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process processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7866件
The processing program 3 has a plurality of process program parts 6, in which positioning coordinates are stated respectively and which are for operating the prescribed processing means 58-60, regarding the processing control at the composite processing part WA.例文帳に追加
加工プログラム3は、複合加工部分WAの加工制御について、それぞれ位置決め座標が記述され所定の加工手段58〜60を動作させる工程プログラム部分6を複数有する。 - 特許庁
To obtain a photosensitive material process cartridge constituted so that processing solution is not spilled or scattered to and around a place for processing photosensitive material, and a photosensitive material processing device and a photosensitive material processing method.例文帳に追加
感光材料を処理する場所やその周囲に処理液がこぼれたり飛散することがない感光材料処理カートリッジ、感光材料処理装置、及び感光材料処理方法を得る。 - 特許庁
To provide a processing condition inspection method of damage recovery processing in which process recognition can be performed merely through the damage recovery processing and a change in processing conditions can be detected with high sensitivity.例文帳に追加
ダメージ回復処理単独でのプロセス確認を行うことができ、プロセス条件のずれを高感度で検出することができるダメージ回復処理の処理条件検査方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a processing system device of a workpiece with which a difference between devices is eliminated and the same processing result can be obtained even if a processing is performed in a different processing chamber by using the same process recipe.例文帳に追加
同一のプロセスレシピを用いて異なる処理チャンバで処理を行っても装置間差をなくして同一の処理結果を得ることが可能な被処理体の処理システム装置を提供する。 - 特許庁
A metal-containing film is formed on a substrate by performing a cycle including a process to supply a metal-containing gas into a processing room which stores the substrate, a process to supply a nitrogen-containing gas into the processing room, a process to supply an oxygen-containing gas or a halogen-containing gas into the processing room multiple times.例文帳に追加
基板を収容した処理室に金属含有ガスを供給する工程と、処理室に窒素含有ガスを供給する工程と、処理室に酸素含有ガス又はハロゲン含有ガスを供給する工程と、を含むサイクルを複数回行うことで、基板に金属含有膜を形成する。 - 特許庁
In vacuum cooling the cooled object received in the processing tank, a rapid cooling process for reducing pressure in the processing tank to set pressure P1, and a slow cooling process for further reducing the pressure in the processing tank while lowering a pressure reducing capacity in comparison with that in the rapid cooling process are successively executed.例文帳に追加
処理槽内に収容された被冷却物を真空冷却する際、処理槽内を設定圧力P1まで減圧する急冷工程と、この急冷工程よりも減圧能力を低くして処理槽内をさらに減圧する徐冷工程とを順に実行する。 - 特許庁
The manufacturing method includes a hole-processing process to form the plurality of the through-holes by performing hole-processing and a spray process to form a sprayed film by performing a plasma spray treatment against a supply surface on the side facing to the plasma generation region after the hole-processing process.例文帳に追加
穴あけ加工を行なって、前記複数の貫通穴を形成する穴加工工程と、 前記穴加工工程の後に、プラズマの生成領域に対面する側の供給面に、プラズマ溶射処理によって、溶射膜を形成する溶射工程とを有することで上記課題を解決する。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus providing a stable processing result even when variation exists in a process by adding a process model expressing a variation in a state of a process processor to a control loop in Run-to-Run control for changing a processing condition in each wafer treatment.例文帳に追加
ウエハ処理毎に処理条件を変更するRun-to-Run制御において、制御ループにプロセス処理装置の状態の変動を表すプロセスモデルを付加することによりプロセスに変動が存在する場合においても、安定な処理結果を得ることのできるプラズマ処理装置の提供。 - 特許庁
Therein, a part of a defect or the like contained in the polarizing film is cut and removed in the cutting process and, moreover, a time delayed by the processing is reduced by adjusting the processing speed of at least the cutting mechanism side among respective processing mechanisms disposed in the cutting process and the attachment process.例文帳に追加
このとき、偏光フィルムに含まれる欠損などの部分を切断工程で切断除去しつつも、この処理により遅延する時間を切断工程と貼合せ工程に備わった各処理機構のうち、少なくとも切断機構側の処理機構の処理速度を調節して短縮する。 - 特許庁
When the post processing by the post processing part is judged to be inexecutable by the judging process of the control part 310, a resetting part 218 is provided to carry out resetting of the second printing data 11a so that the printing process is one including the post process which is executable by the post processing part 17.例文帳に追加
制御部310が判断処理にて後処理部による後処理を実行不可能と判断した場合に、後処理部17にて実行可能な後処理を含む印刷処理となるように第二の印刷データ11aの再設定を行うための再設定部218を備える。 - 特許庁
To provide a processing system to process an object using a reaction gas activated by a particle beam which uses a small gas supply device, inspects the object during the processing to monitor and control the processing state.例文帳に追加
粒子ビームによって活性化された反応ガスを用いて物体を加工する加工システムであって、小型のガス供給装置を用いた加工システムを提供する。 - 特許庁
When a processing solution is discharged from a lower processing-solution outlet 37, the processing solution is supplied to the substrate side space S1a to process the lower surface of the wafer W.例文帳に追加
下側処理液吐出口37から処理液が吐出されることにより、基板側の空間S1aに処理液が供給され、ウエハWの下面が処理される。 - 特許庁
The correction processing part 6 receives images for a page from the page memory 4, specifies a document in a predetermined process and stocks a processing command corresponding to the document in a correction processing memory 5.例文帳に追加
加筆処理部6は、ページメモリ4からページ分の画像を受け取り、所定のプロセスで帳票を特定し帳票に応じた処理コマンドを加筆処理メモリ5に蓄積する。 - 特許庁
To provide a moving image processing apparatus for optimally processing video by incorporating an image quality improving process in accordance with a calculation processing volume of a video signal and a use condition.例文帳に追加
映像信号における演算処理量および使用状況に応じて高画質化処理を組み入れ、最適に映像処理する動画処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a laser processing device and a laser processing method which increase the use efficiency or process accuracy of energy and enable a concurrent processing at a plurality of fine sites at a narrow pitch.例文帳に追加
エネルギの利用効率や処理精度を高め、狭ピッチの複数の微小箇所の同時処理を可能にしたレーザ処理装置及びレーザ処理方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate processing device and a substrate processing method for improving in-plane uniformity in the processing for the main surface of the substrate using a process liquid.例文帳に追加
基板の主面に対する処理液を用いた処理の面内均一性の向上を図ることができる、基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁
To reduce the processing burden due to unnecessary processing by a human interface in process by limiting a processing function provided on the human interface.例文帳に追加
1つのヒューマンインターフェースが備える処理機能を限定し、それにより処理中のヒューマンインターフェースで不要な処理を持つことによる処理負担の軽減を図ること。 - 特許庁
On the other hand, a pixel value of the left processing target pixel out of the two processing target pixels is necessarily found out in a calculation process of the pixel value of the right processing target pixel.例文帳に追加
一方、上記2つの処理対象画素のうちの左側のものの画素値については、同右側の処理対象画素の画素値の算出過程で必然的に求まる。 - 特許庁
A cut-ears processing device 14 is arranged at a position for the processing material to be dropped in order to process the processing materials occurring when threshing grain straws 22 in a threshing cylinder 13.例文帳に追加
穂切れ処理装置14は、扱胴13で穀稈22を脱穀する際に発生した被処理物を処理するために、前記被処理物の落下位置に配置される。 - 特許庁
To provide a processing shape recognition technique rich in expandability and flexibility according to changes in processing shape in a process of extracting a processing shape from three-dimensional data.例文帳に追加
3次元データから加工形状を抽出する工程において加工形状の変化に応じた拡張性や柔軟性に富む加工形状認識技術を提供する。 - 特許庁
A processing system 10 for processing substrate comprises a processing chamber 14 having a top section 20, bottom section 22, and a sidewall 24 for defining a process space 26 therein.例文帳に追加
基板を処理するための処理システム(10)は、その中にプロセス空間(26)を規定する、頂部(20)、底部(22)、および側壁(24)を有する反応室(14)を含む。 - 特許庁
The lens centering and edging processing device has a body for processing 1 equipped with a pair of bell holders 2 and 3 positioned opposing and a processing means 4 to process the peripheral surface of a lens 300.例文帳に追加
レンズ芯取り加工装置は、対向する一対のベルホルダ2,3及びレンズ300の外周面を加工する加工手段4を加工本体1に備える。 - 特許庁
The output of specific information 12 of each panel 11 and processing process information at the time of processing the panel 11 from processors 24a, 24b, and so on for processing the panel 11 is monitored.例文帳に追加
パネル11に処理を施す処理装置24a,24b…からパネル11毎の固有情報12およびこのパネル11に処理を施したときの処理プロセス情報が出力されるのを監視する。 - 特許庁
A color correction processing part 1002 executes high density process control processing based on the first density, and halftone calibration processing based on the second density.例文帳に追加
そして、色補正処理部1002は、前記第1濃度に基づき高濃度プロセスコントロール処理を実行し、かつ、第2濃度に基づき中間調キャリブレーション処理を実行する。 - 特許庁
A connection cell reception processing part 105 performs singular value decomposition processing in a process of reception processing to the signals of the connection cell, and calculates a channel capacity of the connection cell.例文帳に追加
接続セル受信処理部105は、接続セルの信号に対する受信処理の過程で特異値分解処理を行うとともに、接続セルのチャネル容量を算出する。 - 特許庁
To easily remodel a processing facility after construction, while easily laying out a factory, in the processing facility provided with a plurality of process chambers for providing a processing material by processing a processing object.例文帳に追加
被処理物に対して処理を行って処理物を得る工程室が複数設けられた処理設備において、工場のレイアウトを容易に行うことができると共に、処理設備を建設した後に簡便に改造できるようにする。 - 特許庁
The upper processing tool 2 and the lower processing tool 3 can move to each other by a processing tool driving system 4 to carry out the seal process, and the cover sheet and the carrier sheet are introduced between the upper processing tool 2 and the lower processing tool 3.例文帳に追加
上部加工具2と下部加工具3とが、シール工程を実行するために一つの加工具駆動系4により相互に可動であり、上部加工具2と下部加工具3との間にカバーシートとキャリアシートとが導かれる。 - 特許庁
In image processing which performs a processing aggregation including N (N is an integer of ≥3) pieces of unit processing recursively, the unit processing is processed in M (M is an integer of ≥2 and <N ) processing sections to perform the unit process.例文帳に追加
N個(Nは3以上の整数)の単位処理を含む処理集合を繰り返し実行する画像処理において、単位処理を実行するためのM個(Mは2以上でN未満の整数)の処理部で単位処理を実行させる。 - 特許庁
The print controller comprises an output-device specification processing unit 1251 for specifying an output device when performing a printing process by using a virtual printer driver 126, and a printer-driver management processing unit 1252 for performing a preparation process and an arrangement process for the printing process by the virtual printer driver 126.例文帳に追加
仮想プリンタードライバー126による印刷処理を行うときに、出力デバイスを特定する出力デバイス特定処理部1251と、仮想プリンタードライバー126による印刷処理を行うための準備処理及び整理処理を行うプリンタードライバー管理処理部1252を備える。 - 特許庁
A server 21 is equipped with: a basic database recording part 22; a process standard parameter file creation processing part 23; a process standard parameter file recording part 24; a process customize parameter file creation processing part 25; a process customize parameter file recording part 26; a library creation part 27; and a library recording part 28.例文帳に追加
サーバ21は、基本データベース記録部22と、プロセス標準パラメータファイル作成処理部23と、プロセス標準パラメータファイル記録部24と、プロセスカスタマイズパラメータファイル作成処理部25と、プロセスカスタマイズパラメータファイル記録部26と、ライブラリ作成部27と、ライブラリ記録部28とを具備する。 - 特許庁
The method includes an impregnation process (S14) wherein the lumber strip compressed in the compression process (S12) is immersed in a solution of an inorganic processing agent for shape stabilization, and a drying process (S16) wherein the lumber strip 10 impregnated with the processing agent solution in the impregnation process (S14) is dried for solidification.例文帳に追加
圧縮工程S12で圧縮された木材片を形状安定化用の無機質処理剤の溶液に浸漬する含浸工程S14と、含浸工程S14で処理剤溶液が含浸した木材片10を固化乾燥する乾燥工程S16とを備える。 - 特許庁
Then, based on the discriminated result by the scene discriminating process, the gradation processing condition for the linear image is set (S9) and gradation converting process (brightness compensation process and flare compensation process) for the linear image is carried out (S10 and S11) based on the set gradation processing condition.例文帳に追加
そして、シーン判別処理による判別結果に基づいて、前記リニア画像に対する階調処理条件を設定し(S9)、その設定された階調処理条件に基づいて、前記リニア画像に対する階調変換処理(明るさ補正処理及びフレア補正処理)を行う(S10,S11)。 - 特許庁
The information processor is provided with a 1st information processing means 12 for executing an abnormality monitoring program in a heat treatment process on the basis of these stored process data and a 2nd information processing means 13 for allowing the process data to correspond to the work data on the basis of the stored process data and work data.例文帳に追加
その記憶されたプロセスデータに基づき熱処理プロセスにおける異常監視プログラムを実行する第1情報処理手段12と、その記憶されたプロセスデータとワークデータとに基づき、そのプロセスデータとワークデータとを対応付ける第2情報処理手段13とを備える。 - 特許庁
The plasma processing apparatus is provided with a processing chamber 5 to which a processing substrate 4 is allocated therein, a gas inlet port 6 for introducing the gas into the processing chamber 5, and a plasma discharge generating unit which is provided within the processing chamber 5 to conduct the plasma process to the processing substrate 4.例文帳に追加
プラズマプロセス装置は、被処理基板4が内部に配置される処理室5と、処理室5の内部にガスを導入するガス導入口6と、処理室5の内部に設けられ、被処理基板4にプラズマ処理を施すプラズマ放電発生部とを備えている。 - 特許庁
To provide an arithmetic unit performing saturation process that can reduce a delay time relating to an arithmetic process and a saturation process to increase the processing speed.例文帳に追加
本発明は、飽和処理を行う演算装置において演算処理と飽和処理とに関係する遅延時間を低減し、処理の高速化を図ることが可能な演算装置を提供する。 - 特許庁
Thus, the second JPEG process is quickly initiated by reducing a processing amount of YC process used for the first JPEG process, shortening the amount of time elapsing till the initiation of the second photography.例文帳に追加
このように1回目のJPEG処理に伴うYC処理の処理量を減らすことによって2回目のJPEG処理を早く開始し、二枚目の撮影開始までの時間を縮める。 - 特許庁
The second communication means stores association information between a process ID for a process activated on the information processing apparatus and a logical ID that is previously assigned to the process.例文帳に追加
第2通信手段は、情報処理装置上で動作しているプロセスのプロセスIDと、該プロセスに予め割り当てられている論理IDと、の間の対応付け情報を格納する。 - 特許庁
When the process abnormality end is detected, the end code is obtained, the monitoring process definition file 3 is retrieved with the process name and the end code as a key and the corresponding linkage processing is retrieved and executed.例文帳に追加
プロセスの異常終了を検知するとその終了コードを取得し、プロセス名、終了コードをキーに監視プロセス定義ファイル3を検索し、対応する連動処理を検索、実行する。 - 特許庁
Then the process time required for the data processing of each representative sample is tabulated (S7) to calculate a process time per each unit figure from the process time and the number of figures in the representative sample.例文帳に追加
続いて、各代表サンプルのデータ処理にかかった処理時間を集計しS7、その処理時間と代表サンプルの図形数Fとから単位図形当たりの処理時間を算出する。 - 特許庁
The control part 43 changes the chuck voltage according to each process of plasma processing composed of a plurality of processes including an etching process, and in the etching process, applies a high voltage to the electrode plate 25d.例文帳に追加
制御部43は、エッチング工程を含む複数の工程からなるプラズマ処理の各工程に応じてチャック電圧を変更し、エッチング工程では高電圧を電極25dに印加する。 - 特許庁
An information processing apparatus 12 receives the image which has been subjected to the part of the DRM protection process, executes the remaining part of the DRM protection process with respect to the image, and outputs the image which has been subjected to the DRM protection process.例文帳に追加
情報処理装置12は、DRM保護処理の一部が実行された画像を入力し、画像に対してDRM保護処理の残部を実行し、DRM保護処理を実行した画像を出力する。 - 特許庁
To provide substrate processing equipment wherein no atmosphere outside a process chamber is sucked nor disturbs the air current in an adjoining process chamber, causing no degradation in process quality for the substrate.例文帳に追加
処理室外の雰囲気を吸い込んだり隣接する処理室の気流を乱したりすることがなく、基板の処理品質の低下が生じない基板処理装置を提供でする。 - 特許庁
The method of designing the semiconductor device includes a wiring data generation process (step S20), a first corrected data generation process (step S40), and an OPC (optical proximity correction) processing process (step S60).例文帳に追加
この半導体装置の設計方法は、配線データ生成工程(ステップS20)、第1補正後データ生成工程(ステップS40)、及びOPC処理工程(ステップS60)を備える。 - 特許庁
The substrate processor has a process container 10 for processing a silicon substrate 8 and a heater 55 for heating a silicon substrate 8 in the process container 10, a heater for heating the wall surface 11 of the process container 10.例文帳に追加
シリコン基板8を処理する処理容器10と、処理容器10内のシリコン基板8を加熱する加熱ヒータ55と、処理容器10の壁面11を加熱するヒータとを有する。 - 特許庁
To provide an information processor and an information processing method of server machine information for easily acquiring the machine information to process it by utilizing specifications of OPC (OLE for Process Control).例文帳に追加
OPC(OLE for Process Control)の仕様を利用することで、サーバマシン情報を容易に取得し、これを取り扱うことができるサーバマシン情報の情報処理装置および情報処理方法を提供する。 - 特許庁
This apparatus is provided with a high frequency wave introducing means 3 for introducing high frequency wave into the processing chamber 2, a discharge means 20 for discharging atmosphere in the processing chamber 2, and a process gas introducing means 12 for introducing process gas into the processing chamber 2.例文帳に追加
当該装置は、処理室2に高周波を導入する高周波導入手段3と、処理室2内の雰囲気を排気する排気手段20と、プロセスガスを処理室2内に導入するプロセスガス導入手段12とを備える。 - 特許庁
Since a burden due to the interrupting process of one central processing unit can be reduced and because of not going through the interrupting process in the one center processing unit, interrupt response of the other central processing unit becomes faster.例文帳に追加
一の中央処理装置の割り込み処理による負荷を軽減することができると共に、当該一の中央処理装置での割り込み処理を経由しないため、前記他の中央処理装置の割り込みレスポンスが速くなる。 - 特許庁
To provide an image signal processing device for performing a decoding process, a correction process, and the like, in order to follow a rapid scene change quickly to display an image clearly, and to provide its image signal processing method and its image signal processing program.例文帳に追加
急激なシーン変化にも迅速に追従して鮮明に画像を表示するために、復号処理、補正処理等を行なう映像信号処理装置、映像信号処理方法及び映像信号処理プログラムを提供すること。 - 特許庁
The second processing section inputs the (i-1)th process data output by the first processing section, processes a first data and outputs the result of processing as second process data.例文帳に追加
第2処理部は第1処理部の出力した、第i処理部は第i−1処理部の出力した第i−1処理データを入力して処理し、第1処理データを入力して処理し、処理した結果を第2処理データとして出力する。 - 特許庁
To provide an image processing system, an image processing device and an image processing program which can restrict a process to image data even at temporary password leakage, while allowing the process to a specified user.例文帳に追加
画像データに対する処理を特定ユーザに制限できるとともに、仮にパスワードの漏洩があった場合でも画像データに対する処理を制限することができる画像処理システム、画像処理装置及び画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁
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