「patterned」に関連した英語例文の一覧と使い方(68ページ目) - Weblio英語例文検索

After a chamber plate 30 provided for a thin metal plate and a diaphragm 10 are bonded integrally with an etching stop layer, i.e., a thin protective film 20, the chamber plate 30 is patterned through a lithography process and an etching process thus forming a large number of chambers of uniform size and interval in the chamber plate 30.例文帳に追加

金属材の薄板に備えられるチャンバー板及び振動板をエッチング停止層である保護薄膜と一体に結合した後、チャンバー板をリソグラフィ工程とエッチング工程とによってパターニングして、チャンバー板には多数のチャンバーが均一の大きさと間隔に形成されるようにする。 - 特許庁

To provide an information recording medium on which minimum magnetic bits in high-density magnetic recording can be recorded by suppressing the influence of the magnetization reversal of a recording bit caused by a demagnetizing field in a patterned magnetic recording medium, and to provide a manufacturing method therefor, an information recording/reproducing device and an information recording medium manufacturing apparatus.例文帳に追加

パターンド磁気記録媒体において反磁界による記録ビットの磁化反転の影響を抑制し、高密度磁気記録における極小磁気ビットの記録を可能にする情報記録媒体、その製造方法、情報記録再生装置、及び情報記録媒体作製装置を得る。 - 特許庁

When installing the dielectric body and barrier ribs on the glass board 12, the material of dielectric body is placed on the top layer of the electrode, and thereon the material for the barrier ribs is placed, and after formation of the barrier rib pattern, the material of dielectric body and the patterned material of the barrier ribs are subjected to a baking process simultaneously.例文帳に追加

他方の基板ガラス１２に、誘電体と隔壁と設けるに際し、電極の上層に誘電体材料を配置し、更に誘電体材料の上層に隔壁材料を配置し、隔壁パターン形成後、それら誘電体材料とパターン化した隔壁材料とを同時に焼成する。 - 特許庁

With respect to calling signals from a plurality of slave units and an alarm signal of a sensor, a voltage level of a power source superimposed on a transmission line by a power source supply from a master unit is changed by a voltage patterning portion of a slave unit, and the signals are transmitted to the master unit from a data transmission/reception circuit of the slave unit as a patterned signal.例文帳に追加

複数の子機からの呼出信号、センサの警戒信号を、親機からの電源供給により伝送路上に重畳される電源の電圧レベルを子機の電圧パターン化部で変化させ、パターン化された信号として子機のデータ送受信回路から親機に送信する。 - 特許庁

A gate line 121 is formed on an insulating substrate 110, on which a gate insulating film 140, semiconductor layer 150, and resistive contact layer are sequentially stacked, and then when the data line and a drain electrode 175 are formed, an electrode layer is patterned together with the resistive contact layer.例文帳に追加

絶縁基板１１０の上にゲート線１２１を形成し、その上部にゲート絶縁膜１４０と半導体層１５０と抵抗性接触層を順次に積層し、次に、データ線とドレーン電極１７５を形成する際に、電極層を抵抗性接触層と一括してパターン形成する。 - 特許庁

To provide a double-sided copper-clad board useful for manufacturing a high density, high multilayer wiring board in which the occurrence of warpage is prevented even after copper foil is patterned to form a conductor pattern and which has high interlayer adhesion reliability and high interlayer connection reliability.例文帳に追加

銅箔をパターニングして導体パターンを形成した後においても、配線基板に反りが生じず、また、極めて高い層間接着信頼性と層間接続信頼性を有し、高密度で高多層な多層配線基板を作製することができる、両面銅張板を提供する。 - 特許庁

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material.例文帳に追加

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。 - 特許庁

Selection wiring 89 and feed wiring 90 are stacked on patterned scan lines X and supply lines Z, together with drains/sources of transistors 21 to 23, and the selection wiring 89 and the feed wiring 90 are provided projectingly from the surface of the transistor array substrate.例文帳に追加

トランジスタ２１〜２３のドレイン・ソースとともにパターニングされた走査線Ｘ及び供給線Ｚには選択配線８９及び給電配線９０がそれぞれ積層され、選択配線８９及び給電配線９０がトランジスタアレイ基板５０の表面から凸設されている。 - 特許庁

The semiconductor light emitting element is provided with a substrate 10, a thermal diffusion layer 11 formed on the substrate 10 and patterned at prescribed intervals, a flat layer 12 covering the thermal diffusion layer 11 and having a flat surface, and a light emitting part 18 formed on the flat layer 12.例文帳に追加

基板１０、基板１０上に形成され、所定の間隔でパターニングされた熱拡散層１１、熱拡散層１１を覆い、平坦な表面を有する平坦層１２、及び平坦層１２上に形成された発光部１８を備えることを特徴とする半導体発光素子である。 - 特許庁

When a wiring groove is formed by dry etching an insulating film 21 with a photoresist film 23 patterned in a groove pattern as a mask, an etching ending point of the film 21 is detected by using an optical reflection interference waveform monitor or a plasma luminescence ending point monitor, thereby dry-etching only the film 21.例文帳に追加

溝パターンにパターニングされたフォトレジスト膜２３をマスクとして絶縁膜２１をドライエッチングし、配線溝を形成する際、光学式反射干渉波形モニタまたはプラズマ発光終点モニタを用いて絶縁膜２１のエッチング終点検出を行うことにより、絶縁膜２１のみをドライエッチングする。 - 特許庁

In a region S where the light-receiving surface of a photodiode is located, respective layers are removed when first wiring 15 and second wiring 17 are patterned and respective layers are also removed after a second interlayer insulation film 13 and a cover insulation film 18 are formed, respectively.例文帳に追加

フォトダイオードの受光面が位置する領域Ｓでは、第１の配線１５および第２の配線１７をパターニングする際にそれぞれの層が除去され、第２の層間絶縁膜１３およびカバー絶縁膜１８をそれぞれ形成した後にもそれぞれの層が除去される。 - 特許庁

The torchon lace cloth 1 is obtained by knitting the pattern part 2 and the margin part 3 in parallel, inserting the rubber yarn 4 into the margin part 3 along the knitting direction, interknitting 5' the rubber yarn 4 or another rubber yarn 5 with the patterned part 2 for every right place so as to turn down 5" the rubber yarn at the top P to return to the original position.例文帳に追加

本願トーションレース地１は、模様部２と縫代部３とを並走させて編成し、縫代部３に編成方向に沿ってム糸４を挿入し、該ゴム糸４又は他のゴム糸５を適所毎に模様部２に編み込み５′し、頂点Ｐで折り返し５″して元の位置に戻るようにする。 - 特許庁

In the manufacturing method of a magnetic head for laminating lower and upper magnetic pole layers 5 and 9 via a gap layer 6 to constitute a magnetic gap, after the gap layer 6 is formed on the lower magnetic pole layer 5, a track width regulation mask patterned corresponding to a track width is disposed.例文帳に追加

下部磁極層５と上部磁極層５とをギャップ層６を介して積層形成し、磁気ギャップを構成してなる磁気ヘッドの製造方法において、下部磁極層５上にギャップ層６を形成した後、トラック幅に対応してパターニングされたトラック幅規制マスクを配する。 - 特許庁

A wireless LAN access point 2 recognizes a terminal actuation instruction signal 101 from a managing terminal 1 and controls a beacon transmission interval control part 21, which selects a normal operation mode or a patterned transmission interval mode according to the instruction to control transmission intervals of a beacon.例文帳に追加

無線ＬＡＮアクセスポイント２は管理端末１からの端末起動指示信号１０１を認識してビーコン送信間隔制御部２１を制御し、ビーコン送信間隔制御部２１はその指示によって通常動作モードとパターン化送信間隔モードとを切り換えて、ビーコンの送信間隔を制御する。 - 特許庁

The high permittivity film 105a and the silicon film 105b are patterned to form high permittivity gate insulating films 106, 107 and gate electrodes 108, 109; and extension regions 111, 114, side walls 110, 113, and high concentration impurity regions 112, 115 etc. are formed.例文帳に追加

そして、高誘電率膜１０５ａおよびシリコン膜１０５ｂをパターニングして、高誘電率ゲート絶縁膜１０６，１０７およびゲート電極１０８，１０９を形成し、エクステンション領域１１１，１１４、サイドウォール１１０，１１３、高濃度不純物領域１１２，１１５等を形成する。 - 特許庁

To solve the problem that word line and data line ends are short-circuited or broken at boundary parts between a memory array and a sub-word driver or a sense amplifier due to interference of diffracted light generated at a pattern end part when a fine word line and a data line having a line width less than a wavelength are patterned in a memory.例文帳に追加

メモリーにおいて波長以下の線幅を有する微細なワード線やデータ線をパターニングする際、メモリーアレーとサブワードドライバやセンスアンプの境界部において、パターン端部で生ずる回折光が干渉するためワード線やデータ線端がショートしたり、断線を起こす問題を解決する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which retains high transmission coefficient even when burned at high temperature after film formation and which is suitable for material for forming a patterned insulation film used for a liquid crystal display element, an organic EL display element, a solid imaging element or the like, and suitable for color filter material or the like.例文帳に追加

膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a cycloolefin laminate wherein a metal part in a side contacting a photo-permeable supporting material can be blackened, an adhesion between a cycloolefin supporter and a patterned metal part can be improved, and the cycloolefin laminate having a low haze can be obtained even when the patterning metal part does not adhere to other base materials, and a method for manufacturing the laminate.例文帳に追加

光透過性支持体と接する側の金属部が黒化でき、シクロオレフィン支持体とパターニングされた金属部との接着性を改善し、かつパターニングされた金属部を他の基材と貼合せずとも、ヘイズの低いシクロオレフィン積層体、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation device for supplying a projection beam of radiation, a support structure for supporting a patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection device for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リトグラフ投影装置は、放射線の投影ビームを発生するための放射線装置、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化装置を支持する支持構造、基板を保持する基板テーブル、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影装置を有する。 - 特許庁

A notch hole 2a is formed on the circuit board 2, a second probe 6 is patterned on a projected piece 2f extended to the center of the notch hole 2a and matching patterns 4a, 8a extended to a direction orthogonal to the projected direction of the second probe 6 are formed on the outside of the notch hole 2a.例文帳に追加

回路基板２に切欠孔２ａを形成し、この切欠孔２ａの中心に向かって延びる突片２ｆに第２のプローブ６をパターン形成すると共に、切欠孔２ａの外側に第２のプローブ６の突出方向と直交する方向へ延びるマッチングパターン４ａ，８ａを形成する。 - 特許庁

The patterned phase shifting layer is comprised of a material of differing composition than the mask substrate and is of thickness sufficient to shift the phase of an energy beam passing through the thickness of the phase shifting layer and the mask substrate by 180°, compared to the phase of the energy beam passing through the phase shifting layer openings and the mask substrate.例文帳に追加

パターン化された位相シフト層は、位相シフト層およびマスク基板の厚さを通過するエネルギー・ビームの位相を、位相シフト層の開口およびマスク基板を通過するエネルギー・ビームの位相に比べて１８０°シフトさせるのに十分な厚さをもち、マスク基板とは異なる組成の材料からなる。 - 特許庁

By this method, the patterned composite resin molded object containing the substance having the refractive index different from that of the resin, different in the concentration and/or size of the substance in parts at every pattern and having the pattern in the direction right-angled to the extrusion direction so as to reach up to the depth direction is obtained.例文帳に追加

このような方法により、樹脂と屈折率の異なる物質を含み、模様毎の部分で該物質の濃度及び／又は大きさが異なると共に、押出方向に対して直角方向に模様があり、かつ該模様が深さ方向にまで及んでいる模様付複合樹脂成形体が得られる。 - 特許庁

A base metal layer 100 to form an auxiliary capacitance between the layer 100 and the drain electrode 112 of a TFT 127 that applies a voltage to a pixel electrode is formed in a planar state on a glass substrate 130; that is, the layer is formed without being patterned on the glass substrate 130.例文帳に追加

画素電極１１４に電圧印加するＴＦＴ１２７のドレイン電極１１２との間で補助容量を形成するための下地金属層１００が、ガラス基板１３０上に面状に形成、即ち、ガラス基板１３０上にパターンニングされない状態で形成される。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes a radiation source for generating radiation, an illumination system for controlling radiation, a pattern applying device for applying a pattern to the controlled radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation to a target portion of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

In this manufacturing method, by using a plating die patterned with an electrode region corresponding to the negative electrode collector 10 and an insulation region corresponding to the holes 101, a thin film of nickel is selectively deposited on the electrode region by means of electroplating, and thereafter, the thin film is separated from the plating die.例文帳に追加

製造方法は、負極集電体１０に対応する電極領域と、孔１０１に対応する絶縁領域とをパターン形成しためっき金型を使用して、電気めっきにより、電極領域に選択的にニッケルの薄膜を析出させたのち、薄膜をめっき金型からはく離する。 - 特許庁

A third thin film 14 of semiconductor or insulator formed on a semiconductor substrate 11 through the intermediary of a first insulating thin film 12 and, a second oxidation-resistant insulating film 13 where oxidizing seeds are hardly diffused is patterned for the formation of a stepped part 14a.例文帳に追加

半導体基板１１上に、絶縁体からなる第１薄膜１２と酸化種の拡散性が低い耐酸化性絶縁体からなる第２薄膜１３を介して形成された半導体または絶縁体からなる第３薄膜１４をパターニングし、段差部１４aを形成する。 - 特許庁

Dummy resistances 1 also serving as a part of outer conduction electrodes 6 are provided along the lengths of patterned upstream and downstream temperature measuring resistance elements 4a, 4b crossing a fluid flowing direction (X) on a thin film layer 3 above a space 2 of a base.例文帳に追加

流体流れ方向（Ｘ方向）と交差して基台の空間部２上の薄膜層３上にパターン形成された上流側及び下流側の測温抵抗エレメント４ａ及び４ｂの長さ方向に沿って、外部導通用電極部６の一部を兼ねる擬似抵抗体１を設ける。 - 特許庁

In the liquid crystal panel 10 for display, the layer thickness of resin 30 is made uniform by extending a first polarizing plate 15 arranged on the side of a surface laminated on a patterned optical retardation plate 20 to the reverse side of a display driver terminal 11, i.e, the formation area of the resin 30.例文帳に追加

表示用液晶パネル１０において、パターン化位相差板２０との貼り合わせ面側に配置される第１の偏光板１５を、表示ドライバ端子１１の裏側、すなわち、樹脂３０の形成領域にまで延在させ、樹脂３０の層厚を均一化させる。 - 特許庁

In the printed wiring board which has a printed contact pattern for inserting a connector, a chamfered portion is formed at the resin edge of the printed wiring board, and a part of the pattern is patterned on the chamfered portion, and the chamfered portion of the pattern and the chamfered portion of the resin edge form a continuous surface.例文帳に追加

コネクタ挿入用プリントコンタクトパターンを有するプリント配線板において、プリント配線板の樹脂端部が面取り部を有しており、かつパターンの一部が面取り部を有するパターンし、前記パターンの面取り部と前記樹脂端部の面取り部とは連続した面を形成する、プリント配線板。 - 特許庁

The pattern formed body includes a photocatalyst containing layer on a substrate, a patterned metal layer which can have a metal oxide coating, above the photocatalyst containing layer, and a water-repellent thin film layer formed above the metal layer.例文帳に追加

本発明は、基材上に、光触媒含有層と、前記光触媒含有層の上層においてパターン化された、金属酸化物被膜を有していてもよい金属層と、前記金属層の上層に形成された撥水性薄膜層と、を有するパターン形成体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a patterned thin film or making a polymer composite of carbon nanotubes by introducing oxirane or anhydride groups into the surfaces of carbon nanotubes by a chemical process and photocuring or heat-curing the surface-modified carbon nanotubes.例文帳に追加

オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The card is configured in such a way that the first antenna 11 mounted with the first IC chip 11a is patterned in a loop shape near the external periphery of the IC card 13 to form a first inlet, and both surfaces of the first inlet are laminated with a packaging material such as PET.例文帳に追加

第１のＩＣチップ１１ａを搭載した第１のアンテナ１１がＩＣカード１３の外周付近にループ状にパターニングされて第１のインレットが形成され、その第１のインレットの両面がＰＥＴなどの外装材料によってラミネートされてカードが構成されている。 - 特許庁

The outside liner 2 has a base material film 3 on the front surface of which a rugged shape 8 is formed by using a matting agent 8a and on the back surface of which a metallic picture layer 6 and a general picture pattern layer 7 are formed in patterned shapes by using an ink containing a bright pigment.例文帳に追加

このうち外側ライナー２はマット剤８ａにより表面に凹凸形状８が形成された基材フィルム３と、基材フィルム３の裏面に光輝性顔料を含むインキによりパターン状に形成されたメタリック調絵柄層６および一般絵柄層７とを有している。 - 特許庁

Then, when etching is started by using oxygen plasma etching in the vertical direction, the thin film 38 of a silicon oxide by oxygen plasma is formed on the surface of the patterned resist layer 37, and the cutting of a groove 47 and patterning in the resin layers 35, 36 is performed by using the silicon oxide layer 38 as a mask.例文帳に追加

その後、垂直方向に酸素プラズマエッチングを用いてエッチングを開始すると、パターニングされたレジスト層３７は表面に酸素プラズマにより酸化シリコンの薄膜３８を作り、この酸化シリコン層３８をマスクとして、樹脂層３５および３６に溝４７を掘り、パターニングする。 - 特許庁

The substrate dimensions of the active matrix substrate 14 of the liquid crystal panel 10 for display and the transparent substrate 21 of the patterned retardation plate 20 are made the same.例文帳に追加

パターン化位相差板２０の透明基板２１には、上記表示用液晶パネル１０の端子形成部１４ａと対向する割れ防止領域２１ａが設けられることにより、表示用液晶パネル１０のアクティブマトリクス基板１４とパターン化位相差板２０の透明基板２１との基板寸法が同一とされる。 - 特許庁

The second gate electrode 39 is formed by accumulating an electrode material on the first gate electrode 38 and polishing the electrode material with the cover pattern 47 as a stopper film, and patterned in highly accurate alignment with reference to the alignment mark 45 kept in an easy-to-observe condition by the cover pattern 47.例文帳に追加

第２ゲート電極３９は、第１ゲート電極３８等の上に電極材料を堆積し、カバーパターン４７等をストッパ膜として電極材料を研磨し、カバーパターン４７によって観察し易い状態に保たれたアライメントマーク４５を参照して高精度に位置合わせされてパターニングされる。 - 特許庁

Thus, a high dielectric constant insulating film 42 as formed in a wide area is subjected to plasma in dry etching only in the step of patterning the high dielectric constant insulating film, and the film has already been patterned in the step of patterning the conductive film for forming the second electrode.例文帳に追加

このため、高誘電率絶縁膜４２は、広い領域にわたって形成された状態でドライエッチング時のプラズマを受けるのは、高誘電率絶縁膜パターニング工程の間だけであり、第２電極形成用導電膜パターニング工程を行う時点では、すでにパターニングされている。 - 特許庁

Then, in the third process, the barrier rib forming material layer 120 is calcined with a pattern plate 15 pressed on the top portion of the patterned barrier rib forming material layer 120, thereby the barrier rib 110 is formed which has a top portion 110A of a shape corresponding to the contact face 15A.例文帳に追加

そして、第３工程において、パターニングされた隔壁形成材料層１２０の頂部に型板１５を押し当てた状態で隔壁形成材料層１２０を焼成することで、当接面１５Ａに対応する形状の頂部１１０Ａを備えた隔壁１１０を形成する。 - 特許庁

A belt-like admixture 31 is passed in turn through pattern forming portions 15-17 comprising calender rolls 11-14 to thereby be formed into a sheet 32 having even thickness; which then it is transferred to a form-patterned roll 20 in order to simultaneously form space patterns 34 for punching operation by space pattern forming projections 25 along with patterning operation.例文帳に追加

ベルト状の混和物３１を、カレンダーロール１１〜１４からなる絞り成形部１５〜１７に順に通して、厚みを均一化したシート３２に成形し、型入れ紋付けロール２０に移して、紋付けとともに、予備紋形成型２５により穿孔するための予備紋３４を同時に形成する。 - 特許庁

A fluorescent screen comprises at least a red phosphor layer and a green phosphor layer patterned on a transparent substrate, the phosphor layers include light diffusing material particles, and the average transmittance of light incident upon the fluorescent screen in a wavelength of 400-460 nm is equal to or less than 10%.例文帳に追加

透明基板上に、少なくとも赤色蛍光体層及び緑色蛍光体層がパターニングされてなり、該蛍光体層は光拡散材粒子を含み、該蛍光スクリーンに入射した光の波長４００〜４６０ｎｍにおける平均透過率が１０％以下である蛍光スクリーン。 - 特許庁

This is a method for manufacturing a patterned color filter by arranging a photosensitive coloring resist layer on a substrate 4 on which a lot of rectangular chip patterns P(1-6) are formed lengthwise and widthwise, and exposure-treating this photosensitive coloring resist layer with a reduction stepper.例文帳に追加

矩形状のチップパターンＰを縦横に多数配列形成してなる基板４上に感光性着色レジスト層を設け、この感光性着色レジスト層を縮小投影露光装置で露光処理することによってパターニングされてなるカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法である。 - 特許庁

To form a metal pattern into an accurate shape, related to a method where a photosensitized plating resist is coated on the surface of a circuit board after a catalyst layer is formed, which is exposed into a prescribed pattern and then developed, and the patterned plating resist is used for a metal pattern by electroless plating.例文帳に追加

回路基板の表面に触媒層を形成してから感光性のメッキレジストを塗布し、これを所望パターンに露光してから現像し、これでパターニングされたメッキレジストを利用して金属パターンを無電解メッキにより形成する方法において、金属パターンを正確な形状に形成する。 - 特許庁

To provide a patch transferring medium having a patterned cholesteric liquid crystal layer, with which a patch can be easily transferred to a transferee, which has abrasion resistance and solvent resistance protecting the surface of a medium even after the several times of repeated use and, in addition, by which easily authenticity can be determined, and further which has a hologram.例文帳に追加

被転写体にパッチを容易に転写でき、多数回の繰り返し使用でも、媒体の表面と保護する耐擦傷性や耐溶剤性などに加えて、簡易な真正性判定が可能なパターニングされたコレステリック液晶層、さらには、ホログラムを有するパッチ転写媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a mold structure capable of reducing a residual film, excellent in uniformity of a residual film over the entire surface of a substrate, having improved durability and allowing a high-quality pattern to be transferred and formed in a discrete track media and a patterned media, and to provide an imprint method using the mold structure.例文帳に追加

残膜を低減でき、基板全面での残膜の均一性に優れると共に、耐久性が向上し、ディスクリートトラックメディア、及びパターンドメディアに高品質なパターンを転写し形成することができるモールド構造体及び該モールド構造体を用いたインプリント方法の提供。 - 特許庁

A masking material layer 44 is formed on a substrate 31 which is composed of a silicon substrate 42 and a single crystal silicon device layer 43 interposing an intermediate layer 41 of silicon dioxide (Fig. A), the masking material layer 44 is patterned, a mask 45 is formed having a pattern which is the same as the flat figure of an object optical device.例文帳に追加

二酸化シリコンの中間層４１を挟むシリコン基板４２及び単結晶シリコンのデバイス層４３からなる基板３１にマスク材層４４を形成し（図１０Ａ）、これをパターニングし、目的とする光デバイスの平面形状と同一パターンのマスク４５を形成する。 - 特許庁