「primary sample」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a scanning charged particle beam system, wherein a primary charged particle beam is radiated to an insulating material or a semiconductor sample and a signal obtained from the specimen is detected, by which an electrification phenomenon of the sample is markedly reduced.例文帳に追加

絶縁物、あるいは、半導体試料に一次荷電粒子ビームを照射して試料から得られる信号を検出する走査荷電粒子ビーム装置において、試料の帯電現象を著しく少なくすることができる走査荷電粒子ビーム装置を実現する。 - 特許庁

To provide a vacuum display device for an electron microscope sample cell capable of more accurately displaying the degree of vacuum in the sample cell than before without giving poor effect on the control of a primary electron beam or a signal for secondary electrons during examination via an electron microscope.例文帳に追加

電子顕微鏡の検鏡時に、一次電子線の制御や二次電子の信号に悪影響を与えることなく、試料室内の真空度を従来よりも正確に表示することのできる電子顕微鏡試料室の真空度表示装置を提供する。 - 特許庁

A primary X-ray 2 emitted from an X-ray tube 1 is irradiated to a sample 3, and a fluorescent X-ray 4 generated from the sample 3 is spectrally dispersed by a WDS spectroscope 5, and the spectrally-dispersed X-ray 6 is detected by an EDS detector 7.例文帳に追加

Ｘ線管球１から出射された１次Ｘ線２を試料３に照射し、試料３から発生する蛍光Ｘ線４をＷＤＳ分光器５により分光させ、分光されたＸ線６をＥＤＳ検出器７で検出するように構成する。 - 特許庁

A photoreaction speed or photoreaction efficiency of the photoreagent in the sample cell 31 is evaluated on the basis of primary light intensity, transmitted light intensity and secondary light intensity by an evaluating part 50.例文帳に追加

評価部５０により、１次光強度、透過光強度および２次光強度に基づいて、試料セル３１内の光試薬の光反応速度または光反応効率が評価される。 - 特許庁

To optimize the number of scanning times (integration times) in image integration process by grasping beforehand an extent of charging on the surface of a sample by irradiation of a primary electron beams.例文帳に追加

一次電子線の照射による試料表面における帯電の程度を予め把握することにより、画像積算処理における走査回数（積算回数）の最適化を図る。 - 特許庁

A primary harmonic wave of at least one of harmonic signals related to the harmonic mixers 18 and 24 is different from an effective sample rate of at least one of the digitizers 30 and 32.例文帳に追加

高調波ミキサ１８及び２４に関する高調波信号の少なくとも１つの１次高調波は、デジタイザ３０及び３２の少なくとも１つの有効サンプル・レートと異なっている。 - 特許庁

The gamma radiation source 22 having a characteristic primary energy and an activity of not more than 100 microcurie is mounted in the housing, and gamma radiation is emitted through the base 12 into the sample disposed below.例文帳に追加

固有一次エネルギーと１００マイクロキュリー以下の放射能を持つガンマ放射線源２２が筐体内に取り付けられ、放射線はベース１２を通って下にあるサンプル内に放射される。 - 特許庁

The first ion detector receives ion produced from primary gas in the gas to be tested while the second ion detector receives the ion produced from the contaminant substance gas in the sample to be tested.例文帳に追加

第１イオンディテクタは、試験されるガス内の一次ガスから生成されたイオンを受け、第２イオンディテクタは、試験されるサンプル内の汚染物質ガスから生成されたイオンを受ける。 - 特許庁

To provide a method capable of performing quickly and easily primary structural analysis, even if a protein or a peptide used as a mass spectrometry measuring sample has a disulfide bond.例文帳に追加

質量分析測定試料となるタンパク質又はペプチドがジスルフィド結合を有するものであっても、その一次構造解析を迅速且つ容易に行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

In the of secondary ion for mass analysis method insulating material, a Pt-Pd alloy thin film that is a conductive continuous film is formed on the surface of a sample that is the insulating material, the sample with the Pt-Pd alloy thin film is irradiated with a primary ion beam and an electron beam, and the secondary ions generated from the sample are extracted and are subjected to mass analysis.例文帳に追加

本発明の絶縁物の二次イオン質量分析方法は、絶縁物である試料の表面に導電性の連続膜であるＰｔ−Ｐｄ合金薄膜を成膜し、このＰｔ−Ｐｄ合金薄膜付き試料に一次イオンビーム及び電子ビームを照射し、この試料から発生する二次イオンを引き出し、質量分析する。 - 特許庁

To provide a method capable of performing X-ray detection remarkably efficiently with little restriction of position relation between a detector and a sample in comparison with a conventional characteristic X-ray detection method wherein an X-ray detector is installed in front of the sample, namely, on the same side as a beam light source based on the sample surface entered by a primary beam.例文帳に追加

試料の前方、すなわち、一次ビームが入射する試料面を基準としてビーム光源と同じ側にＸ線検出器を設置する従来の特性Ｘ線検出法と比較して、検出器と試料の位置関係の制限が少なく、格段に効率よくＸ線検出を行うことができる方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the inspection, a top stage deflector 19 deflects a primary electron beam EB incident on a sample 18 which has a sample irradiation current quantity and a parallelism required for the inspection, so that the beam irradiates out of the center axis of an objective 17, is subjected to the focusing action of the objective 17 and deflected on the objective center axis on the sample 8 surface.例文帳に追加

検査に必要な試料照射電流量、平行度を有して試料１８に入射した一次電子ビームＥＢは、検査時には、上段偏向器１９により偏向され、対物レンズ１７の中心軸外に入射し、対物レンズ１７により収束作用を受けると共に、試料８面上の対物レンズ中心軸上に偏向される。 - 特許庁

This microscope is equipped with image-forming optical systems 4 and 11 forming a primary image O' of a sample, the projection optical system 15 projecting the primary image O' to the electronic imaging device 17, and a diaphragm 20 having a light-transmitting area where light is transmitted and a light-shielding area, where light is intercepted and controlling the irregular brightness.例文帳に追加

標本の一次像Ｏ’を形成する結像光学系４、１１と、一次像Ｏ’を電子撮像素子１７に投影する投影光学系１５と、光を透過する透過領域と光を遮光する遮光領域を有し明るさムラを制御する絞り２０とを備えた顕微鏡。 - 特許庁

Deflection control means 13 transmits a deflection signal for deflecting a secondary electron in synchronization with a primary beam scanning to a deflector power supply 12 so that the secondary electron emitted from a sample is incident along an optical axis of an analyzer (a center of an incident slit 15) irrespective of the primary beam scanning.例文帳に追加

偏向制御手段１３は、１次ビーム走査に拘わらず試料から放出された２次電子がアナライザの光軸（入射スリット１５の中心）に沿って入射するように、１次ビームの走査に同期して２次電子を偏向させるための偏向信号を偏向器電源１２に送る。 - 特許庁

To the secondary side superconducting coil 2a there is electrically connected a superconducting conductor sample 4 controllable to another temperature from the primary side superconducting coil 1b and the secondary side superconducting coil 2a.例文帳に追加

２次側超電導コイル２ａには、１次側超電導コイル１ｂおよび２次側超電導コイル２ａとは別個の温度に制御可能な超電導導体サンプル４が電気的に接続されている。 - 特許庁

An auxiliary electronic irradiation device 15, that radiates an electron beam directed toward the sample is provided at an inclination of θ degrees with respect to an optical axis O1 of an electron optics system, to which a primary electron beam EB is radiated.例文帳に追加

試料に向けて電子ビームを照射する補助電子照射器１５が一次電子ビームＥＢが照射される電子光学系の光軸Ｏ１に対して角度θ傾けられて設けられている。 - 特許庁

To control the chromatic aberration of magnification of a secondary beam without restricting the irradiated region by a primary beam on a sample.例文帳に追加

一次ビームの試料上の照射領域を制限することなく、二次ビームの倍率色収差を抑えることができる、基板検査装置および基板検査システム並びに基板検査装置の制御方法を提供する。 - 特許庁

When the magnification of observation is changed, scanning signals from a scanning signal generator 6 are controlled by a magnification controller 7, to change the scanning range of a primary electron beam EB on the sample 4.例文帳に追加

ここで、観察倍率を変える場合には、倍率制御器７によって走査信号発生器６からの走査信号を制御し、試料４上の一次電子ビームＥＢの走査範囲を変える。 - 特許庁

The absorbance values of the future sample are measured at one or more wavelengths from a standard set of wavelengths with the second apparatus, and a concentration of an analyte in the future sample is calculated by applying the primary calibration algorithm to the optionally pre-processed absorbance of the future sample obtained from the second apparatus.例文帳に追加

将来のサンプルの吸光度値は、第２の装置で、標準の波長のセットからの１つまたは複数の波長において測定され、将来のサンプル内の検体の濃度は、一次カリブレーションアルゴリズムを第２の装置から得られた将来のサンプルの吸光度に適用することによって計算され、第２の装置から得られた将来のサンプルの吸光度は、オプションとしては前処理される。 - 特許庁

This evaluating device is provided with electron beam generating means 1 to 9 for supplying plural electron beams to a surface of a sample 10 via the primary optical system, the secondary optical systems 14 and 15 for introducing a secondary electron beam emitted from the surface of the sample 10 to a detector 17, and moving means 12 and S for relatively moving the sample 10 to the plural electron beams.例文帳に追加

評価装置は、試料１０の表面に一次光学系を介して複数の電子線を供給する電子ビーム生成手段１〜９と、試料１０の表面から放出される二次電子線を検出器１７に導く二次光学系１４、１５と、試料１０を複数の電子線に対して相対的に移動させる移動手段１２、Ｓとを具備する。 - 特許庁

A sample holder for MALDI mass spectrometry is equipped with CuO secondary particles in which CuO primary particles of the average particle diameter of 100 nm or less are aggregated, and which have an uneven surface caused by a shape of the primary particles constituting the uppermost layer as a laser light absorbing matrix.例文帳に追加

平均粒子径１００ｎｍ以下のＣｕＯ一次粒子が集合してなる二次粒子であって、最表層を構成する一次粒子の形状に起因した凹凸表面を有するＣｕＯ二次粒子を、レーザー光吸収マトリクスとして備えたＭＡＬＤＩ質量分析用の試料ホルダを使用する。 - 特許庁

The paint color sample card containing a substrate; a paint film of black paint applied onto the substrate; the black mixed first paint film of a paint mixture composed of primary color paint and black paint or a black mixed second paint film of the paint mixture composed of the primary color paint, the black paint and lustrous pigment-containing paint.例文帳に追加

基板；該基板上に塗工された原色塗料の塗膜；及び該基板上に塗工された、原色塗料と黒色塗料の混合塗料の黒色混合第1塗膜、又は原色塗料と黒色塗料と光輝性顔料含有塗料の混合塗料の黒色混合第２塗膜とを含む色見本カード。 - 特許庁

Furthermore, an irradiating angle of the primary beam 107 for irradiation to the sample wafer 115 can be selected by individually controlling a blanca array 116 arranged by corresponding to an aperture array 108 and the array lens 109.例文帳に追加

また、アパーチャーアレイ１０８やアレイ状レンズ１０９に対応して設置されたブランカアレイ１１６を個別に制御することにより、試料ウェハ１１５に照射する一次ビーム１０７の照射角を選択することができる。 - 特許庁

To enhance convergency of a primary ion, and to reduce a work function on a sample surface to enhance a secondary ionization rate further, as to a method and an instrument for measuring a depth-directional element distribution.例文帳に追加

深さ方向元素分布測定方法及び深さ方向元素分布測定装置に関し、一次イオンの収束性を高めるともに、試料表面の仕事関数を低下させて負の二次イオン化率をさらに高める。 - 特許庁

The control electrode 15 is connected to power sources 17 and 18 each having an adjustable output voltage, and operated by either a voltage for forming a deceleration electric field for a primary electron beam between the sample 10 and the control electrode 15 or a voltage capable of avoiding discharge between the sample 10 and the control electrode 15.例文帳に追加

制御電極１５は、出力電圧が調整可能な電源１７、１８に接続され、試料１０と制御電極１５との間に一次電子線に対する減速電界を形成する電圧と、試料１０と制御電極１５との間の放電を回避し得る電圧とのいずれかで動作する。 - 特許庁

The sample holding mesh 13 used for a transmission electron microscope has a separable part (a primary mesh 13-1) and this part is made to be detachable from the remaining part (a secondary mesh 13-2) after separation so that it may not break a tip of the sample during measurement and precise elemental analysis can be performed.例文帳に追加

透過型電子顕微鏡に用いられる試料保持用のメッシュ１３において、前記メッシュの一部（第１のメッシュ１３−１）が分離し、当該一部が、分離後に残った部分（第２のメッシュ１３−２）と脱着可能な形態とすることにより、測定中、試料の先端を崩さずに、精度の高い元素分析を行なう。 - 特許庁

The primary electron optical system comprises a multi-beam generator, a deflecting system for scanning for scanning multi- beams on the sample at the same time, an objective for decelerating the multi- beams to irradiate the sample and accelerating a secondary electron beam, and a secondary electron beam separator for deflecting a plurality of secondary electron beams passing through the objective to the detecting system.例文帳に追加

一次電子光学系はマルチビーム生成器、マルチビームを試料上に同時に走査させる走査用偏向器、マルチビームを減速し試料に照射すると共に二次電子線を加速する対物レンズ、及び対物レンズを通過した複数の二次電子線を検出系へ偏向させる二次電子線分離器を含む。 - 特許庁

The method for measuring the element distribution in a depth direction has a process for adding an alkali metal to the surface of the sample, a process for irradiating the measuring region of the surface of the sample with primary ions comprising alkali metal ions and a process for performing the mass separation of secondary ions discharged from the measuring region by irradiation with primary ions and measuring the discharged quantity of specific secondary ions to analyze the element distribution.例文帳に追加

試料の表面にアルカリ金属を含有させる工程と、前記アルカリ金属のイオンよりなる一次イオンを前記試料の表面の測定領域に照射する工程と、前記一次イオンの照射により前記測定領域から放出された二次イオンを質量分離し、特定の二次イオンの放出量を測定して元素分布を分析する工程とを有する深さ方向元素分布測定方法によって解決する。 - 特許庁

An ExB 16 for a detection part supplying a field acting on tracks of secondary particles generated from a sample 2, is arranged at the convergence point 24 of the primary electron beam, and only the secondary particles in a specific energy range is guided to a detection part 13.例文帳に追加

一次電子線の収束点２４には，試料２から発生する二次粒子の軌道に作用する場を供給する検出部用ExB１６を設け，特定のエネルギー範囲の二次粒子のみを検出部１３に導く。 - 特許庁

When a sample injection part 10 and a detector 30 reach primary set temperatures, the supply powers are reduced so as only to keep the temperatures, and reduced portions are passed to the third heater 23 to improve its heating capacity.例文帳に追加

そして、試料注入部１０と検出器３０とが初期設定温度に達したならば、単にその温度を維持するように供給電力を減らし、その減少分を第３ヒータ２３に回して加熱能力を向上させる。 - 特許庁

This fluorescent X-ray analyzer is provided with a plurality of detecting means 6A arranged at different measurement portions 2A in a range P where the primary X-rays 4 from the sample 1 are applied and measuring the fluorescent X-rays 5A generated from the corresponding measurement portions.例文帳に追加

試料1 における１次Ｘ線4 が照射される範囲P 内の相異なる測定部分2A, …ごとに設けられ、対応する測定部分から発生する蛍光Ｘ線5A, …の強度を測定する複数の検出手段6A, …を備える。 - 特許庁

A metal 107 is disposed on a wall of the sample container 101, and secondarily excites the observed element in a region for transmitting the primary X rays and a region other than a region for transmitting an X-ray fluorescence from the observed element to the detector.例文帳に追加

また、試料容器１０１の試料容器壁には、１次Ｘ線の通過領域および着目元素からの蛍光Ｘ線の検出器への通過以外の領域に、着目元素を２次的に励起する金属１０７を配置する。 - 特許庁

LS&Co. collected primary data from a sample of suppliers throughout its supply chain, including fabric mills (facilities that create denim fabric from cotton fiber) and garment manufactures (facilities that assemble and finish final denim products). 例文帳に追加

LS&Co.は、布地工場（木綿繊維からデニム生地を製造する施設）および衣料工場（部品を組み合わせ最終デニム製品を製造する施設）を含め、サプライチェーン全体を通しサプライヤーのひとつの抽出サンプルから一次データを収集した。 - 経済産業省

Adaptability is calculated based on the weighted average attribution likelihood of each category in each sample is calculated by using a genetic algorithm, and the plurality of primary optimal solutions of a multiple variable specific distribution model are obtained (a step 21), and the weighted average optimal solution of the plurality of primary optimal solutions is calculated so that the secondary optimal solution can be obtained (a step 22).例文帳に追加

遺伝的アルゴリズムを用い、各サンプルにおける各カテゴリーの重み付け平均された帰属尤度に基づいて適応度を計算しつつ、多変量正規分布モデルの第１次最適解を複数個得て（ステップ２１）、それら複数個の第１次最適解の重み付け平均最適解を算出して第２次最適解を求める（ステップ２２）。 - 特許庁

Sample information, analysis conditions, and instructions such as commencement and cessation of an analysis which are input and set on an operational display by the primary controlling and processing section 41 are thereby transmitted also to the secondary controlling and processing section 43, and commencement and cessation of data collection are performed simultaneously in the primary GC device 1 and the secondary GC device 3 with a single operational instructions or input.例文帳に追加

これにより、第１制御・処理部４１による操作画面上で入力設定された試料情報や分析条件などや分析開始、分析中止などの指示が第２制御・処理部４３にも転送され、一度の操作指示や入力で１次ＧＣ装置１と２次ＧＣ装置３でのデータ収集開始、中止を同時に行うことができる。 - 特許庁

The primary electron beams generated from the electron gun incident into the beam separator along an electron-optical axis always irradiate from the beam separator along the electron-optical axis, and the secondary electron beams generated from the sample and incident contrary to the primary electron beams can be selectively deflected in a first and a second directions away from the electron-optical axis.例文帳に追加

ビームセパレータは、電子銃から発生し電子光学軸に沿ってビームセパレータに入射した一次電子ビームは常に電子光学軸に沿ってビームセパレータを出射し、試料から発生し一次電子ビームと逆向きに入射する２次電子は電子光学軸から離れる異なった第１及び第２の方向に選択的に偏向可能である。 - 特許庁

The molten steel sample in a tundish is collected during the period starting at a laddle replacing part before the injection amt. of molten steel into a mold becomes 1.5 times the vol. of the tundish to perform primary judgment and only a cast piece wherein accuracy equal to or more than primary judgment is required is subjected to secondary judgment accompanied by cast piece analysis to realize inexpensive and accurate judgment.例文帳に追加

鍋交換部を起点として、モールド内への溶鋼注入量がタンディッシュ容量の１．５倍になるまでの間にタンディッシュ内溶鋼サンプルを採取し、一次判定を行い、一次判定以上の精度が求められる鋳片のみに鋳片分析を伴う二次判定に供することにより安価で正確な判定を実現する。 - 特許庁

An electric current Ia of a primary electron beam 4 limited by a current limiting choke 17 and a electric current Ip of the primary electron beam 4 irradiated to a sample 12 are detected, and firstly an electron gun power supply 6 is controlled so that Ia+Ip is constant, and secondly the focusing lens controlling power supply 7 is controlled so that Ip/(Ia+Ip) is constant.例文帳に追加

電流制限絞り１７により制限される一次電子線４の電流Ｉａと試料１２に照射される一次電子線４の電流Ｉｐを検出し、先ず、Ｉａ＋Ｉｐが一定になるように電子銃電源６を制御し、次に、Ｉｐ／（Ｉａ＋Ｉｐ）が一定になるように集束レンズ制御電源７を制御する。 - 特許庁

Moreover, primary beam enters through the measurement hole 12 in the vicinity of the probe point 8 to detect secondary beam radiated from the surface of the sample in the surroundings, and primary beam is irradiated from the surroundings to detect secondary beam through the measurement hole 12, so that high precision property of AFM measurement and SNOM measurement are compatible.例文帳に追加

また、探針点８の近傍にある測定孔１２から１次ビームを入射させて試料表面から放出される２次ビームを周辺で検出したり、周辺から１次ビームを照射して測定孔１２を通して２次ビームを検出することもでき、ＡＦＭ測定の高精度性とＳＮＯＭ測定を両立させることに成功したものである。 - 特許庁

Current Ia of a primary electron beam 4 limited by a current- limiting diaphragm 17 and current Ip of the primary electron beam 4 irradiated on a sample 12 are detected, and first, an electron gun power source 6 is controlled so as to set Ia+Ip constant, and then, a focusing lens controlling power source 7 is controlled so as to set Ip/(Ia+Ip) constant.例文帳に追加

電流制限絞り１７により制限される一次電子線４の電流Ｉａと試料１２に照射される一次電子線４の電流Ｉｐを検出し、先ず、Ｉａ＋Ｉｐが一定になるように電子銃電源６を制御し、次に、Ｉｐ／（Ｉａ＋Ｉｐ）が一定になるように集束レンズ制御電源７を制御する。 - 特許庁

The mapping type electron microscope includes an illuminating system which irradiates a primary electron beam onto a sample, and the projection imaging optical system 24 which guides a secondary beam irradiated from the sample to a detection system, and the projection imaging optical system 24 is provided with the transfer lens system 24b, having a first zooming lens 6a and a second zooming lens 6b.例文帳に追加

試料を照射する１次電子ビームを放出する照射系と、試料から放出された２次電子ビームを検出系へ導く投影結像光学系２４とを備える写像型電子顕微鏡の投影結像光学系２４は、第１のズームレンズ６ａと第２のズームレンズ６ｂとを有するトランスファー・レンズ系２４ｂを備える。 - 特許庁

A sample surface roughness and/or an attenuation depth are measured by changing a primary ion incident angle by using incidence energy as a parameter, and, in a range of a domain wherein an incidence energy is high, an incident angle range wherein the sample surface roughness and/or the attenuation depth have each minimal value is found out in the range, and SIMS measurement is performed under this condition.例文帳に追加

入射エネルギーをパラメータとして試料表面粗さ、および／または減衰深さを、一次イオン入射角度を変化させて測定し、入射エネルギー領域が高い領域の範囲において、かつその範囲で試料表面粗さ、および／または減衰深さが極小値をもつ入射角度範囲を見出し、その条件下でＳＩＭＳの測定を行う。 - 特許庁

Primary X rays consisting of either non-dispersed white X rays or dispersed monochromatic X rays are collimated or condensed by an X-ray mirror 2 and enter the surface of a sample 3 at an incident angle near a total reflection critical angle, and fluorescence X rays 4 from the sample 3 are measured by a wavelength dispersion system.例文帳に追加

分光していない白色Ｘ線或いは分光した単色Ｘ線のいずれかからなる一次Ｘ線１をＸ線ミラー２によって平行化或いは集光したのち、試料３の表面に全反射臨界角近傍の入射角で入射させ、試料３からの蛍光Ｘ線４を波長分散方式で測定する。 - 特許庁

The electron beam device comprises a primary optical system 10 which scans a plurality of locations on the sample by a plurality of electron beams, a secondary optical system 20 which converges the secondary electrons emitted from the sample S by the scanning of electron beams into a plurality of secondary electrons and introduces into each detector 31, and a detection system 30 which detects respectively the plurality of introduced secondary electrons.例文帳に追加

複数の電子ビームで試料上の複数の箇所を走査する一次光学系１０と、電子ビームの走査により試料Ｓから放出された二次電子を複数の二次電子に集束して、各々の検出器３１に導入する二次光学系２０と、導入された複数の二次電子をそれぞれ検出する検出系３０とを備えている。 - 特許庁

To reduce blur in a time-of-flight secondary ion mass analysis spectrometer, by obtaining spread of a primary beam irradiated into a sample numerically or experimentally, and by using this spread as a blurring function and restoring an image.例文帳に追加

飛行時間型二次イオン質量分析装置において、試料へ照射される一次試料へ照射される一次ビームの広がりを、数値あるいは実験的で求め、この広がりをボケ関数として用い、画像復元することにより、ボケを低減する。 - 特許庁