「patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

This connection structure of a printed circuit board 400 equipped with a patterned grounding contact is configured of a grounding contact by forming a grounding pattern by patterning one face of a printed circuit board 400, and directly soldering a shield wire 130 of a coaxial cable 100 exposed to the outside on the formed grounding pattern to form a shield wire soldering part 320.例文帳に追加

パターン化した接地部を備えた印刷回路基板４００の接続構造体は、印刷回路基板４００の一面にパターン化して接地パターンを形成し、形成された接地パターン上に外部に露出した同軸ケーブル１００のシールドワイヤ１３０を直接半田付けして、シールドワイヤ半田付け部３２０を形成することにより、接地部を構成する。 - 特許庁

After a sacrificial conductor layer CP is formed on a resin layer 15 provided on a base 11, a dry film resist layer R1 having an opening patterned according to the shape of a wiring pattern is formed, the part of the sacrificial conductor layer CP which is exposed from the opening is removed, then a groove 15a is formed at an exposed part of the resin layer 15.例文帳に追加

ベース基材１１上に設けられた樹脂層１５上に犠牲導体層ＣＰを形成後、配線パターンの形状に応じてパターニングされた開口部を有するドライフィルムレジスト層Ｒ１を形成し、上記開口部から露出している犠牲導体層ＣＰの部分を除去後、樹脂層１５の露出している部分に溝１５ａを形成する。 - 特許庁

Since the heaters 15 are formed on the insulating base layer 14 formed on the back of the solid electrolyte substrate 11 by patterning using insulating paste, the heat conductivity to the solid electrolyte substrate 11 from the heaters 15 is enhanced as compared with a conventional example wherein the heaters are patterned on separate substrates and the number of members or manufacturing processes is also reduced.例文帳に追加

固体電解質基板１１の裏面に形成された絶縁性ペーストによる絶縁基層１４上にヒータ１５がパターニング形成されているため、ヒータが別途のヒータ基板上にパターニングされている従来例に較べ、ヒータ１５から固体電解質基板１１への熱伝導性が向上し、しかも、部材や製造工程も削減される。 - 特許庁

Next, after a polysilicon film is deposited over the silicon oxide film 13a; silicon acid nitride film 13b, the polysilicon film, silicon oxide film 13a, and silicon acid nitride film 13b are patterned to form a gate insulating film 13x consisting of silicon oxide film to an nMISFET, and to form a gate insulating film 13y consisting of silicon acid nitride film to a pMISFET.例文帳に追加

次に、シリコン酸化膜１３ａ，シリコン酸窒化膜１３ｂの上にポリシリコン膜を堆積した後、ポリシリコン膜，シリコン酸化膜１３ａ及びシリコン酸窒化膜１３ｂをパターニングして、ｎＭＩＳＦＥＴにはシリコン酸化膜からなるゲート絶縁膜１３ｘを形成し、ｐＭＩＳＦＥＴにはシリコン酸窒化膜からなるゲート絶縁膜１３ｙを形成する。 - 特許庁

On the scale plate 10, the M serial group track 11 of a plurality of M serial units are continuously arranged, the light and dark track 12 constituted of reflecting incident light with a certain period, and the plurality of gray coded track 13-16 patterned with the reflection region so as to be a gray code corresponding to the M serial units M1-M8 are provided.例文帳に追加

スケール板１０に、Ｍ系列ユニットを複数ユニット連続配置してなるＭ系列群トラック１１と、一定周期で入射光を反射する明暗格子からなる明暗トラック１２と、Ｍ系列ユニットＭ１〜Ｍ８に対応したグレーコードとなるように反射領域がパターニングされた複数のグレーコードトラック１３〜１６とを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes steps of: forming a resist underlay film from the above composition for forming a resist underlay film on a substrate; forming a resist film thereon; forming a resist pattern by exposure and development; etching the underlay film through the resist pattern; and processing the semiconductor substrate through the patterned underlay film.例文帳に追加

基板にレジスト下層膜形成組成物によりレジスト下層膜を形成する工程、その上にレジスト膜を形成する工程、露光と現像によりレジストパタ−ンを形成する工程、レジストパタ−ンにより該下層膜をエッチングする工程、及びパタ−ン化された下層膜により半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The mask blank comprises a thin film formed on a substrate for forming a mask pattern, and a resist film formed above the thin film, and is characterized in that the patterned resist film is prevented from collapsing upon developing the resist film for patterning by inserting a deposition layer joined with the thin film and the resist film.例文帳に追加

基板上に成膜されたマスクパターンを形成するための薄膜と、この薄膜の上方に成膜されたレジスト膜を備えるマスクブランクであって、 前記薄膜と前記レジスト膜とに接合した付着層を介挿することにより、前記レジスト膜をパターン形成する際の現像に際し、パターン形成されたレジスト膜の倒れを防止することを特徴とする。 - 特許庁

When a recessed part formation area for shifter part formation is patterned, photoresist is applied on one surface of a substrate directly or via a metal film, the recessed part formation area of the photoresist is selectively exposed by a photorepeater, and further development processing is carried out to form a resist pattern having the recessed part formation area opened.例文帳に追加

シフター部形成用の掘り込み部形成領域のパタンニングの際、フォトレジストを、基板の一面上に、直接あるいは金属膜を介して塗布形成し、フォトリピータで、前記フォトレジストの掘り込み部形成領域を選択的に露光し、更に現像処理を施し、掘り込み部形成領域を開口したレジストパタンを形成するレジストパタン形成工程を有す。 - 特許庁

The transparent sealing structures each having a given structural ratio are obtained by bringing them together in a region between the patterned structure and the light-emitting elements while controlling the amount of glue in the transparent sealing structures, thereby sharply improving the light-emitting efficiency of the photoelectron device.例文帳に追加

前記パターン化構造は、前記透明密封構造を前記パターン化構造と前記発光素子との間の領域に結集させると同時に、前記透明密封構造におけるにかわの量を制御することにより、所定の構造比を有する透明密封構造を獲得し、前記光電子素子の発光効率を顕著に向上させることができる。 - 特許庁

The CSP semiconductor device 1 is patterned in a grid pattern by Cu posts 1h, each serving as a post-electrode connected via connection terminals and bumps formed on the mounting substrate to the bottom surface of a resin seal section 1k in which semiconductor chips are sealed, mounted at each of intersections of sets of equally spaced parallel lines perpendicular to each other.例文帳に追加

ＣＳＰの半導体装置１は、半導体チップが封止された樹脂封止部１ｋの底面に、実装基板に形成された接続端子とバンプを介在させて接続されるポスト電極であるＣｕポスト１ｈが、互いに直交する等間隔の平行線の各交点に設けられていることで格子状に配設されている。 - 特許庁

The lithography equipment used for pattern-forming a substrate comprises a lighting system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements for imparting the cross-section of the projection beam with a pattern, and a substrate table for supporting the substrate at the time of exposure operation, and a projection system projects the patterned beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

基板をパターン形成するために使用されるリソグラフィー装置において、放射の投影ビームを供給するための照明系と、投影ビームの断面にパターンを与えるための個別制御可能要素のアレイと、露光動作時に基板を支持するための基板テーブルとを具備し、投影系が、パターン形成されたビームを基板の標的部分の上に投影する。 - 特許庁

To provide a polysiloxane-based radiation-sensitive composition having high coating properties and patternability, giving a cured product having a high refractive index in addition to transparency and adhesion, and capable of exhibiting positive radiation-sensitive properties; and to provide a patterned cured film formed from the composition and a method for forming the same.例文帳に追加

高い塗布性及びパターニング性を有し、得られた硬化物が透明性及び密着性に加え、高屈折率を備え、かつ、ポジ型の感放射線特性を有することができるポリシロキサン系の感放射線性組成物、この組成物から形成されたパターニングされた硬化膜及びこれらの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The backplane (100, 200, 300, 400) for use in the electro-optic display includes a patterned metal foil having a plurality of apertures extending therethrough, coated on at least side with an insulating polymeric material (104, 106, 108) and having a plurality of thin film electronic elements (302, 402) provided on the insulating polymeric material (104, 106, 108).例文帳に追加

電気光学的ディスプレイ用のバックプレーン（１００，２００，３００，４００）は、パタン化金属箔を含み、この箔は、貫通して広がる複数の窓を有し、少なくとも側面を絶縁ポリマ材料（１０４，１０６，１０８）で被覆され、絶縁ポリマ材料（１０４，１０６，１０８）上に設けられた複数の薄膜電子素子（３０２，４０２）を有する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a preliminarily determined pattern such as a grating, comb-shaped and circular pattern can be formed in a single film forming process using a single mask under conventional various mask use environments such as high temperature, low temperature, vacuum and gas atmospheres, and to provide a patterned substrate prepared by the method, and a solar cell element using the substrate.例文帳に追加

従来の高温・低温・真空・ガス雰囲気中などの様々なマスク使用環境下で、格子状、櫛形、環状などの所定のパターンの成膜を、単独のマスクを用いて１回の成膜で行うことができるパターン形成方法、該方法によって作成されたパターン形成基板、及び該基板を用いた太陽電池素子の提供。 - 特許庁

In the patterned aluminum sheet, an aluminum substrate of a lower layer and an aluminum perforated sheet of an upper layer having opening parts consist of a clad sheet integrated by the clad rolling, and a pattern is formed over the entire surface of the clad sheet by providing an anodically oxidized film of different tone on the surface of the perforated sheet and the surface of the substrate exposed in the opening parts.例文帳に追加

下層のアルミニウム基板と開口部を備えた上層のアルミニウム開口板とがクラッド圧延により一体化されたクラッド板から成り、開口板の表面および開口部内に露出した基板の表面に、異なる色調の陽極酸化皮膜を備えたことにより、クラッド板の表面全体に模様が形成されている模様付アルミニウム板。 - 特許庁

When creating a loop drawing by combining loop drawing parts in the field of a process control system, partial loop control functions such as temperature control and pressure control are patterned to be preliminarily prepared as control parts for loop drawing parts as a symbol, and combined with the other parts, so that a loop drawing is created to generate a process control program in a much shorter time than a conventional manner.例文帳に追加

プロセス制御システムの分野でループ図パーツを組み合わせてループ図を作成するものにおいて、シンボルとしてのループ図パーツに、温度制御、圧力制御などの部分的ループ制御機能をパターン化して制御パーツとして予め用意しておき、他のパーツと組合せてループ図を作成し、従来のものより短時間でプロセス制御プログラムを生成する。 - 特許庁

A patterned Al layer 22 is formed on the surface of a silicon substrate 21 for manufacturing the orifice plate, and the silicon substrate 21 is subjected to dry etching while using an Al layer 22 as a mask, thereby forming a hole 21a serving as a recessed part disposed at the position corresponding to a discharge opening on the surface of the silicon substrate 21 and forming a groove-shaped cut line 21d.例文帳に追加

オリフィスプレートを作製するためのシリコン基板２１の表面に、パターニングされたＡｌ層２２を形成し、Ａｌ層２２をマスクとしてシリコン基板２１のドライエッチングを行うことで、シリコン基板２１の表面における吐出口に対応する位置に配置された、凹部としての穴２１ａ、および溝状の切断ライン２１ｄを形成する。 - 特許庁

The organic light-emitting element includes: a substrate; a first electrode layer regularly patterned on the substrate; a low-refraction conductive layer arranged on the first electrode layer and including a conductive material with a refractive index smaller than that of an organic layer; the organic layer arranged on the low-refraction conductive layer; and a second electrode layer formed on the organic layer.例文帳に追加

基板と、基板上に規則的にパターニングされた第１電極層と、前記第１電極層上に配置され、有機層よりも屈折率が小さい導電性物質を含む低屈折導電層と、前記低屈折導電層上に配置される有機層と、前記有機層上に形成される第２電極層と、を備える有機発光素子。 - 特許庁

The screen 20 which has the diffusion function of diffusing incident light and also includes a pattern 22b for coordinate recognition wherein coordinates on a surface 20a are patterned by the predetermined algorithm, includes a support base material 21 and the layer of the pattern 22 for the coordinate recognition, which is supported by the support base material 21 and includes the pattern 22b for the coordinate recognition.例文帳に追加

入射した光を拡散させる拡散機能を持つとともに、表面２０ａ上の座標が所定のアルゴリズムでパターン化された座標認識用パターン２２ｂを含むスクリーン２０は、支持用基材２１と、支持用基材２１により支持され、座標認識用パターン２２ｂを含む座標認識用パターン２２層とを備えている。 - 特許庁

To provide an organometal complex compound which is easily cured by ultraviolet rays (UV), can be patterned, is excellent in uniformity of a coated film when being converted to the coated film, and has a high resistance to etching using an etching gas such as argon gas; to provide a method for producing the organometal complex compound; and to provide a photocurable composition containing the organometal complex compound.例文帳に追加

紫外線（ＵＶ）により容易に硬化し、パターニングが可能であり、塗膜とした時に塗膜の均一性に優れ、アルゴンガスなどのエッチングガスを用いたエッチングに高い耐性を有する硬化物となる有機金属錯体化合物、該有機金属錯体化合物の製造方法および該有機金属錯体化合物を含む光硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrooptical device includes the steps of: forming the conductive layer (9) of the light-reflective conductive material; forming a protective film (19) on the conductive layer; forming resist (60) on the protective film and performing patterning of the resist; and etching the protective film and conductive layer using the patterned resist as a mask.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法は、光反射性を有する導電性材料から導電層（９）を形成する工程と、導電層上に保護膜（１９）を形成する工程と、保護膜上にレジスト（６０）を形成し、当該レジストをパターニングする工程と、パターニングされたレジストをマスクとして、保護膜及び導電層に対してエッチングを施す工程とを備える。 - 特許庁

The top of a film 11 to be etched is coated with a photosensitive material containing a base resin comprising a polyhydroxystyrene derivative- containing polymer and an onium salt compound-containing acid generating agent to form a photosensitive material film 12 and the film 12 is irradiated with KrF excimer laser to form a hole-patterned photosensitive material film 12.例文帳に追加

被エッチング膜１１の上に、ポリヒドロキシスチレン誘導体を含むポリマーからなるベース樹脂と、オニウム塩化合物を含む酸発生剤とを有する感光性材料を塗布して感光性材料膜１２を形成した後、感光性材料膜１２にＫｒＦエキシマレーザを照射して、ホールパターン化された感光性材料膜１２を形成する。 - 特許庁

A patterned film having a polymerized liquid crystal (LC) material includes at least two regions with different retardation and at least two regions with different orientation of the LC material, wherein the regions differing in retardation can also differ in retardation, or they can be different regions.例文帳に追加

重合液晶（ＬＣ）材料を有するパターニングフィルムであって、ＬＣ材料の異なるリターデーションを有する少なくとも２つの領域および異なる配向を有する少なくとも２つの領域を有し、リターデーションにおいて異なる前記領域が配向においても異なることができるか、あるいはそれらが異なる領域であることができるパターニングフィルム。 - 特許庁

To provide a coating applicator and a manufacturing method of an organic electronic element using this coating applicator which enables to maintain, in application while supporting and carrying on a back roll a support medium and the support medium on whose surface a film is patterned, their flatness by preventing fluctuate of the support medium in the application, and thereby, capable of performing formation of the coating film with stable uniformity.例文帳に追加

支持体及び表面にパターン化された膜を有する支持体をバックロールで支持、搬送しながらの塗布において、塗布時の支持体の揺れを防止し平面性を維持することができ、これにより、安定した均一の塗膜の形成を行うことができる塗布装置、及びこの塗布装置を用いた有機エレクトロニクス素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of etching a chromium layer comprises the steps of providing a substrate having a chromium layer partially exposed from a patterned carbon hard mask into a processing chamber; providing a process gas containing chlorine and carbon monoxide into an etching chamber; maintaining plasma of the process gas; and etching the chromium layer through the hard mask layer.例文帳に追加

クロム層をエッチングする方法は、パターン化された炭素ハードマスクから部分的に露出するクロム層を有する基板を処理チャンバ内に提供するステップと、塩素および一酸化炭素を含有するプロセスガスをエッチングチャンバの中に提供するステップと、プロセスガスのプラズマを維持するステップと、クロム層を炭素ハードマスク層を介してエッチングするステップとを含む。 - 特許庁

Consequently, a discrete track medium (DTM) and a patterned medium (PM), with which recording corresponding to the pattern formed with thermal imprinting is feasible, are manufactured without performing processes such as etching and ashing (that is, without preparing equipment for performing these processes), the magnetic disk with which high density recording is feasible is manufactured with simplicity and at a low cost.例文帳に追加

したがって、熱インプリントで形成されたパターンに応じた記録が可能なディスクリート・トラックメディア（ＤＴＭ）やパターンドメディア（ＰＭ）が、エッチングやアッシングなどの処理を行うことなく（すなわち、これらの処理を行うための設備を用意することなく）製造できるので、高密度記録が可能な磁気ディスクを簡易かつ低コストで製造することができる。 - 特許庁

By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.例文帳に追加

リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも２つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、２つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁

An upper part photoresist layer 18 which is relatively thin is patterned with an improved resolution and, next, an intermediate metal or a ceramic layer 16 is stipulated by using the upper part photoresist layer 18 as a reactive ion etching(RIE) mask and the lowermost thick photoresist layer 14 is stipulated in a second RIE process by using the intermediate layer as an etching mask.例文帳に追加

改良された解像度で比較的薄い上部フォトレジスト層（１８）がパターニングされ、次に上部フォトレジスト層を反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）マスクとして利用し中間金属またはセラミック層（１６）が規定され、次に中間層をエッチングマスクとして使用して、最下層の厚いフォトレジスト層（１４）が第２のＲＩＥプロセスにおいて規定される。 - 特許庁

After a resist film 8 is removed, the second resist film 13 is deposited over the entire surface and is patterned, in correspondence with the channel region of a memory cell transistor regions A to form holes 13a corresponding to the channel regions of the memory cell transistor region A in the second resist film 13, and then the second resist film 13 is cured with heat and ultraviolet rays.例文帳に追加

レジスト膜８を除去した後、全面に第２のレジスト膜１３を堆積し、メモリセルトランジスタ領域Ａのチャネル領域に対応させて第２のレジスト膜１３をパターニングし、第２のレジスト膜１３にメモリセルトランジスタ領域Ａのチャネル領域に対応するホール１３ａを形成し、第２のレジスト膜１３を熱及び紫外線により硬化させる。 - 特許庁

The directional coupler includes: a main line 11 provided on a dielectric substrate; a loop-shaped sub line 12 which is patterned on the dielectric substrate and a part of which is spaced from the main line; and a pair of correction pattern 13 disposed on both ends of a coupled portion of the main line to the sub line.例文帳に追加

本実施形態に係る方向性結合器は、誘電体基板に設けられる主線路１１と、前記誘電体基板上にパターン形成され、その一部が前記主線路と一定の空隙をもって配置されるループ形状の副線路１２と、前記主線路と前記副線路との結合部の両端に配置される一対の補正パターン１３とを具備する。 - 特許庁

The method for manufacturing a metal photograph includes steps of preparing a substrate, applying a photoresist film thereon, exposing and developing the film by using a patterned film as a mask to pattern the photoresist film to form a photoresist pattern having a pattern corresponding to the film, forming a seed film on the substrate and the photoresist pattern, and producing a metal film on the seed film by LIGA techniques.例文帳に追加

金属写真の製作方法は、基板を提供して、それにフォトレジスト膜を塗布し、パターンを有するフィルムをマスクとして露光現像工程を行って、フォトレジスト膜をパターン化して、フィルムに対応するパターンのあるフォトレジストパターンを形成し、基板とフォトレジストパターンにシード膜を形成し、ＬＩＧＡ技術でシード膜に金属膜を形成するステップを含む。 - 特許庁

To provide a molding substrate for an optical recording medium for simply producing the optical recording medium of a patterned medium type at low costs and a method of manufacturing the molding substrate precisely and inexpensively, and to provide the optical information recording medium constituted by using the molding substrate and having reduced cross light, crosstalk or cross erase and a manufacturing method of the optical recording medium.例文帳に追加

パターンドメディアタイプの光情報記録媒体を、低コストで簡易に作製できる光情報記録媒体用成形基板とその成形基板を精密かつ安価に製造する方法、ならびに当該成形基板を用いて構成したクロスライト、クロストークあるいはクロスイレースの少ない光情報記録媒体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

(1) This colored and patterned nonwoven fabric having at least one surface partially colored with a pigment and/or a dye to form and fix a pattern, and wholly colored by the dye, and comprising a synthetic fiber having bonds strengthened by uniformly arranged partial concave parts has 0.2-2 mm thickness and ≥120 mm bending properties.例文帳に追加

(1) 少なくとも片面が、顔料および／または染料により部分着色模様が形成、固着され、かつ染料で全面が着色されている、均等に配置された部分凹部により結合が強化された合成繊維からなる着色模様不織布であって、該着色模様不織布の厚みが0.2-2mm で、かつ剛軟性が120mm 以下である着色模様不織布。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which gives extremely excellent adhesiveness when applied under conditions of 25 to 60% humidity without requiring burning, which is developable with low alkali intensity and can be developed while keeping high sensitivity and producing no residue, which can be patterned with a sharp outline and gives a hard resist film with improved scratch resistance for handling prior to development.例文帳に追加

バーニング不要で湿度が２５〜６０％の条件で塗布して非常に優れた密着性が得られ、低いアルカリ強度で現像が可能であり、高感度が保たれ残渣が生じない現像ができて、シャープな輪郭で切れ、レジスト膜が非常に硬くて現像前の取り扱いにおける耐傷性が向上するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

This inkjet recording paper is formed by coating an emulsion type cationic polymer including a styrene-acrylic acid copolymer as an anionic polymer and a polyamine as a cationic polymer on at least one side of a base paper made of patterned paper, color impregnated coating paper or mixedly made paper under the condition that its coating weight is 0.1 to 7.0 g/m^2.例文帳に追加

本発明に係るインクジェット記録用紙は、模様紙もしくは色含浸塗工紙または混抄紙の少なくとも原紙の一方の面に、スチレン−アクリル酸共重合体であるアニオン性ポリマーとポリアミンであるカチオン性ポリマーとを含有しているエマルジョンタイプのカチオン性樹脂を塗布し、かつ、その塗工量が０．１〜７．０ｇ／ｍ^２の範囲にあることを特徴とする。 - 特許庁

A second base film 44b is patterned to form a first hole 92a, a barrier wall 46 defining the outline of the first hole, and a concave 93a, and thereon a film of a metal material such as aluminum having conductivity and light reflectivity is formed by using a CVD method to form a conductive reflective material 73a before a flattening step.例文帳に追加

第２下地膜４４ｂをパターニングすることによって、第１穴部９２ａ、第１穴部の輪郭を規定する隔壁４６、及び凹部９３ａとを形成し、その上面にＣＶＤ法を用いて導電性及び光反射性を有するアルミニウム等の金属材料を成膜することによって、平坦化前の導電性反射材料７３ａを形成する。 - 特許庁

This manufacturing method of the semiconductor device comprises (a) a step of forming the rare metal layer on a semiconductor substrate provided with the semiconductor device, (b) a step of forming a TaO film on the rare metal layer, (c) a step of patterning the TaO film using a resist pattern, and (d) a step of patterning rare metal layer using the patterned TaO film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ア）半導体素子を形成した半導体基板上にレアメタル層を形成する工程と、（イ）前記レアメタル層上にＴａＯ膜を形成する工程と、（ウ）前記ＴａＯ膜をレジストパターンを用いてパターニングする工程と、（エ）前記パターニングされたＴａＯ膜を用いて前記レアメタル層をパターニングする工程とを含む。 - 特許庁

The optical element (light controlling element) 11 has first regions 14 patterned between a pair of transparent base materials 12 ans 13 and composed of a light transmissible material and second regions 15 disposed between the first regions and comprising a liquid crystal material by which a light transmitting state and a light scattering or absorbing state can be selectively switched.例文帳に追加

本発明に係る光学素子（光線制御素子）１１は、一対の透明基材１２，１３間にパターン形成された透光性材料からなる第１の領域１４と、第１の領域の間に配置され透光状態と散乱又は吸収状態とが選択的に切り換えられる液晶材料を含んだ第２の領域１５とを有する。 - 特許庁

The disclosure is directed to a method for forming nanostructures on a substrate including silicon comprising the steps of: (a) depositing a layer of transition metal on the surface of the substrate; (b) annealing the layer of the transition metal to form a patterned transition metal layer; and (c) etching the substrate to form the nanostructures on the substrate surface.例文帳に追加

本開示は、ケイ素を含む基板上にナノ構造を提供する方法であって、（ａ）前記基板の表面上に遷移金属の層を堆積させるステップと、（ｂ）前記遷移金属の層をアニールして、パターン化遷移金属層を形成させるステップと、（ｃ）前記基板をエッチングして、前記基板表面上にナノ構造を形成させるステップとを含む方法に関する。 - 特許庁

The patterned magnetic recording medium is provided with: a substrate; and a recording layer formed on the substrate, having a plurality of sides with planar shapes inclined in a down track direction, a first width part of a cross track direction, and a second width part smaller than the first width part of the cross track direction, and including recording bits constituting projecting patterns.例文帳に追加

基板と、前記基板上に形成され、平面形状がダウントラック方向に対して傾斜する複数の辺と、クロストラック方向の第１の幅の部分と、クロストラック方向の第１の幅よりも狭い第２の幅の部分とを有し、凸パターンをなす記録ビットを含む記録層とを具備したことを特徴とするパターンド磁気記録媒体。 - 特許庁

To provide a patterned composite resin molded object having a pattern formed by a material itself, not losing a flat grain pattern even if a surface is abraded because the pattern is formed in the direction right-angled to an extrusion direction to reach up to a depth direction and imparting appearance near to that of natural wood, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

材料自体によって模様が形成されていると共に、押出方向に対して直角方向に模様があり、さらには該模様が深さ方向にまで及ぶため、表面が摩耗しても板目模様が消去せず、天然の木材に近い外観を与える模様付複合樹脂成形体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this case, the semiconductor layer, the data line and the drain electrode or the pixel electrode are patterned using a photosensitive film pattern obtained by exposing and developing a photosensitive film in the exposure process of a photoetching step as a mask, and a boundary line of the gate electrode overlapping with the drain electrode is arranged to be perpendicular to the scanning direction of exposure for the photosensitive film in the exposure process.例文帳に追加

この時、半導体層、データ線及びドレイン電極又は画素電極は、フォトエッチング工程の露光工程で感光膜を露光及び現像した感光膜パターンをエッチングマスクにしてパターニングし、ドレイン電極と重畳するゲート電極の境界線を、露光工程で感光膜を露光するスキャニング方向に対して直交して配置する。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a non-magnetic substrate, magnetic recording layers patterned and formed to separate from each other on the non-magnetic substrate, non-magnetic materials embedded between the patterns of the magnetic recording layers, metallic films formed on the magnetic recording layers and the non-magnetic materials and carbon protective films formed on the metallic films.例文帳に追加

非磁性体基板と、前記非磁性体基板上に互いに分離するようにパターン化して形成された磁気記録層および磁気記録層のパターン間に埋め込まれた非磁性体と、前記磁気記録層および非磁性体上に形成された金属膜と、前記金属膜上に形成されたカーボン保護膜とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

A trench is formed in the major surface of a semiconductor substrate, impurities are implanted into the bottom of the trench, an insulating film is formed at least on the inner surface of the trench, a conductive film is formed on the entire surface of the semiconductor substrate including the interior of the trench, and then the conductive film is patterned corresponding to the trench thus forming a semiconductor device having a trench structure.例文帳に追加

半導体基板の主面にトレンチを形成し、トレンチの底部に不純物を注入し、少なくとも前記トレンチの内表面に絶縁膜を形成し、前記トレンチの内部を含む半導体基板の全面に導電膜を形成し、導電膜を前記トレンチに対応してパターニングして、トレンチ構造を有する半導体装置を形成する。 - 特許庁

An insulation layer is formed between pixel electrodes patterned on a translucent substrate, and a hole transport ink with a hole transport material dissolved or stably dispersed in a solvent by letterpress printing is printed on the pixel electrodes between from protruded parts of a letterpress to form the hole transport layer.例文帳に追加

透光性基板上のパターニングされた画素電極の間に絶縁層を形成し、凸版印刷法により正孔輸送材料を溶媒に溶解または安定に分散させた正孔輸送インキを凸版の凸部から絶縁層の間にある画素電極に印刷し正孔輸送層を形成することにより、上記課題を解決することができた。 - 特許庁