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process processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7866件
To provide a new mechanism for conveying a web of brittle material from an upstream process to a downstream process when manufacturing or processing of the web.例文帳に追加
脆弱材料ウェブの製造及び処理において、上流プロセスから下流プロセスにウェブを搬送するための新たな機構を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which can be effectively inspected even in a transfer process and a thin-film processing process.例文帳に追加
転写工程や薄膜加工工程においても効果的に検査が行える半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a process for joining carbon steel and zirconia ceramic having a short processing time and high joining strength, and a composite article made by this process.例文帳に追加
加工時間が短く結合強度が高いカーボンスチールとジルコニアセラミックとの接合方法及びこの方法で得た接合部品を提供する。 - 特許庁
To process a substrate comprising a resist layer overlying a dielectric feature, in a substrate processing chamber comprising an antenna, and first and second process electrodes.例文帳に追加
誘電体フィーチャを覆うレジスト層を備える基板を、アンテナ、第1及び第2処理電極を備える基板処理チャンバ内で処理する。 - 特許庁
A business process definition part 5 defines the flow of information between a series of work processes constituting a business process and specification of option processing.例文帳に追加
業務プロセス定義部5は、業務プロセスを構成する一連の作業工程間の情報の流れ及びオプション処理の指定を定義する。 - 特許庁
It is confirmed that a job instructs the performance of multiple processing using the XML language, and when it has been confirmed that the job includes a process that cannot be performed by a job processing means, the job processing means is caused to perform a process that the job processing means is capable of performing among the multiple processing.例文帳に追加
XML言語を用いて複数の処理の実行を指示されたジョブに指示されている複数の処理を確認し、当該ジョブがジョブ処理手段によって実行不可能な処理を含んでいると確認された場合に、複数の処理のうち、ジョブ処理手段が実行可能な処理を当該ジョブ処理手段に実行させる。 - 特許庁
This wafer processing apparatus is provided with a first wafer transporter and a process station coupled to the first wafer transporter, wherein the process station includes a first plurality of wafer processing stacks of which the each of the plurality of wafer processing stacks is coupled to a plurality of wafer processing modules, and a second wafer transporter coupled to the plurality of wafer processing modules.例文帳に追加
ウエハ処理装置は、第1のウエハ搬送装置と、第1のウエハ搬送装置に連結される処理ステーションとを備え、該処理ステーションが、各々が複数のウエハ処理モジュールに連結される第1の複数のウエハ処理スタックと、複数のウエハ処理モジュールに連結される第2のウエハ搬送装置を備える。 - 特許庁
The super-resolution processing is performed, by dividing into a plurality of process areas so that the image quality will not be degraded and processing can be finalized, within a required time from the predication of the process time, concerning super-resolution processing when execution of divided processing time and the area of degradation of resolution which may be generated at both the ends of the processing areas.例文帳に追加
画像を分割実行した時の超解像処理にかかる実行時間の予測と、処理領域の両端で発生し得る画質の劣化の範囲から、画質が劣化しないように、かつ、要求された時間内で処理を終了するように入力画像を複数の処理領域に分割して超解像処理を行う。 - 特許庁
The method for producing a cheese source comprises (a) a process of heating an aqueous dispersion solution containing cheese but no starch, (b) a process of homogenizing the aqueous dispersion solution passed through the process (a), (c) a process of mixing the homogenized processing solution obtained in the process (b), and a process (d) of heating the mixture obtained in the process (c).例文帳に追加
(a)澱粉を含まず、チーズを含有する水分散液を加熱する工程と、(b)工程(a)を経た前記水分散液を均質化処理する工程と、(c)工程(b)で得られた均質化処理液と澱粉とを混合する工程と、(d)工程(c)で得られた混合物を加熱する工程と、を含むことを特徴とする、チーズソースの製造方法。 - 特許庁
The method for producing carbonara source comprises (a) a process of heating an aqueous dispersion solution containing egg yolk and cheese but no starch, (b) a process of homogenizing the aqueous dispersion solution passed through the process (a), (c) a process of mixing the homogenized processing solution obtained in the process (b), and a process (d) of heating the mixture obtained in the process (c).例文帳に追加
(a)澱粉を含まず、卵黄及びチーズを含有する水分散液を加熱する工程と、(b)工程(a)を経た前記水分散液を均質化処理する工程と、(c)工程(b)で得られた均質化処理液と澱粉とを混合する工程と、(d)工程(c)で得られた混合物を加熱する工程と、を含むことを特徴とする、カルボナーラソースの製造方法。 - 特許庁
To carry a carrying vessel between a right side process chamber and a left side process chamber of a carrying chamber, in a processing facility such as a factory having a stacker crane for carrying the carrying vessel for storing a processing object and a processing material inside, and a plurality of process chambers arranged on both sides of the carrying chamber for making this stacker crane travel and successively processing the processing object.例文帳に追加
被処理物や処理物が内部に収納された搬送容器を搬送するスタッカークレーンと、このスタッカークレーンが走行する搬送室の両側に配置され、被処理物に対して順次処理を行うための複数の工程室と、を備えた工場などの処理設備において、搬送室の右側の工程室と左側の工程室との間において搬送容器を搬送すること。 - 特許庁
The chemical substance mass contained in the design process and the processing process is calculated by use of five kinds of data, i.e., component data usable in the product, data on chemical substance contained in each component, processing process data generated by combination of the components, data on chemical substance used in the processing process, and data on the regulation conditions of the law or the like.例文帳に追加
上記課題を解決するために、製品で使用可能な部品データ、各部品に含まれている化学物質データ、部品の組み合わせによって発生する加工プロセスデータ、加工プロセスに使用される化学物質データ、法律等の規制条件データの5種類のデータを使って、設計プロセスおよび加工プロセスで含まれる化学物質量を算出する - 特許庁
The processing condition in the shot blasting process is set from a process to compute a hit-mark unit area from projecting material hardness, a projecting material particle diameter, projecting material speed and processing product hardness given previously, a process to compute the number of the hit-marks required to be a previously given target hit-mark rate and a process to compute processing time.例文帳に追加
予め与えられた投射材硬度、投射材粒径、投射材速度、処理製品硬度から打痕単位面積を算出する工程、予め与えられた目標の打痕率となるよう必要な打痕数を算出する工程、および処理時間を算出する工程からショットブラスト処理における処理条件を設定する。 - 特許庁
After processing at such a process pressure and flow rate, even a lower level of oxygen contamination may be achieved by then increasing the process pressure, hydrogen flow rate, and process temperature, through the process temperature still remains less than 800°C.例文帳に追加
こうした処理圧力及び流量で処理後、処理温度は800未満のままであっても、処理圧力、水素流量、及び処理温度を増大することによって、さらに低いレベルの酸素汚染を達成可能である。 - 特許庁
In a multi-control processing process 33, voice data after the extension processing are selected in accordance with the setting of an operation control and state display processing process 34 and output to a D/A conversion + voice playback processing section 23 together with playback information instructing contents of playback by speakers 15a, 15b.例文帳に追加
マルチ制御処理プロセス33は、伸長処理後の音声データを操作制御・状態表示処理プロセス34の設定に従って選択し、スピーカ15a、15bによる再生内容を指示する再生情報と共にD/A変換+音声再生処理部23へ出力する。 - 特許庁
Specially, the processing part 54 performs the process of carrying out the process so that the processing intensity gradually decreases from inside the processing object area toward the peripheral edge at the part in the source image corresponding to the outline of the specific line width by an outline processing part 54a.例文帳に追加
特に、処理部54では、元画像データ上の前記所定の線幅の輪郭線に対応する部分においては、前記処理対象領域の内側から周縁に向かって処理強度が漸次低下するように前記処理を施す処理を、輪郭線処理部54aによって行なう。 - 特許庁
To provide a cleaning and processing method dispensing with processing of sand and a process for returning sand to a sea bottom during the separation processing process of muddy water and capable of efficiently performing the cleaning processing of sea bottom muddy sand.例文帳に追加
泥水で海水を汚損することがなく、掻きあげた汚濁物と砂を有効に分離することにより、泥水分離処理工程時の砂の処理と砂を海底に戻す別工程が不要になり、かつ、海底泥砂の浄化処理が能率よく行なえる浄化処理方法を提供する。 - 特許庁
An arithmetic processing part 106 of a graphic processor 100 alternatively executes a first image processing process for generating a base image being the main image of an application and a second image processing process for generating a display image for operating desired processing to a base image, and for finally displaying it.例文帳に追加
グラフィックプロセッサ100の演算処理部106は、アプリケーションの主たる画像であるベース画像を生成する第1画像処理プロセスと、ベース画像に所望の処理を施し最終的に表示する表示画像を生成する第2画像処理プロセスとを交互に実行する。 - 特許庁
A method of improving throughput in a semiconductor wafer deposition process in a high-density plasma processing chamber, comprises a step of processing a first wafer within the high-density plasma processing chamber using a process including high output sufficient for burning out fluorosilicate glass residue in the processing chamber.例文帳に追加
高密度プラズマ処理室内の半導体ウエハ堆積工程の処理量を改善する方法は、処理室内のフオロ珪酸塩ガラス残留物を焼き尽くすのに十分な高出力を含む工程を用いて、高密度プラズマ処理室内で第1のウエハを処理する工程を含む。 - 特許庁
In this data tabulation processing method, process metadata 207 of batch processing is reorganized and the information that processing can be performed suitably is maintained, and thereby, a data processing process 309 is suitably performed at the timing of generating update information at each business system 101, enabling management and disclosure of pre-tabulation results.例文帳に追加
バッチ処理のプロセスメタデータ207を再編成し、適宜処理が実行可能な情報を保持することにより、各業務システム101において更新情報が発生するタイミングで適宜データ加工プロセス309を実行し、プレ集計結果を管理・公開可能とする。 - 特許庁
A film forming process of supplying a processing gas into a vacuum processing chamber 2, generating decomposition seeds through a heating catalyst 6, and depositing a deposit on a board 5, an etching process of dry- etching a thin film, and a cleaning process of cleaning the inside of the chamber are carried out.例文帳に追加
真空のプロセスチェンバー2内にプロセスガスを供給し、加熱触媒体6により分解種を生成して、基板5上に堆積物を堆積する成膜プロセス、薄膜をドライエッチングするプロセス又はチェンバー内をクリーニングするプロセスを実施する。 - 特許庁
When a photography image is acquired by a camera 8, a process content of image processing to be applied to the photography image is separated into two or more process units by a control unit 13 in the portable telephone 1, and the image processing is performed for each separated separation process.例文帳に追加
携帯電話機1では、カメラ8により撮像画像が取得されると、制御部13によりこの撮像画像に施す画像処理の処理内容を複数の処理単位に分割し、当該分割された分割処理毎に画像処理を行う。 - 特許庁
This measurement program makes a computer output synchronous waiting time after measurement processing is performed as a process and is synchronous with the other first process and perform the measurement processing for performing the first communication with the other first process.例文帳に追加
本発明の一実施形態の測定プログラムは、コンピュータに、プロセスとして実行されて、第1の他プロセスと同期をとった後、当該同期の待ち時間の出力、および、当該第1の他プロセスとの第1の通信を行う測定処理を実行させる。 - 特許庁
To control a drawing process and an image processing process by using the smallest possible buffer memory in a system which draws an image in each tile using a plurality of drawing sections and performs image processing requiring reference pixels in each tile in the subsequent process.例文帳に追加
複数の描画部によりタイル毎に画像を描画し、次工程でタイル毎に参照画素を要する画処理を行うシステムにおいて、描画工程と画像処理工程とを可能な限り少ないバッファメモリを用いて制御することを目的とする。 - 特許庁
Further, a correspondence process stable 80 in which priority for execution of a process of an application is set and a protocol processing priority table 90 in which priority for execution of protocol processing to a packet to be processed by the process are referred to.例文帳に追加
さらに、アプリケーションのプロセスを実行する優先度が設定された対応プロセステーブル80及びそのプロセスにより処理されるパケットに対するプロトコル処理を実行する優先度が設定されたプロトコル処理優先度テーブル90を参照する。 - 特許庁
A no presence element addition processing part 108 obtains the process information from the process information DB100, and generates a no presence element showing that the act is not present in the process about the act which is not included in the obtained process information among the acts included in the standard process information in the standard process information DB102.例文帳に追加
不在要素追加処理部108は、プロセス情報をプロセス情報DB100から取得し、標準プロセス情報DB102中の標準プロセス情報に含まれる行為のうち取得したプロセス情報に含まれない行為について、当該行為が当該プロセス中に不在である旨を表す不在要素を生成する。 - 特許庁
A micro-device manufacturing method includes a molding substrate preparation process S10 for preparing the molding substrate, a rough processing process S20 for roughly processing the surface of the molding substrate by using a laser processing device, and a finishing process S30 for finish treating the surface of the molding substrate by using a convergent ion beam processing device in turn.例文帳に追加
成形基材を準備する成形基材準備工程S10と、レーザ加工装置を用いて成型基材の表面を粗加工する粗加工工程S20と、集束イオンビーム加工装置を用いて成型基材の表面を仕上げ加工する仕上げ加工工程S30とをこの順序で含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。 - 特許庁
The paper carrying part includes a first route 91 for guiding paper as a processing target of a first printing process to the printing part 89 during duplex printing processing and a second route 92 for guiding paper as a processing target of a second printing process after the first printing process is applied to the printing part 89 during duplex printing processing.例文帳に追加
前記用紙搬送部は、両面印刷処理時において1回目の印刷処理の処理対象となる用紙を前記印刷部へ案内する第1経路91と、両面印刷処理時において1回目の印刷処理が施された後且つ2回目の印刷処理の処理対象となる用紙を前記印刷部へ案内する第2経路92とを含む。 - 特許庁
Then process areas A, B, C and contents of gradation processing of each process area are set to an original read by a scanner 20, an area processing section 212 transmits the setting contents in each process area to a CPU 131 at reading and the CPU 131 transfers programs required for the setting gradation processing to a gradation processing section 210.例文帳に追加
そして、スキャナ20によって読み取る原稿に処理領域A,B,Cと、処理領域毎の階調処理の内容を設定し、読み取り時にエリア処理部212が各処理領域における設定内容をCPU131に伝達し、設定された階調処理に必要なプログラムをCPU131が階調処理部210に転送する。 - 特許庁
The mother pipe for bulging is produced through a first processing process in which a material 1 is formed into the mother pipe for bulging and through a second processing process in which the material 1 is processed to make bulging easier, and the second processing is carried out before the first processing process is completed.例文帳に追加
被成形材1に第1の加工を行ってバルジ加工用素管を製造するための第1の加工工程と、被成形材1にバルジ加工を容易化するための第2の加工を行うための第2の加工工程とを経てバルジ加工用素管を製造する際に、第2の加工が、第1の加工工程が完了する前に行われる。 - 特許庁
To provide a processing method using a liquid which prevents undissolved components contained in a process liquid from adhering to a substrate such as semiconductor wafer to be processed and reduces the residual liquid of the process liquid in processing the substrate, etc., with the liquid.例文帳に追加
半導体ウエハ等の基板を液処理する際に、基板上への処理液に含まれる不溶解物のウエハへの付着を防止しつつ、処理液の残渣を低減する液処理方法を提供する。 - 特許庁
A horizontal edge extraction processing part 70 performs a first time horizontal edge extraction process to an input image and a second time horizontal edge extraction process to an image processed by an expansion processing part 73.例文帳に追加
水平エッジ抽出処理部70は、入力画像に対する1回目の水平エッジ抽出処理と膨張処理部73が処理した画像に対する2回目の水平エッジ抽出処理を実行する。 - 特許庁
The structure of parallel application is divided into three parts of application, task, and light process so as to eliminate the need of describing the control or synchronous processing required for parallel processing in the light-weight process described by a programmer.例文帳に追加
並列アプリケーションの構造をアプリケーション、タスク、軽量プロセスの3つに分け、プログラマが記述する軽量プロセスに並列処理に必要な制御や同期処理の記述を必要としないようにした。 - 特許庁
The internal processing section 262 executes a uniformization process to the inside of the object site in the volume data, and the boundary processing section 264 executes a gradation process to a boundary between the object side and the other sites in the volume data.例文帳に追加
内部処理部262はボリュームデータ内の対象部位の内部に均一化処理を施し、境界処理部264はボリュームデータ内の対象部位と他部位との境界にグラデーション処理を施す。 - 特許庁
When the output of the specific information 12 and the processing process information from the processes 24a, 24b, and so on is confirmed, a series of the outputted specific information 12 and processing process information is preserved in a data base 25.例文帳に追加
処理装置24a,24b…からの固有情報12および処理プロセス情報の出力が確認されたとき、出力された固有情報12および処理プロセス情報を一連にデータベース25に保存する。 - 特許庁
To provide an image processing program and an image processing device for transmitting information between a process using a paper document and a process using an electronic document created by means of the paper document.例文帳に追加
紙文書による工程とその紙文書に基づき生成された電子文書による工程との間で情報伝達を行うことができる画像処理プログラム及び画像処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a novel technology of limiting image browsing without the need for revising an image compression encoding process and an image decoding expansion process, with respect to an image processing apparatus for processing image encoded data.例文帳に追加
画像の符号化データを処理する画像処理装置において、画像の圧縮符号化プロセス及び復号伸長プロセスを変更することなく、画像の閲覧を制限する新しい技術を提案する。 - 特許庁
The plasma processing device blows out process gas passed through a plasma discharge space 50 laid between electrodes 31, 32 from the blowoff nozzle 51, and makes the process gas contact a base material W arranged at a processing position located outside the space 50.例文帳に追加
プラズマ処理装置は、電極31,32間のプラズマ放電空間50に通したプロセスガスを吹出し口51から吹出し、空間50の外部の処理位置に配置された基材Wに接触させる。 - 特許庁
A subtractor 4 outputs a signal, given by subtracting the process result of the second signal processing unit 3, from the process result of the first signal processing unit 2 as an oscillation component extracted from the internal state quantities.例文帳に追加
減算器4は、第1の信号処理部2の処理結果から第2の信号処理部3の処理結果を減算した信号を前記内部状態量から抽出した発振成分として出力する。 - 特許庁
The server device 1 has a process check support information database 11 and is provided with an information output process part 12, an information selection processing part 13, and an information input processing part 14.例文帳に追加
また、サーバ装置1は、工程監査支援情報データベース11を有すると共に、情報出力処理部12と情報選択処理部13と情報入力処理部14が設けられている。 - 特許庁
This simulation method for a series of semiconductor manufacturing processes having a process (for example, processes 5 and 8) whose processing time is not included in parameters and a process (processes 6 and 9) whose processing is included as one of parameters.例文帳に追加
処理時間をパラメータに含まない工程(たとえば工程5,8)と処理時間をパラメータの1つとして含む工程(工程6,9)とを有する一連の半導体製造工程のシミュレーション方法である。 - 特許庁
In the manufacturing method of an aluminum electrode foil for electrolytic capacitors, a cleaning process for cleaning an etching foil of each electrolytic capacitor by a cleaning liquid is performed, after an etching process for its aluminum foil and before an post-processing for forming a post-processing coating on the surface of its etching foil.例文帳に追加
アルミニウム箔に対するエッチング工程の後、エッチング箔表面に後処理皮膜を形成する後処理工程の前に、エッチング箔を洗浄液で洗浄する洗浄工程を行う。 - 特許庁
Moisture and/or inert gas is added to process gas in a surface processing method where the surfaces of the processed member are subjected to plasma processing in the presence of process gas in a chamber.例文帳に追加
プロセスガスの存在下のチャンバ内で被処理部材の各面をプラズマ処理にて加工する表面処理方法において、上記プロセスガスに水分及び不活性ガスのうち少なくともいずれかをを添加する。 - 特許庁
In screen processing to be performed in the process, for the color signals of process colors in the metallic color signals, screen processing of higher number line than a usual case is performed to realize the same appearance as a solid image of printing.例文帳に追加
その過程で行うスクリーン処理において、メタリック色信号中のプロセスカラーの色信号に対しては、通常より高線数のスクリーン処理を施して、印刷のベタと同様の見えを実現する。 - 特許庁
Afterwards, the program inputs the contents of the data descriptive records to processing to be assembled from the process descriptive records, and returns the judged result or processed result of the process identifier corresponding to the routine program processing.例文帳に追加
以降、プログラムは、データ記述レコードの内容をプロセス記述レコードから組み立てられる処理の入力とし定型プログラム処理に対応するプロセス識別子の判定結果または処理結果を返却する。 - 特許庁
To treat wastewater discharged from a semiconductor wafer processing process at a lower cost than ever by effectively utilizing peculiar discharged matters from the semiconductor wafer processing process in treatment reaction mutually to obtain water dischargeable to rivers.例文帳に追加
半導体ウェーハ加工工程で排出する特異な排出物を相互に有効利用して処理反応に使用し、従来よりも低コストで、河川に放流可能な水質に処理すること。 - 特許庁
Processing information including a configuration content of each process carried out by a processing section is stored in a storage section of the image forming apparatus by being correlated to a date/time that each process is carried out.例文帳に追加
画像形成装置の記憶部には、処理部によって実行された各々の処理の設定内容を含む処理情報が、各々の処理がなされた日時と対応付けて記憶されている。 - 特許庁
A restart processing part 109 specifies the range of the process to be restarted based on the relation between the processes configuring the function and the process whose abnormality has been detected, and performs processing for restart.例文帳に追加
再起動処理部109は、当該機能を構成するプロセス間の関係と、異常が検出されたプロセスとに基づいて、再起動させるプロセスの範囲を特定し、再起動のための処理を行なう。 - 特許庁
To provide a production process managing device that can reduce the change amount of processing caused by the addition or change of kind of article and the change of activation interlock and can enhance the accuracy of process start managing processing.例文帳に追加
品種の追加、変更および起動インターロックの変更から生じる処理の変更量を少なくし、工程起動管理処理の精度を高めることのできる製造工程管理装置を得る。 - 特許庁
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