
絶縁性基板11上に下部電極用のクロム膜若しくはクロム合金膜からなる導電性層12aを成膜した後、導電性層12a上にレジスト層9を形成し(図1(a))、導電性層12aをウェットエッチング工程にてパターニングすることで下部電極12を形成する(図1(b))。 - 特許庁
The visible light irradiating system is provided with a light intensity distribution forming means which patterns the light intensity distribution of the plurality of visible-light laser beams emitted from the visible-light laser sources and an imaging optical system which images the light with light intensity distribution patterned by the light intensity distribution forming means in an irradiation region on the substrate to be treated.例文帳に追加
可視光照射系は、各可視光レーザー光源から発せられた複数の可視光レーザー光の光強度分布をパターンニングする光強度分布形成手段と、この光強度分布形成手段でパターンニングした光強度分布の光を被処理基板上の照射域に結像する結像光学系とを備える。 - 特許庁
To provide a mask holder for laser beam machining, which when a workpiece is irradiated with laser light patterned by a mask so as to perform machining, effectively cools the mask, simultaneously prevents the deformation of the mask, and is applicable even to the mask obtained by drilling transparent patterns in an opaque substrate, and to provide a laser beam machining device using the same.例文帳に追加
マスクによりパターン化したレーザー光を被加工物に照射して加工を行うに際し、マスクを有効に冷却すると同時に、マスクの変形を防止し、不透明基板に透光パターンを孔開け成形したマスクにも適用できるレーザー加工用マスクホルダー及びそれを用いたレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.例文帳に追加
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To lessen dispersion in etched dimensions in a base barrier metal layer by completing with one patterning of a resist into an etching mask when an aluminum alloy wiring layer not less than 3 μm in thickness deposited on the base barrier metal layer is patterned as desired in a semiconductor device manufacturing process.例文帳に追加
半導体装置の製造プロセスにおいて、下地バリアメタル層の上に、3μm以上の厚さのアルミニウム合金層が積層された積層配線層を所望のパターンに成形するにあたり、エッチングマスクとなるレジストのパターニングを1回で済ませ、下地バリアメタル層のエッチング寸法のばらつきを小さくすること。 - 特許庁
To provide a flat, thin film type diaphragm for a speaker and its manufacture in which the thickness of a conductive thin film, its pattern and impedance, and the heat resistant capacity can be set to desired values in a flat diaphragm in which a patterned thin film-like coil is formed on an insulation thin film.例文帳に追加
絶縁性薄膜上にパターン化された薄膜状のコイルを形成した平面振動板に於いて、導体薄膜の厚さと共にそのパターンとインピーダンス及び耐熱容量とを所望する形状に設定する事ができる、薄膜平面状のスピーカ用振動板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a coloring pigment masterbatch reduced in coloration loss more than that in the conventional, being capable of giving a patterned appearance of a low dispersion, and being capable of forming a composition giving a clearly pattern-colored molding when it is added in a small amount even to a molding material containing a filler injurious to coloration and to provide a method for producing the masterbatch.例文帳に追加
従来以上に着色ロスが少なく、バラツキの少ない模様外観が得られ、着色性を阻害するフィラーを含む成形材料に対しても、少量添加で、明瞭な模様着色の成形品を得ることができる着色顔料マスターバッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
Therefore, since the bubble-patterned display plate 58 with the recesses 64a and 64b of the same shapes formed at the same positions, is repeatedly produced, the plate having the same structure for expressing the predetermined mode of floating bubbles is allowed to be mass-produced, compared with a conventional method by which the bubbles are formed from an actual liquid.例文帳に追加
このため、同じ位置に同じ形状の凹部64a,64bを形成した気泡模様表示プレート58を繰り返し製造できるので、実際の液体により泡を形成していた従来方法に比して、気泡の立ち昇る一定の態様を表現し得る同じ構造のものを量産化することができる。 - 特許庁
To provide a manufacturing device of an electrooptical device having constitution in which a film to be processed can be patterned exactly into a desired shape by supplying liquid chemicals on the film to be processed so that film thickness of the liquid becomes uniform, without repelling the supplied liquid chemicals on the film to be processed.例文帳に追加
供給した薬液が処理対象膜上で弾かれることなく、薬液を処理対象膜上に液の膜厚が均一となるよう供給できることにより、処理対象膜を所望の形状に正確にパターニングすることができる構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。 - 特許庁
The thin film 2 is patterned by: forming the thin film 2 on a substrate 1 containing a sublimable coloring matter; irradiating the substrate 1 with light; subliming the sublimable color matter with heat generated by irradiation of light; and removing the thin film 2 corresponding to the region irradiated with the light.例文帳に追加
昇華性色素を含む基材1上に薄膜2を設け、基材1に対して光を照射し、光の照射によって生じる熱により所望領域の昇華性色素を昇華させることにより、光が照射された照射領域に対応する薄膜2を除去することにより、この薄膜2をパターニングする。 - 特許庁
The method of forming a conductor circuit is characterized in a silicon-containing polymer layer patterned is formed on an insulation layer by using a screen printer, and then, the formed layer is brought into contact with a solution of a transition metal salt or a suspension, thereby forming a transition metal layer on the silicon-containing polymer layer.例文帳に追加
スクリーン印刷装置を用いることにより、パターン化されたケイ素含有重合体の層を絶縁層上に形成した後、遷移金属塩の溶液あるいは懸濁液と接触させることにより、該ケイ素含有重合体層上に遷移金属層を形成することを特徴とする導体回路の形成方法。 - 特許庁
A metal is patterned on a substrate and vapor-deposited to form a gate electrode 12, and then the gate electrode 12 is directly oxidized at a normal temperature to 100°C in O_2 plasma process to grow a metal oxide film having a thickness of 10 nm or less, thereby the gate insulating film 13 is formed along the surface of the gate electrode.例文帳に追加
基板上に金属をパターニングし、蒸着してゲート電極12を形成した後、常温乃至100℃以下でO_2プラズマ工程によりゲート電極12を直接酸化して10nm以下の厚みで金属酸化膜を成長させることで、ゲート電極の表面に沿ってゲート絶縁膜13を形成する。 - 特許庁
The FRP decorative material 21 is preferably a laminate of a colored gelcoat-cured surface layer and a resin-impregnated/cured fibrous sheet reinforcing layer or a laminate of a surface layer of the cured surface layer of the colored and patterned bulk molding compound(BMC) and the resin-impregnated/cured fibrous sheet reinforcing layer.例文帳に追加
上記FRP化粧材21は、着色ゲルコートの硬化表面層と樹脂含浸硬化の繊維シート補強層との積層体からなるもの、或いは着色柄入りバルクモールディングコンパウンド(BMC)の硬化表面層と樹脂含浸硬化の繊維シート補強層との積層体からなるものが好ましい。 - 特許庁
In this manufacturing method, after forming the titanium nitride film 12 on a semiconductor substrate, provided with a contact hole 10 by using the organic metal raw material gas containing titanium and chlorine by the chemical vapor deposition method, the titanium nitride film 12 is patterned into a desired shape, and then a wiring composed of a conductive material is formed on the titanium nitride film 12.例文帳に追加
コンタクトホール10を含む半導体基板1上に、化学的気相成長法によりチタン及び塩素を含む有機金属原料ガスを使用して、窒化チタン膜12を成膜した後、同窒化チタン膜12を所望の形状にパターニングし、次に同窒化チタン膜12上に導電性材料からなる配線を形成する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for manufacturing with fine productivity a base material with a conductive layer pattern patterned to obtain the conductivity or electromagnetic wave shielding property using a transfer method, and to provide a manufacturing method for a base material with a conductive layer pattern which method hardly allows air bubbles to remain when a resin, etc., is overlaid on the conductive layer pattern of the base material.例文帳に追加
導電性又は電磁波シールド性を有するようにパターニングされた導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく、また、導体層パターン付き基材の導体層パターンの上に樹脂等を積層したときに気泡が残存しにくい導体層パターン付き基材の製造法を提供する。 - 特許庁
In signal processing means (transport controller 13) owned by communication control devices 10 and 20, the state transition of observation signal output from an observation device at real time is determined based on a state table in which the rhythm of life of a resident or the like is patterned to determine whether the state transition is abnormal or not.例文帳に追加
通信制御装置10,20が有する信号処理手段(トランスポートコントローラ13)において、居住者等の生活リズムをパターン化した状態テーブルに基づいて、観測装置からリアルタイムで出力される観測信号の状態遷移を判定して、状態遷移が異常であるか否かを判断する。 - 特許庁
To provide a method for inspecting a color filter for a liquid crystal display device, with which errors in detecting shape defects are reduced without sacrificing inspection efficiency in detecting the translucent patterned shape defects such as photo-spacers, alignment control protrusions and so on formed on the color filter by using a visual inspection device for the color filter.例文帳に追加
カラーフィルタ用の外観検査機を用いてカラーフィルタ上に形成されたフォトスペーサーや配向制御突起など半透明パターンの形状欠陥を検出する際に、検査の効率を犠牲にせず、形状欠陥の検出のエラーを減少させる液晶表示装置用カラーフィルタの検査方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To uniformly bring a pattern formed surface of a mold into pressure contact with the surface to be imprinted of a magnetic recording medium over the entire surfaces for forming a pattern shape which is uniform and has excellent reliability, in a process for performing patterning of a fine shape on a discrete track medium and a patterned medium using an imprint technique.例文帳に追加
インプリント技術を用いてディスクリートトラックメディアやパターンドメディアに微細な形状パターニングを行うプロセスにおいて、均一かつ信頼性に優れた形状パターンの形成を行うためには、モールドのパターン形成面と磁気記録媒体の被インプリント面とを全面に渡って均一に圧接することが必要である。 - 特許庁
In the step of forming the over-cladding layer, a photosensitive resin for forming the over-cladding layer is filled in the recess 21 of the mold M, and the photosensitive resin is exposed to light through the mold M and cured with a core which is patterned on the surface of an under-cladding layer immersed in the photosensitive resin.例文帳に追加
そして、オーバークラッド層を形成する際には、上記成形型Mの凹部21内に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を充填し、その感光性樹脂内に、アンダークラッド層の表面にパターン形成されたコアを浸した状態で、上記成形型Mを透して上記感光性樹脂を露光し硬化させる。 - 特許庁
A translucent film comprising a laminate film comprising two or more translucent films having transmissivity spectra different from each other with respect to the wavelength range of (i) rays to (g) rays of exposure light, and a light shield film which shields the exposure light are formed on a translucent substrate in this order, and the translucent film and light shield film are each patterned.例文帳に追加
透光性基板上に、露光光のi線〜g線の波長帯域に対する透過率スペクトルが互いに異なる2以上の半透光膜の積層膜からなる半透光膜と、露光光を遮光する遮光膜をこの順で有し、前記半透光膜と前記遮光膜にそれぞれパターニングが施される。 - 特許庁
To provide a magnetoresistive magnetic head made correspondent to narrow tracks and a method for manufacturing the magnetic head by which the level difference in the base is eliminated when the lead head track of the magnetoresistive magnetic head is formed, and degradation in the dielectric voltage due to overetching is prevented when the magnetoresistance film is patterned by etching.例文帳に追加
電極間隔を決定するためのホトレジストパターンを形成する時点で下地パターンの段差が大きいと、安定的な狭トラック形成が不可能となる事、磁気抵抗効果膜をエッチングでパターンニングする時のオーバーエッチングによって、下部絶縁膜の膜厚が薄くなり、絶縁耐圧が悪化する事。 - 特許庁
In an FPC substrate 400, copper foil bonded to both faces of a base film 410 having insulating property and flexibility without a bonding layer is patterned, an input wiring 420a and an output wiring 420b are formed on the mounting face of an electronic part and a dummy wiring layer 422 on a face opposite to the mounting face.例文帳に追加
FPC基板400は、絶縁性および可撓性を有するベースフィルム410の両面に接着層なしで接合された銅箔をパターニングして、電子部品の実装面に入力配線420aおよび出力配線420bを、実装面とは反対側の面にダミー配線層422を、それぞれ形成したものである。 - 特許庁
The lithographic apparatus further comprises: a substrate table WT for holding a substrate W; a projection system PL for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate W; and a condenser which is structured to transmit a radiation R, received from a first radiation source SO, to the illumination system IL.例文帳に追加
この装置は、基板Wを保持するための基板テーブルWTと、パターンの形成されたビームを基板Wのターゲット部分に投影するための投影装置PLと、第1の放射源SOから受け取った放射Rを照明装置ILへ送るように構成された集光器Kとをさらに有する。 - 特許庁
When a resist layer is patterned in a prescribed shape by selective exposure with X-rays, vacuum UV, extreme-ultraviolet radiation or soft X-rays, a high molecular material obtained by extending the π electron system of an aromatic ring in an aromatic ring-containing existing resist material is used as a high molecular material constituting the resist layer.例文帳に追加
X線、真空紫外線、極紫外線、軟X線のいずれかでレジスト層を選択的に露光して所定の形状にパターニングするに際し、レジスト層を構成する高分子材料として、芳香族環を含む既存レジスト材料における芳香族環のπ電子系をより拡張した高分子材料を用いる。 - 特許庁
To provide a system and a method utilizing a dynamic optical system which is adjustable, possibly automatically adjustable in response to measured or detected characteristics of an illumination beam and/or patterned beam, wherein the system and method do not affect throughput during correction and/or do not disturb other optical characteristics.例文帳に追加
補正中のスループットに影響を及ぼさない、および/または、他の光学的な特性を妨害しない、照明ビームおよび/またはパターニングビームの測定または検出された特性に応じて、調節可能、ことによると自動的に調節可能な動的な光学系を使用するシステムと方法を提供する。 - 特許庁
In a flow field 38 in which one wall of a flow passage 36 in a flow field plate of a solid oxide fuel cell is formed, the flow field includes a flat substrate 40 having a patterned array of flow barriers 52, 64, 66 having different shapes, and the flow barrier is protruded to the inside the flow passage from the substrate.例文帳に追加
固体酸化物燃料電池の流れフィールドプレートにある流路36の一方の壁を形成する流れフィールド38において、流れフィールドは、形状の異なる流れ障壁52、64、66のパターン化アレイを有する平坦な基板40を含み、流れ障壁は、基板から流路の内部へ突出する。 - 特許庁
In a plasma nitride silicon film forming step, a plasma nitride silicon film (plasma SiN film 22) is formed on a wiring layer 19, which is a patterned metal layer located above a photodiode 12, by a plasma CVD method for setting RF power representing plasma generation energy, set on a device side, to be 700-1,500 W.例文帳に追加
フォトダイオード12の上方で、パターニングされた金属層である配線層19上に、装置側で設定するプラズマ発生エネルギーを示すRFパワーを700W〜1500Wに設定するプラズマCVD法によりプラズマ窒化シリコン膜(プラズマSiN膜22)を成膜するプラズマ窒化シリコン膜成膜工程を有している。 - 特許庁
The filtering part 5 operates patterned N tap horizontal filter processing to a decoded video signal 102 decoded by the decoding part 1, and a D/A converter 6 in the poststage operates digital/analog conversion, and an analog part 7 in the final stage outputs an output video signal 103 after an analog processing process.例文帳に追加
フィルタリング部5は復号化部1にて復号処理された復号化映像信号102を、パターン化されているNタップの水平フィルタ処理を行い、後段のD/A変換部6にてディジタル→アナログ変換を行い、最終段のアナログ部7にてアナログ処理過程を経て、出力映像信号103を出力する。 - 特許庁
This lithography projection apparatus has an operation cycle including: a projection phase where the projection system projects a patterned beam on a target part of a substrate and the reticle stage 25 supports the patterning means 1; and an exchange phase where the patterning means is exchanged and the connection system positions the patterning means against the reticle stage.例文帳に追加
このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁
The indicating element indicating a specified shape is composed of an organic electroluminescence element formed by laminating a transparent anode, an organic EL compound layer, a cathode buffer layer patterned in approximately the same shape as a specified shape, and a cathode on a transparent insulating substrate in the order.例文帳に追加
所定形状を表示する表示素子であって、透明絶縁基板上に、透明陽極と、有機EL化合物層と、該所定形状と略同一形状にパターニングされた陰極バッファー層と、陰極とがこの順序で積層された有機エレクトロルミネッセンス素子からなることを特徴とする表示素子。 - 特許庁
An optical device 10 on which a dielectric layer that is patterned and etched to form dielectric strips 14 is deposited on its surface and another semiconductor layer 16 is grown on a first semiconductor layer 12 between the dielectric strips 14 resulting in alternating dielectric sections 14 and semiconductor sections, is provided.例文帳に追加
誘電体層を表面上に付着し、これにパターン化及びエッチングを施して誘電体ストリップ14を形成し、別の半導体層16を第1半導体層12上で誘電体ストリップ14間で成長させ、誘電体区分14及び半導体区分を交互に有する光学装置10。 - 特許庁
As a result, not only a patterned photo resist film 34 but also the slope 16a function as a mask for an ion implantation, the n-type impurity ion is not implanted into the slope 16a but implanted into a bottom face 15 and each slope 16b to 16d to form high concentration n-type impurity regions 18, 20.例文帳に追加
すると、パターニングしたフォトレジスト膜34だけでなく斜面16aについてもイオン注入用マスクとして機能し、斜面16aにはN形不純物イオンが注入されず、底面15および各斜面16b〜16dにN形不純物イオンが注入され、高濃度N形不純物領域18,20が形成される。 - 特許庁
A p-type source/drain layer 37 is allowed to remain only at a p-type TFT region 12p by the reactive thermal CVD method via an etching stopper layer 35a, in a shape of the gate electrode 32 of a p-type TFT region 12n and a p-type TFT region 12p, and further the active layer 34 is patterned into an island shape.例文帳に追加
n型TFT領域12nと、p型TFT領域12pのゲート電極32の形状のエッチングストッパ層35aを介して、反応性熱CVD法によって成膜したp型ソース・ドレイン層37をp型TFT領域12pのみに残し、さらに活性層34を島状にパターニングする。 - 特許庁
In the liquid crystal display, a planarization layer covering pigment dispersion layers 14-R, 14-G, 14-B which are laminated and patterned for each of primary colors R, G, B(red, green, blue) separately and block matrices 13 is provided, and thereon a number of columnar spacer protrusions 11 having uniform dimension of protrusion and distribution are constructed with resin coating and patterning.例文帳に追加
R,G,Bの各原色について別個に積層、パターニングされる顔料分散層14−R,14−G,14−B、及びブラックマトリクス13を覆う平滑化層16を設け、この上に、樹脂の塗布及びパターニングによって、突出寸法及び分布の均一な多数の柱状スペーサ突起11を設ける。 - 特許庁
In order to enable the multidirectional switching by an optical waveguide device, an optical waveguide layer formed of, specially, a piezoelectric thin film 2 is so patterned and arranged as to dispose a plurality of branch parts, and the refractive index of an optical transmission medium is varied by using acoustooptic effect, etc., to perform the switching.例文帳に追加
光導波路装置において多方向のスイッチングを可能にするもので、特に、圧電性薄膜2からなる光導波路層を複数の分岐箇所を持つようにパターニングして配設しておくようにし、音響光学効果などを利用して、光伝送媒体の屈折率を変化させ、スイッチングを行うようにしている。 - 特許庁
To provide a transparent conductive laminate film having excellent visibility and hardly emphasized patterning since the difference of optical characteristics between a part where a transparent conductive thin film is present and a part where the transparent conductive thin film is not present when the transparent conductive film is patterned, in an electrode film used for an electrostatic capacitance type touch panel or the like.例文帳に追加
静電容量式タッチパネル等に使用される電極フィルムにおいて、透明導電性薄膜がパターニングされた際に、透明導電性薄膜の有る部分と無い部分での光学特性の差が小さいため、視認性に優れ、かつパターニングが強調されにくい透明導電性フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition capable of ensuring adequate shape follow-up properties and peelability when a cured product layer is formed on a patterned surface resin layer of a circuit-formed substrate equipped with the surface resin layer, to provide a photosensitive element using the same, and to provide a method for manufacturing a printed wiring board using these.例文帳に追加
パターニングされた表面樹脂層を備える回路形成済基板の表面樹脂層上に硬化物層を形成させる際に、十分な形状追従性及びはく離性を得ることが可能な感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント及びこれらを用いたプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for forming a patterned face provides an innovative design with a cool and natural taste and suppressed in roughness and shading feeling by rolling a fibrous roller having a fibrous layer with a thickness of 10 mm or thinner while pushing the fibrous roller to a designed coating material surface containing aggregate.例文帳に追加
本発明の模様面の形成方法は、骨材を含む意匠性塗材表面に対し、繊維質層の厚さが10mm以下である繊維質ローラーを押し当てて転動させることにより、凹凸感、陰影感が抑制された、落ち着きのある自然の風合いを有する新たな意匠を得ることができるものである。 - 特許庁
The optical waveguide is characterized by the fact that the compressive elasticity (E) of at least one of the lower clad layer, the core part, and the upper clad layer is 2 GPa or larger in a patterned optical waveguide which is composed of the lower clad layer, the core part, and the upper clad layer and either one of the layers is formed of a silica-based compound.例文帳に追加
下部クラッド層、コア部分、上部クラッド層から構成され、それらのいずれか1層がシリカ系化合物から形成されるパターン化された光導波路において、下部クラッド層、コア部分および上部クラッド層の少なくとも1つが圧縮弾性率(E)が2GPa以上であることを特徴とする光導波路。 - 特許庁
A network server 20 of this sales promotion system predetermines purchase patterns wherein purchase actions are patterned by a purchase pattern determining means 23, an individual as a consumer takes an action to purchase according to one of the purchase pattern, and a stage decision means 25 decides in which stage the action is.例文帳に追加
販売促進システムのネットワークサーバ20では、購買行動をパターン化した複数の購入パターンを購入パターン決定手段23で予め決定しておき、消費者である個人がいずれの購入パターンに沿って購買行動を行い、しかもどの段階にあるのかを段階判定手段25で判断する。 - 特許庁
A hole injection layer 7, an α-NPD vapor deposited film 8, an n-doped electron transportation layer 11 and a p-doped hole transportation layer 12 which are patterned to the same size as a B sub-pixel, a DNA vapor deposited film 13, an electron injection layer 14 and an upper electrode 15 are formed on a lower electrode 5 in the B sub-pixel.例文帳に追加
Bサブ画素において、下部電極5の上に、正孔注入層7、α−NPD蒸着膜8、Bサブ画素と同等のサイズにパターニングしたnドープ電子輸送層11及びpドープ正孔輸送層12、DNA蒸着膜13、電子注入層14、上部電極15を形成する。 - 特許庁
The manufacturing method of an organic electroluminescent light emitting device includes a process in which an organic EL element, a color conversion layer by a vapor depositing method and a barrier layer are formed on a supporting body, and a patterned high refractive index layer is formed on the barrier layer by a dry etching with the barrier layer as an etching-stop layer and is stuck to a color filter.例文帳に追加
支持体上に、有機EL素子、蒸着法による色変換層、およびバリア層を形成し、バリア層をエッチストップ層とするドライエッチングにより、バリア層上にパターン化高屈折率層を形成し、カラーフィルタと貼り合わせることを特徴とする有機EL発光装置の製造方法。 - 特許庁
A recording layer of a patterned medium is made by laminating a first magnetic recording layer 10d with a large coercivity, and a second magnetic recording layer 10e with a small coercivity in order on a substrate 10a and shortening the side in the radial direction of the second magnetic recording layer 10e than the side in the radial direction of the first magnetic recording layer 10d.例文帳に追加
パターンドメディアの記録層を、保磁力の大きい第1磁性記録層10dと、保磁力の小さい第2磁性記録層10eとを基板10a上に順に積層するとともに、第2磁性記録層10eの半径方向の辺を、第1磁性記録層10dの半径方向の辺よりも短い形状にする。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of an article with a patterned defogging effect to afford high-design characters, by virtue of temperature and moisture changes, to glass or transparent plastic for a window or a shop window, an inward viewable see-through article such as a show case or a glass tumbler, or a reflexible article of high surface brightness such as a mirror and the like.例文帳に追加
窓やショーウインドウ等に用いられるガラスや透明プラスチック、ショーケースやガラスコップ等の内部が透視できる透視性物品或いは鏡その他表面輝度の高い反射性物品に、温湿度の変化を利用して高い意匠性を付与し得るパターン状に防曇効果を有する物品の製造方法を提供する。 - 特許庁
An apparatus for manufacturing a patterned panel 1 is provided wherein a plurality of irregular engaging parts 31 provided around a shuttering 12 comprising the form body and a plurality of irregular engaging parts 32 provided around fitting frame 21 allowed to fit to the shuttering 12 of a mold- releasing apparatus 20 can be engaged with or released from each other.例文帳に追加
模様付パネル1の製造装置において、型体10を構成する型枠12の周囲に設けた複数の凹凸係合部31と、脱型装置20の上記型枠12に嵌合せしめられる嵌合枠21の周囲に設けた複数の凹凸係合部32とを互いに係脱可能としてなるもの。 - 特許庁
A polysilicon film is formed on the entire surface, and then is patterned with a resist film as a mask, to form a common contact section 11A stretched over the adjacent first gate electrodes 4 in a source and drain formation region, and a second gate electrode 11B on the second gate oxide film 9.例文帳に追加
全面に形成したポリシリコン膜をレジスト膜をマスクにパターニングして、前記絶縁膜を介して隣り合う第1のゲート電極4に跨り、かつソース・ドレイン形成領域上にコンタクトする共通コンタクト部11Aを形成すると共に、前記第2のゲート酸化膜9上に第2のゲート電極11Bを形成する。 - 特許庁
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