「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(34ページ目) - Weblio英語例文検索

Furthermore, the method includes (c) a step in which photosensitive resin films are formed on the level-difference resins 64, 68 and (d) a step in which the photosensitive resin film is subjected to a photoengraving process to form columnar spacers 67, 69 on the level-difference resin 64, 68.例文帳に追加

そして、（ｃ）段差樹脂６４，６８上に感光性樹脂膜を形成する工程と、（ｄ）感光性樹脂膜を写真製版して、段差樹脂６４，６８上に柱状スペーサ６７，６９を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The image processing system includes a means/step for recognizing the illuminating light applied to a display surface on which the display image is displayed, and a means/step for subjecting the display image to a predetermined process according to information about the illuminating light recognized.例文帳に追加

表示画像が表示される表示面に照射された照射光を認識する手段／ステップと、当該認識された照射光に関する情報に応じて表示画像に所定の処理を施す手段／ステップとを備える。 - 特許庁

The manufacturing method of the silicon carbide semiconductor device includes a process for forming passivation film on the silicon carbide wafer, before a process in which silicon carbide dust adheres to the silicon carbide wafer, a process for removing the silicon carbide dust by plasma etching, after the silicon carbide dust has adhered on the passivation filn, and a process for removing the passivation film after the plasma etching step.例文帳に追加

ＳｉＣ粉塵がＳｉＣウェハに付着する工程の前に、ＳｉＣウェハ上に保護膜を形成する工程と、ＳｉＣ粉塵が保護膜上に付着した後にプラズマエッチングによりＳｉＣ粉塵を除去する工程と、前記プラズマエッチング後に前記保護膜を除去する工程を含む炭化珪素半導体装置の製造方法とする。 - 特許庁

The pattern forming method comprises a process of forming a resin layer on a substrate, a process of pressing a mold with a pattern on the resin layer and a process of separating the mold from the substrate, and the process of forming the resin layer includes the step of forming at least two electrolyte layers on the substrate by adsorption.例文帳に追加

基板の上に、樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、パターンの形成されたモールドを押しつける工程と、前記モールドを前記基板から引き離す工程と、を備えたパターンの形成方法において、樹脂層を形成する工程として基板に２層以上の電解質膜を吸着させることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁

The heat treatment step consists of a first process for carburizing treatment or carburizing and quenching treatment, a second process for depositing fine globular carbides in a carburized layer with quenching treatment, and a third process for high concentration carburizing and quenching treatment to make the carbon concentration in a surface portion higher than the carbon concentration in the surface portion obtained in the first process.例文帳に追加

熱処理工程は、浸炭処理または浸炭焼入れ処理を施す第１工程と、焼入れ処理を施して浸炭層に微細球状炭化物を析出させる第２工程と、表面部の炭素濃度が上記第１工程で得られた表面部の炭素濃度よりも高濃度になるように高濃度浸炭焼入れ処理を施す第３工程とよりなる。 - 特許庁

A hard coat layer is formed by a hard coat layer forming process including: an application step of applying a hard coat liquid on a plastic substrate; a temporary firing step of preliminarily curing the hard coat liquid by a hydrolysis reaction; a moisturizing step of moisturizing the preliminarily cured hard coat layer; and a conclusive firing step of concluding the curing of the hard coat liquid by a further hydrolysis reaction.例文帳に追加

ハードコート層は、ハードコート液をプラスチック製の基材に塗布する塗布工程と、前記ハードコート液を加水分解反応により予備硬化させる仮焼成工程と、水分を予備硬化ハードコート層に添加する水分添加工程と、加水分解反応により前記ハードコート液の硬化を完結させる本焼成工程とを含むハードコート層形成工程により形成される。 - 特許庁

The process for manufacturing a semiconductor device comprises a step for forming a resist 6 containing a thermally crosslinking material on the surface of a semiconductor substrate 5, a step for pressing a mold 1 provided with a pattern 4 against the resist 6, a step for heating the resist 6 while pressing the mold 1 against the resist 6, and a step for patterning the resist 6 by removing it.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板５の表面上に、加熱により架橋する材料を含むレジスト６を形成する工程と、パターン４の形成されたモールド１をレジスト６に押し付ける工程と、モールド１をレジスト６に押し付けた状態で、レジスト６を加熱する工程と、レジスト６を除去することにより、レジスト６をパターニングする工程とを備えている。 - 特許庁

Malfunction of process in the plasma enhanced CVD system is confirmed by a method comprising a step for determining the historical gradient of partial pressure line as a function of time, a step for calculating a new gradient of line based on partial pressure measurements by the residual gas analyzer 63, a step for comparing the historical gradient with the new gradient, and a step for delivering a signal to an operator.例文帳に追加

時間の関数として分圧のラインのヒストリカルな勾配を求めるステップと、残留ガス分析器６３による分圧測定に基づいたラインの新規な勾配を計算するステップと、ヒストリカルな勾配と新規な勾配を比較するステップと、オペレータに信号を送るステップとを含む方法により、プラズマ増強型化学気相堆積システム内のプロセス不調を確認する。 - 特許庁

The sugar-free hard dragee-coating process for creating a hard coating on the surface of a core, includes at least one cycle comprising: a step of applying a polyol syrup with a concentration of greater than 80%, a step of drying the cores, wherein this cycle does not comprise a standing time between the step of applying the polyol syrup and the step of drying the cores.例文帳に追加

８０％より高濃度のポリオールシロップを適用する工程、コアを乾燥させる工程、を含む少なくとも一つのサイクルを含み、かつ、コアの表面に硬いコーティングを形成するための、糖を含まない硬いドラジェのコーティング方法であって、前記サイクルが、前記ポリオールシロップを適用する工程と、前記コアを乾燥させる工程との間に停止時間を含まないことを特徴とする。 - 特許庁

The fabrication process includes a color filter formation step of forming the color filters 50R, 50G and 50B of respective colors sequentially, and a step of forming a predetermined layer 50W on the same layer as that of the color filters 50R, 50G and 50B according to the focus detection pixel after the first color filter formation step and before the last color filter formation step.例文帳に追加

この製造方法は、カラーフィルタ５０Ｒ，５０Ｇ，５０Ｂをその色毎に順次形成する各色のカラーフィルタ形成工程と、最初のカラーフィルタ形成工程の後であって最後のカラーフィルタ形成工程の前に、前記焦点検出用画素に対応してカラーフィルタ５０Ｒ，５０Ｇ，５０Ｂと同じレイヤにおいて、所定の層５０Ｗを形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate 1 has an exposure step of exposing the substrate 31 having the photosensitive uncured resin layers 33 which are half-cured near the surface by exposure and made insoluble in the developer, a developing step of developing the substrate 31, a heating process step of heating the substrate 31 and a projecting part removing step for breaking off the projecting parts 37 by jetting liquid to the substrate 31.例文帳に追加

基板１の製造方法は、露光により表面近傍が半硬化し現像液に不溶となる感光性の未硬化樹脂層３３を有する基板３１を露光する露光工程と、基板３１を現像する現像工程と、基板３１を加熱する加熱工程と、基板３１に液体を噴射し突出部３７を折り取る突出部除去工程とを備える。 - 特許庁

The following processes are performed: a process for fitting the bottom piece 15, for accommodating, in lower parts of opposite surfaces and bottom surfaces of step parts of the bottom piece housing recessed parts 21 and 22; and a welding process for performing cladding by welding 16, 17 and 18 with a MIG welding machine.例文帳に追加

底駒１５を、底駒収容用凹部２１、２２の対向面下部及び段部底面に嵌合するように収容する工程と、ＭＩＧ溶接機により肉盛溶接１６,１７，１８を行う溶接工程と、を実施する。 - 特許庁

To solve the problem that the high speed process and the circuit integration are difficult due to the long time required for the arithmetic operation at one step unit (1 clock unit) for a viterbi decoding, etc., since the serial process is conventionally made to a serially inputted reproduction signal.例文帳に追加

従来は、シリアルに入力される再生信号に対して、シリアルに処理しているため、ビタビ復号などは１ステップ単位（１クロック単位）での演算に時間がかかるため、高速処理及び集積回路化が困難である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of semiconductor device including a polishing step for preventing generation of a defect of insulating film after the polishing process, controlling the polishing of a stopper film and readily detecting the final point of the polishing process.例文帳に追加

研磨後の絶縁膜の欠陥の発生を防止し、ストッパー膜に対する研磨を抑制し、研磨の終点の検出を容易に行なうことを可能とする研磨工程を備える半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Based on the above fact, a dicarboxylic acid obtained by a production method comprising a fermentation process is subjected to a refining process comprising rinsing with water and/or a crystallization step to bring the ammonia content of the dicarboxylic acid to 4,000 ppm or less.例文帳に追加

したがって、発酵法の工程を含む製造方法により得られたジカルボン酸を、水でのリンス及び／又は晶析工程を含む精製をすることにより、該ジカルボン酸中のアンモニア含有量を４０００ｐｐｍ以下にする。 - 特許庁

The method further includes a step (46) for designing multiple optimal locations and attributes of multiple secondary features of the in-process part based on the measured locations and attributes of the manufactured in-process part and the primary features.例文帳に追加

本方法は更に、製造された中間部材及び１次特徴部の測定された位置及び属性に基づいて、中間部材の複数の２次特徴部の複数の最適位置及び属性を設計する段階（４６）を含む。 - 特許庁

When a braking process is carried out to stop a symbol of symbol number "0" at a lower step position in a situation of (a) in Figure, if a slide amount accompanied by the braking process is d1, a rotary shell L stops as shown in Fig.(b) at a correct position.例文帳に追加

（ａ）の状態で、図柄番号「０」の図柄を下段位置に停止させるべくブレーキ処理を実行した場合、ブレーキ処理に伴う滑り量がｄ１であれば、（ｂ）に示すように、回胴Ｌは正しい位置に停止する。 - 特許庁

To render harmful exhaust gas harmless by a two-step treatment of a process of treating the harmful exhaust gas etc. at a high temperature and a washing process, the harmful exhaust gas being generated through burning in an apparatus for burning and treating an optional kind of waste.例文帳に追加

任意の種類の廃棄物等を燃焼させて処理する装置において、燃焼により発生する有害ガス等を高温で処理する工程と、水洗工程との２段階で処理して排ガスを無害化して排気する。 - 特許庁

In addition to activating the oxidized surface layer, the step of exposing the oxidized surface layer to the flow of the first process gas facilitates reduction of the activated oxidized surface layer by the second process gas containing the hydrogen gas.例文帳に追加

前記の第1処理気体流へ酸化表面層を曝露する工程は、前記酸化表面層を活性化させるのに加えて、水素気体を含む前記第2処理気体による、前記活性化した酸化表面層の還元を助ける。 - 特許庁

To provide a composition for polishing and a polishing method using the same which can be used suitably in a process of forming a tungsten plug or a tungsten wiring in a semiconductor device, especially a buff step in the process.例文帳に追加

半導体デバイスにおけるタングステンプラグ又はタングステン配線を形成するプロセス、特に同プロセスにおけるバフ工程において好適に使用することが可能な研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing a liquid crystal display device, in relation to the process for producing the liquid crystal display device, which is equipped with a step to dispose spacer particles on a substrate with an ink jet device, especially in which a spacer particle dispersion liquid is improved.例文帳に追加

インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上に配置する工程を備える液晶表示装置の製造方法に関し、特に、スペーサ粒子分散液が改良された液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

By using the material subjected to spin-on processing to the hard mask, a process can be executed by using a single tool, and usage of a single curing step is enhance, which is not normally used in a patterning process of the conventional technique, in which a CVD hard mask is used.例文帳に追加

ハード・マスクにスピンオンされた材料を使用すると、プロセスが単一のツールで実施でき、ＣＶＤハード・マスクが使用される従来技術のパターニング・プロセスで通常使用されない単一の硬化ステップの使用が可能になる。 - 特許庁

In a 1st step S1, the double exposure processes, i.e., a pattern exposure process by which respective resist patterns with prescribed widths are obtained and respective whole image exposure processes with different exposure values, are carried out and then a development process is carried out to form the respective resist patterns.例文帳に追加

第１ステップＳ１において、所定幅のパターンが得られるパターン露光と、露光量を変化させた各全面露光との各二重露光を行い、その後現像処理を行うことによって各レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a wet process film for production of a synthetic leather not causing release of a urethane layer in a urethane resin coagulating tank and having adequate release characteristics capable of readily releasing the process film from the urethane layer in a releasing step.例文帳に追加

ウレタン樹脂凝固槽中でウレタン層が剥離することなく、また剥離工程では、工程フィルムが該ウレタン層から容易に剥離し得る適度な剥離特性を有する湿式合成皮革製造用工程フィルムを提供すること。 - 特許庁

The method for saccharization includes, before saccharization process, a step of pressing the raw materials to be into pellets by compression molding process wherein the fibers of the lignocellulosic biomass are crushed and have a high density by removing air in the structure.例文帳に追加

糖化処理工程の前工程として、原料を圧縮し、ペレット状に成形する圧縮成形工程を実施することで、リグノセルロース系バイオマスの繊維自体が押しつぶされ、組織中の空気が取り除かれ、高密度のものとなる。 - 特許庁

The method of forming the fiber optic device includes a step of treating a segment of the fiber optic device using a deuterium process, in which the deuterium process preferably includes treating the segment in the presence of a flame produced by combustion of deuterium gas.例文帳に追加

重水素プロセスを用いて光学装置のセグメントを処理するステップを含む光学装置の形成方法であって、重水素プロセスは、重水素ガスの燃焼により生成された炎での処理を含むことが好ましい。 - 特許庁

The process for manufacturing a solar cell module constituted of a solar cell panel, ribs and a frame comprises a step for providing the solar cell panel 10 with ribs 13, a step for providing a slide member 14 at the end of the rib 13, and a step for sliding the slide member 14 into the frame 15a.例文帳に追加

太陽電池パネルとリブとフレームで構成される太陽電池モジュールの製造方法であって、太陽電池パネル１０にリブ１３を設ける工程、リブ１３の端部にスライド部材１４を設ける工程、スライド部材１４をフレーム１５ａにスライド挿入する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

The production process of polypropylene-based resin optical film comprises the shaping step to shape a molten polypropylene-based resin into a film 7 and the cooling step to cool and solidify the film 7 by adhering it to a rotary cooling body 4, wherein the film 7 is electrostatically adhered to the rotary cooling body 4 in the cooling step.例文帳に追加

溶融されたポリプロピレン系樹脂をフィルム７に成形する成形工程と、フィルム７を回転冷却体４に密着せしめて冷却固化する冷却工程とを備え、冷却工程では、フィルム７を静電的に回転冷却体４に密着せしめる、ポリプロピレン系樹脂からなる光学フィルムの製造方法である。 - 特許庁

A process forming dielectric layer 13 comprised a first laminate step laminating a first green sheet 110 in a closed room 103 of reduced pressure atmosphere, a second laminate step laminating a second green sheet 120, and a burning step burning the second green sheet 120.例文帳に追加

誘電体層１３を形成する工程は、減圧雰囲気にした密閉室１０３内で第１グリーンシート１１０をラミネートする第１ラミネートステップ、第２グリーンシート１２０をラミネートする第２ラミネートステップ及びラミネートされた第１グリーンシート１１０及び第２グリーンシート１２０を焼成する焼成ステップからなる。 - 特許庁

In a semiconductor production process, the method for patterning protein including a metal on a semiconductor substrate comprises a step for forming a thin film of a charged material on a photoresist, a step for patterning the charged material, and a step for adsorbing supermolecules of protein including a metal to the charged material.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおいて、フォトレジスト上に電荷を帯びた材料の薄膜を形成する工程と、該電荷を帯びた材料をパターニングする工程と、金属内包タンパク質超分子を該電荷を帯びた材料に吸着させる工程とを含むことを特徴とする金属内包タンパク質を半導体基板上にパターニングする。 - 特許庁

The manufacturing process comprises a first step to manufacture a combined body of a carbonate and a substance having the form of a particle, a second step to form a shell of a metal oxide by coating the surface of the body with the metal oxide and a third step to dissolve the carbonate in the metal oxide shell with an acid.例文帳に追加

その製造方法は炭酸塩と粒子形態をなす物質の結合体を製造する第１工程と、その表面を金属酸化物で被覆して金属酸化物殻を形成する第２工程と、金属酸化物殻内の炭酸塩を酸により溶解する第３工程からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing an optical device includes a step of forming a reflecting film on a light transmitting film, a step of laminating a substrate with an adhesive layer on the reflecting film and a step of irradiating the light transmitting film with laser light to process the film.例文帳に追加

光透過性フィルム上に反射膜を形成する工程と、反射膜上に基板を接着層を介して貼り合せる工程と、光透過性フィルムにレーザ光を照射して光透過性フィルムを加工する工程とを含むことを特徴とする光デバイスの作製方法により上記の課題を解決する。 - 特許庁

The fabrication process of an MOSFET as the semiconductor device comprises a wafer preparation step of preparing a wafer comprising silicon carbide, an anneal cap forming step of forming a cap layer comprising tantalum carbide or tungsten carbide on the wafer, and an activation anneal step of carrying out activation annealing by heating the wafer.例文帳に追加

半導体装置としてのＭＯＳＦＥＴの製造方法は、炭化珪素からなるウェハを準備するウェハ準備工程と、ウェハ上に炭化タンタルまたは炭化タングステンからなるキャップ層を形成するアニールキャップ形成工程と、ウェハを加熱することにより、活性化アニールを実施する活性化アニール工程とを備えている。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for forming a SiO_2 layer 13 on a silicon substrate 11, a step for forming a SiN layer 14 containing nitrogen less than the stoichiometric composition of an SiN film on the SiO_2 layer 13 by using an ALD method, and a step for performing plasma nitriding treatment of the SiN layer 14 at the substrate temperature of lower than 500°C.例文帳に追加

シリコン基板１１上にＳｉＯ_２層１３を形成する工程と、ＳｉＯ_２層１３上にＡＬＤ法を用いてＳｉＮ膜の化学量論的組成よりも窒素が少ないＳｉＮ層１４を形成する工程と、ＳｉＮ層１４を５００℃未満の基板温度でプラズマ窒化処理する工程とを有する。 - 特許庁

The three-dimensional development process support system includes: a step of inputting a questionnaire result by an input means 40; an analysis step where an operation means 10 analyze the input questionnaire result; and a summary output step of outputting the summary of the analysis result analyzed by the operation means 10 to an output means 50.例文帳に追加

３次元開発プロセス支援システムは、入力手段４０によってアンケート結果を入力するステップと、演算手段１０が入力されたアンケート結果を分析する分析ステップと、演算手段１０によって分析された分析結果の概要を出力手段５０に出力する概要出力ステップとを備える。 - 特許庁

The method for freezing a fluid food and dividing the frozen food in the form of separated unit pieces comprises a process containing (a) step to spray water or salt water to a freezing surface to form a thin and uniform ice layer on the surface, (b) a step to deposit the fluid food on the ice layer and (c) a step to freeze the food.例文帳に追加

流動性食品を冷凍し、かつ該冷凍食品を個別片に製造する方法であって、ａ）水又は食塩水を冷凍表面に噴霧して、該表面に薄く均一な氷層を形成し、ｂ）前記氷層上に、流動性食品を堆積し、ｃ）該食品を冷凍することを含む方法。 - 特許庁

This method comprises a step for performing a surface reforming process to expose the underlayer film surface including the basic substance to the plasma of gas including carbon gas, a step for coating the chemically amplified resist film of the underlayer film, and a step for patterning the chemically amplified resist through the exposing and development processes thereof.例文帳に追加

塩基性物質を含む下地膜表面をカーボンガスを含むガスによるプラズマを晒す表面改質処理を行う工程と下地膜上に化学増幅型レジスト膜を塗布する工程と化学増幅型レジストに露光および現像処理を行って化学増幅型レジストをパターニングする工程とを備えるようにしたものである。 - 特許庁

A splitting-groove resist-printing step for printing a resist for splitting grooves is provided between a development step and the wet-etching step in the photolithographic process for forming the thin-film resistance-member layer, so that the resist can cover a thin-film upper-electrode layer, resistance-member film-applied portions, and a photoresist, positioned within the splitting grooves.例文帳に追加

薄膜抵抗体層を形成するフォトリソプロセス工程における現像工程とウェットエッチング工程との間に、分割溝内に位置する薄膜上面電極層、抵抗体着膜部、フォトレジストを覆うように分割溝用レジストを印刷する分割溝用レジスト印刷工程を設けたものである。 - 特許庁

The manufacturing method of this composite product comprises a step that the porous metallic inserts 15 are arranged to predetermined positions in a high-pressure casting mold, and after that, a step that an alloy having a lower melting point than that of the inserts is introduced into the mold and then a step that the general casting process is executed, thereby the composite product is manufactured.例文帳に追加

複合製品の製造方法は、多孔質金属インサート１５を高圧鋳造金型内の所定の位置に配置する段階と、その後、インサートの融点より低い融点を有する合金を導入する段階と、しかる後、一般的な鋳造プロセスを実行する段階と、を含み、これにより複合製品が製造される。 - 特許庁

The processing unit executes the step specified by specific information, only if the step is the one that the processing unit should execute (s130 to s140), and the processing unit updates the specific information so that the next step is specified (s160); this is repeated until all the steps of the calculation process are executed (s120 to s160).例文帳に追加

演算部は、特定情報で特定される手順が自身の行うべき手順である場合にのみその手順を実施（ｓ１３０→ｓ１４０）して、その次の手順が特定されるように特定情報を更新する（ｓ１６０）、といったことを演算処理における全ての手順が実施されるまで繰り返す（ｓ１２０〜ｓ１６０）。 - 特許庁

This method comprises a step for receiving a control signal from a plant process controller, a step for receiving a feedback signal showing a condition of the distribution network 22, and a step for adjusting operation parameter of the compressor turbine motor train 10 to stabilize at least one of frequency and voltage of the distribution network 22.例文帳に追加

本方法は、プラントプロセス・コントローラから制御信号を受信する段階と、配電網（２２）の状態を示すフィードバック信号を受信する段階と、配電網（２２）の周波数及び電圧の少なくとも１つを安定させるように圧縮機タービンモータトレーン（１０）の作動パラメータを調整する段階とを含む。 - 特許庁

The cutting process of a wafer comprises a step 52 for making the wafer as thin as 0.1 mm or less, a step 53 for forming a protective sheet having Vickers hardness of 2 or above tightly on one surface of the wafer, and a step 54 for cutting the wafer on which the protective sheet is formed by means of a grinding stone.例文帳に追加

ウエハの切断方法は、ウエハを少なくとも０．１ｍｍ以下の厚さまで薄化するステップ５２と、ウエハの一方の面にビッカース硬さ２以上の保護シートを密着形成する、保護シート形成ステップ５３と、保護シートが形成されたウエハを砥石で切断する切断ステップ５４とを有している。 - 特許庁

Disclosed is a process for producing a saccharide from a tree bark raw material, which is characterized by comprising the following steps: an alkali treatment step of immersing the tree bark raw material in an aqueous alkali compound solution; a cutting treatment step of cutting the alkali-treated tree bark mechanically into fine pieces; and an enzymatic glycosylation step of glycosylating the finely cut tree bark with an enzyme.例文帳に追加

樹皮原料から糖類を製造する方法であって、樹皮原料をアルカリ化合物水溶液に浸漬するアルカリ処理工程、該アルカリ処理された樹皮を機械的に微細化する微細化処理工程、及び該微細化処理樹皮を酵素で糖化する酵素糖化工程を有する、糖類を製造する方法。 - 特許庁

The glucose polymer is obtained by at least performing a stepwise starch degradation process comprising a 1st degradation step of degrading starch using α-amylase or acid and a 2nd degradation step of degrading, using at least an enzyme, an intermediate product obtained via the 1st (starch) degradation step.例文帳に追加

また、本発明では、α-アミラーゼ又は酸を用いて澱粉を分解する第１分解工程と、この第１分解工程を経て得られる澱粉分解中間物を、少なくとも酵素を用いて分解する第２分解工程と、からなる段階的澱粉分解工程を少なくとも行うことによって、前記グルコースポリマーを得る。 - 特許庁

The process for producing the polymer particles involves an absorption step of allowing inorganic particles comprising particles of a polysiloxane having a (meth)acryloxy group to absorb a monomer component comprising essentially a radical-polymerizable vinyl monomer, and a polymerization step of subjecting the monomer component absorbed in the absorption step to radical polymerization.例文帳に追加

また、本発明にかかる重合体粒子の製造方法は、（メタ）アクリロキシ基を有するポリシロキサン粒子からなる無機質粒子にラジカル重合性ビニルモノマーを必須とするモノマー成分を吸収させる吸収工程と、前記吸収工程で吸収させた前記モノマー成分をラジカル重合させる重合工程と、を含む。 - 特許庁