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process stepの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3734件
When no circuit operation can be guaranteed with the delay value prior to delay adjustment under the predetermined process condition, a predicted delay value and predicted skew under the predetermined process condition are calculated on the basis of the delay value and skew prior to the delay adjustment under a standard process condition (a step ST3).例文帳に追加
次に、所定のプロセス条件での遅延調整前の遅延値などによると回路動作を保証できない場合に、基準となるプロセス条件での遅延調整前の遅延値およびスキューにもとづいて、所定のプロセス条件での予測遅延値および予測スキューを求める(ステップST3)。 - 特許庁
In step S1, a defect detection processing for extracting the ordinates of a new defect and a detection size by a prescribed process is performed, after a prescribed process by using an area reducing function of an inspection device, and in step S3, existence of a new defect is determined in chip unit by a discrimination condition validating all detected new defects.例文帳に追加
ステップS1で、検査装置の面積縮小機能を用いて所定の工程後に所定の工程による新規欠陥の座標及び検出サイズを抽出する欠陥検出処理を行い、ステップS3で、検出されたすべての新規欠陥を有効とする識別条件で新規欠陥の有無をチップ単位に判定する。 - 特許庁
The method of preventing the corrosion of metal in an aqueous system includes a process step of premixing ≥1 aromatic aerosols and ≥1 brominating agent, where the total presence rate of the bromine expressed as chlorine ranges from 0.1 to 20 ppm and a process step of adding the aromatic aerosols treated with the bromine to the aqueous system.例文帳に追加
1以上の芳香族アゾール類と1以上の臭素化剤を予備混合する工程、ここで塩素として表される臭素の総存在量が0.1から20ppmの範囲である;および臭素で処理された芳香族アゾール類を水性系に加える工程を含む、水性系における金属腐食を防止する方法。 - 特許庁
The surface treatment method for the ornament has a process step (2b) for forming a ground surface layer 40 in at least a portion (1b) on the surface of a base material 2 and a step (3b) for forming a film 3 composed of an Au-In alloy containing In 0.1 to 15 wt.% by a wet plating process.例文帳に追加
本発明の装飾品の表面処理方法は、基材2の表面の少なくとも一部に(1b)、下地層40を形成する工程(2b)と、湿式めっき法により、0.1〜15wt%のInを含むAu−In系合金で構成される被膜3を形成する工程(3b)を有することを特徴とする。 - 特許庁
Legitimacy of a memory as standard equipment for firstly making hardware perform a basic operation is checked when a power source is turned on (steps S2, S3), and if the legitimacy is confirmed, a process of executing the start up of the system (step S8) and a process of checking the legitimacy of the expanded optional memory (step S9) are executed in parallel.例文帳に追加
電源投入時にまずハードウェアの基本動作を行わせる標準搭載メモリの正当性をチェックし(ステップS2、S3)、その正当性が確認されたときには、システムの立ち上げを実行する処理(ステップS8)と、増設オプションメモリの正当性をチェックする処理(ステップS9)とを並行処理する。 - 特許庁
The method for producing dried fish comprises a first step of a heating process where fish having a temperature of ≤0°C is heated in water at 40-75°C for 45-100 min, and a second step of the heating process where the fish is heated in water at 75-120°C for 30 min to 4 h.例文帳に追加
[1]0℃以下の温度の魚類を水温40℃〜75℃および時間45分〜100分の範囲で加温する第一段階の加温工程と、水温75℃〜120℃および時間30分〜4時間の範囲で加温する第二段階の加温工程と、を有することを特徴とする魚節の製造方法。 - 特許庁
This method has a process step (S1) of condensing exposure light 112 to a master disk 108 coated with a photosensitive material 111 and subjecting the master disk to scanning exposure while modulating the light quantity thereof and a process step (S2) of forming the three-dimensional pattern shapes of the depth meeting exposure energy by developing the exposed master disk 108.例文帳に追加
感光性材料111が塗布された原盤108に露光光112を集光してその光量を変調しながらスキャニング露光する工程(S1)と、その露光された原盤108を現像することで露光量に応じた深さの3次元パターン形状を形成する工程(S2)と、を備える。 - 特許庁
This method of stably manufacturing the electrogalvanized steel plate having the excellent electrical conductivity, corrosion resistance has a process step of electrogalvanizing a steel plate by a chloride plating bath of a pH 4 to 5 and a process step of coating the steel plate with corrosion resistant films at a coating weight of 0.9 to 1.5 g/m^2 per one surface of the steel plate.例文帳に追加
鋼板をpH4〜5の塩化物めっき浴により電気亜鉛めっきする工程と、その後、耐食性皮膜を鋼板の片面あたり0.9〜1.5g/m^2 の付着量で被覆する工程とを具備する、導電性、耐食性および外観に優れる電気亜鉛めっき鋼板の製造方法。 - 特許庁
The manufacturing method includes: a precursor manufacture process (Step S1) for forming a conductive metal portion that contains a conductive material and a binder on a support body and producing a conductive film precursor; and a binder removal process (Step S2) for removing the binder contained in the conductive metal portion of the conductive film precursor.例文帳に追加
支持体上に導電性物質とバインダーとを含有する導電性金属部を形成して導電膜前駆体を作製する前駆体作製工程(ステップS1)と、導電膜前駆体における導電性金属部に含まれるバインダーを除去するバインダー除去工程(ステップS2)とを有する。 - 特許庁
An analysis table updating command execution part after performing a password matching information referring process (step 401) rewrites execution address information for the command in an INS table of a command analysis table into address information of a substitute execution part for the execution inhibited command (step 40) similarity to a normal command process, thereby disabling subsequent execution.例文帳に追加
解析用テーブル更新コマンド実行部は、通常のコマンド処理と同様に、パスワード照合情報参照処理(ステップ401)を行った後、コマンド解析用テーブルのINSテーブル上の当該コマンド用実行アドレス情報を実行禁止コマンド用代替実行部のアドレス情報に書き換え(ステップ402)、以後の実行を不可能にする。 - 特許庁
The manufacture of the gelatinous electrolyte used for the preparation of the gelatinous zinc negative electrode of the alkaline battery is such that the gelling agent is put into an alkaline aqueous electrolyte, gel formed by impregnating and swelling with the aqueous solution is mixed in a stirring (1) process in step S4, and the undissolved lump of the gelling agent is separated in a gear solution-transfer process in step 5.例文帳に追加
アルカリ電池のゲル状亜鉛負極の調製に使用するゲル状電解液の作製は、アルカリ水溶液にゲル化剤を投入した後、ステップS4の攪拌(1)工程で、ゲル化剤を水溶液で含浸させ膨潤したゲルを混合させた後、ステップS5の歯車送液の工程で、ママコを分離させる。 - 特許庁
First of all, (A) a basic chord candidate extraction process (step S45) for extracting a chord candidate to form a skeletal frame chord progression and (B) an additional chord candidate extraction process (step S46) for extracting a chord candidate which becomes a starting point of a peculiar chord progression are executed, and the extracted chord candidates are registered in a chord list CList.例文帳に追加
まず、骨格コード進行を形成するためのコード候補を抽出する(A)基本コード候補抽出処理(ステップS45)と、独特なコード進行の始点となるコード候補を抽出する(B)追加コード候補抽出処理(ステップS46)が実行され、抽出されたコード候補がコードリストCListに登録される。 - 特許庁
When it is judged that the picture data are accumulated, a transfer of the picture data to the recording media is displayed on a display section, in a step 110, and the accumulated picture data are transferred to the recording media in a step 112 by driving the disk drive after an input process and an output process of the picture data are made unable to be instructed by the user.例文帳に追加
画像データが蓄積されたと判断された場合は、ステップ110で、画像データを記録メディアに転送する旨を表示部に表示し、ユーザが画像データの入力処理及び出力処理を指示できないようにしてから、ステップ112で、ディスクドライブを駆動して蓄積された画像データを記録メディアに転送する。 - 特許庁
The method of manufacturing semiconductor devices has a process step of selectively removing the build-up segments (projecting parts) of the projecting shape produced on the surface of the metallic film (copper plating film 15) by electrolytic etching and a process step for chemicomechanically polishing the surface of the metallic film 15.例文帳に追加
電解エッチングによって金属膜(銅メッキ膜15)の表面に生じている該金属膜の凸状の盛り上がり部(凸状部)を選択的に除去する工程と、前記金属膜15の表面を化学的機械研磨する工程とを備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法である。 - 特許庁
The process for dyeing polylactic fiber comprises the step of dyeing the polylactic fiber with a disperse dye and the step of reductively cleaning the dyed polylactic fiber wherein the dyed polylactic fiber is treated with heat at 110-140°C for 10-120 seconds in advance of the reductive washing process.例文帳に追加
ポリ乳酸繊維を分散染料にて染色する工程と、染色されたポリ乳酸繊維を還元洗浄する工程とを含むポリ乳酸繊維の染色加工方法において、上記還元洗浄に先立って染色されたポリ乳酸繊維に110〜140℃の温度で10〜120秒間熱処理を施す。 - 特許庁
In a step S5, when the voltage of a battery exceeds a set voltage A close to that of the full charged battery, it is the case that the charged state of the battery approaches full charging, and process proceeds to a step S6, to carry out a fan mode changeover prohibiting process so as not to change the gas volume.例文帳に追加
ステップS5において、バッテリ1の電圧値が、バッテリ1の満充電に近い設定電圧Aを上回っている場合には、バッテリ1の充電状態が満充電に近づいている場合であるから、ステップS6に移行し、風量の変更を行わないように、ファンモード切替禁止処理が行われる。 - 特許庁
The method for cleaning the optical parts which cleans the optical parts mounted at the film unit with the lens has a destaticizing process step for destaticizing static electricity by blowing destaticizing air to the optical parts in the state of being mounted at the unit body and a cleaning process step for wiping off the optical parts with dried cleaning members.例文帳に追加
レンズ付きフィルムユニットに装着された光学部品を清掃する光学部品清掃方法において、ユニット本体に装着された状態の前記光学部品に除電空気を吹き付けて静電気の除電を行う除電工程と、前記光学部品を乾燥した清拭部材にて拭き取る清拭工程と、を有すること。 - 特許庁
The method comprises a step for providing a semiconductor substrate wherein a prescribed process is carried out for forming a semiconductor element and a step for forming an ion implantation layer 105 by injecting trivalent impurities having a larger atomic weight than that of boron and consisting of a single atom to a prescribed depth of the semiconductor substrate by an ion implantation process.例文帳に追加
半導体素子を形成するための所定の工程が行われた半導体基板を提供する段階と、前記半導体基板の所定深さに、ホウ素より大きい原子量を有し且つ単原子からなる3価不純物をイオン注入工程によって注入してイオン注入層105を形成する段階を含む。 - 特許庁
The process includes first forming crude (meth)acrylic acid, and then continuously refining the crude (meth)acrylic acid, wherein the continuous refinement process includes: a step (a) of depositing impurities as crystals from a composition containing (meth)acrylic acid and the impurities; and a step (b) of separating the deposited crystal impurities from the composition.例文帳に追加
最初に粗製(メタ)アクリル酸を生成し、次に粗製(メタ)アクリル酸を連続的に精製し、当該連続的な精製が、a)(メタ)アクリル酸及び不純物を含む組成物中で、不純物を組成物から結晶として析出させる工程と、b)組成物から析出させた結晶不純物を分離する工程と、を含む方法。 - 特許庁
The waviness not removed sufficiently in the first correction-polishing process (step S3) is removed in the second correction- polishing process (step S6), the error in the shape including the waviness in the working face of the workpiece is easily reduced thereby, and the one polishing tool is enough to be used therein.例文帳に追加
第1補正研磨工程(ステップS3)で除去しきれなかった“うねり”を第2補正研磨工程(ステップS6)で除去することができ、加工物の加工面における“うねり”を含む形状の誤差を、手間をかけず容易に減少させることができ、しかも、使用する研磨工具を1つとすることができる。 - 特許庁
The pulp mold-forming process comprises the paper-making step where water-containing pulp fibers are accumulated in the paper-making mold to form an intermediate body 2 and the drying step where the intermediate body 2 is fitted to a drying mold 3 and dehydrated.例文帳に追加
パルプモールド成形方法は,抄紙型内に水分を含有するパルプ繊維を堆積させて中間体2を形成する抄紙工程と,乾燥型3に中間体2を装填して脱水し乾燥する乾燥工程とを有する。 - 特許庁
The method, device and product for accessing the process control data includes a step for loading a client object, and a step for communicating with a real object configured so as to make a data access request communicate with a server from the client object.例文帳に追加
プロセスコントロールデータにアクセスするための方法、装置および製品は、クライアントオブジェクトをロードするステップと、データアクセスリクエストを前記クライアントオブジェクトから、サーバーと通信するように構成されているリアルオブジェクトに通信するステップとを伴う。 - 特許庁
When the travel distance Ds is less than learning reset threshold value KDs (affirmative determination in step S15), ECU executes second neutral control process using first target fluid pressure KPc1 stores in EEPROM (step S22).例文帳に追加
走行距離Dsが学習再設定閾値KDs未満である場合(ステップS15が肯定判定)、ECUは、EEPROMに記憶される第1目標油圧KPc1を用いた第2ニュートラル制御処理を実行する(ステップS22)。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for measuring a thin film in an accurate and rapid measurement real time when the film is deposited or etched in a film forming step or an etching step used in a manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造工程で用いられている成膜工程や、エッチング工程で、薄膜を堆積あるいはエッチングしていく際に、高精度で迅速にリアルタイムで測定のできる薄膜測定方法とその装置を提供すること。 - 特許庁
In a displacement process to a valve-closing state from a valve- opening state of the exhaust valve, after the exhaust valve opens over a prescribed opening (step 100), an energy C necessary for displacement of the exhaust valve to a full opening position is calculated (step 120).例文帳に追加
排気弁の閉弁状態から開弁状態への変位過程において、排気弁が所定以上開弁した後(ステップ100)、同排気弁を全開位置まで変位させるために必要なエネルギCが算出される(ステップ120)。 - 特許庁
In a step S12, when it is determined that the current distribution frequency N is smaller than an upper limit frequency Nmax, the process is advanced to a step S13, and a completion time when the content is distributed to each adjacent content reception terminal Nr is estimated.例文帳に追加
ステップS12において、現在の配信回数Nが上限回数Nmaxよりも少ないと判定されるとステップS13へ進み、隣接する各コンテンツ受信端末Nrにコンテンツを配信した際の完了時刻が推定される。 - 特許庁
Using of the pattern can reduce an exposure step or a development step in a process for forming a conductive pattern (a gate wiring or a source wiring) and reduce the amount of used materials, and remarkable cost reduction can be achieved.例文帳に追加
前記パターンを用いることより、導体パターン(ゲート配線、またはソース配線など)を形成するプロセスにおいて、露光工程や現像工程などが短縮でき、材料の使用量の削減も図れるため大幅なコストダウンが実現できる。 - 特許庁
The profiler 4 is also provided with a step 6a for changing the displayed contents for further verification and the evaluation of the information contents and a second process (step 7) for performing virtual evaluation according to the changed contents.例文帳に追加
さらに、プロファイラ4は、情報内容をさらに検証および評価するために表示内容を変更するステップ6aを備えており、変更された内容により仮想評価を行う第2の工程(ステップ7)を備えている。 - 特許庁
The cupper film polishing method comprises a step of forming a copper film on a substrate, and a step of polishing the copper film in a chemical mechanical polishing (CMP) process using a slurry allowing a copper film polishing speed of at least 10,000 Å/min or higher.例文帳に追加
基板上に銅膜を形成する段階と、前記銅膜を銅膜の研磨速度が少なくとも10000Å/分以上になるようなスラリを用いた化学的機械的研磨(CMP)工程にて研磨する段階とを含む。 - 特許庁
In a step to spray the cell spacers on one substrate, which constitutes a manufacturing process of the liquid crystal display element, the spacers are sprayed by varying spacer density corresponding to regions in the substrate considering the migration of the spacers which may occur when a liquid crystal is injected into the cell as the next step.例文帳に追加
液晶表示素子の製造過程である片基板へのセルスペーサの散布工程において、次工程である液晶注入時のスペーサ移動を考慮して、基板内の部位によりスペーサ密度を変えて散布する。 - 特許庁
This method of manufacturing an impeller with a shroud includes a process step of splitting an impeller with a shroud into a member 5 on the outer diameter side and another member 6 on the inner diameter side and processing each member 5 and 6 into a predetermined shape respectively, and a junction step of diffusion-joining the members after the processing.例文帳に追加
シュラウド付インペラーを外径側部品5と内径部側部品6とに分割してそれぞれ所定の形状に加工する加工工程と、加工後の両部品を拡散接合する接合工程と、を備える。 - 特許庁
To provide a sterilization washing process which conducts the sterilization washing treatment efficiently without wasting time by effecting a step of washing and sterilization of other containers of a material to be treated and the like during a holding time for obtaining the sterilization effect after a step of washing and sterilization of one container of a material to be treated.例文帳に追加
洗浄殺菌の工程を行った後、殺菌効果を得るためのホールド時間に、他のコンテナに前記洗浄殺菌等の工程を行うことにより、時間を無駄にせず、効率的な殺菌洗浄処理を行う。 - 特許庁
The determination step is to determine characteristic defects, caused in manufacturing process carried out in units of a plurality of semiconductor devices, among the characteristic defects of the semiconductor devices based upon a result of the re-inspection in the second wafer inspection step.例文帳に追加
判定工程は、第2ウエハ検査工程による再検査の結果に基づいて、半導体装置の特性不良のうち、複数個の半導体装置単位で行われる製造処理において生じる特性不良を判定する。 - 特許庁
The method for manufacturing a substrate for an inkjet head comprises a step for forming a layer (208), on the pad part (103) of an electrode wiring, for preventing contamination to occur in a substrate manufacturing process, and a step for removing the layer (208) prior to the connection between the pad part and the wiring member.例文帳に追加
電極配線のパッド部(103)上に基板製造プロセスで生じる汚染を防止するための層(208)を形成する工程と、パッド部と配線部材との接続に先立って層(208)を除去する工程とを具える。 - 特許庁
The method of forming the conductive thin film includes a step in which the ink containing metal nano particles is applied on a substrate to form a thin film, and a step in which the thin film is acted with reducing agent to perform a reducing process.例文帳に追加
金属ナノ粒子含有インクを基板上に塗布して薄膜を形成する工程と、当該薄膜に還元剤を作用させて還元処理を施す工程とを含むことを特徴とする導電性薄膜の形成方法。 - 特許庁
The process for manufacturing the composition includes (i) a step of mixing a particulate solid phase, a nonvolatile liquid phase, a block copolymer, and water to obtain a slurry and (ii) a step of suctioning the water present in the slurry to obtain a dry powder.例文帳に追加
また、(i)粒子状固相、不揮発性液相、ブロックコポリマー及び水を混合してスラリーを得るステップと、(ii)スラリー中に存在する水を吸引して乾燥粉末を得るステップと、を含む、かかる組成物を製造する方法。 - 特許庁
Posture and action detecting means consisting of an acceleration sensor or the like detect the acting state of the human body (step 55), and sensor signal processing means process the detected signal to detect the acting state of the human body (step 54).例文帳に追加
一方、加速度センサ等からなる姿勢・行動検出手段が人体の活動状態を検知し(ステップ55)、その検出された信号を、センサ信号処理手段が信号処理してその人体の活動状態を検出する(ステップ54)。 - 特許庁
The process for producing a polysaccharide comprises a step (1) of cultivating a polysaccharide producing microorganism to produce a polysaccharide and a step (2) of heat-treating the culture and the gas phase portion of the culture tank, respectively, after completion of cultivation.例文帳に追加
(1)多糖類を産生する微生物を培養することにより、多糖類を製造する工程、及び(2)培養終了後に、培養液と培養槽の気相部とをそれぞれ熱処理する工程を含む多糖類の製造方法。 - 特許庁
A process for producing a sulfonated polymer solution includes a step of sulfonating a solid polymer (A) in a sulfonating solution to produce a solid sulfonated polymer, and (B) a step of dissolving the solid sulfonated polymer in a solvent.例文帳に追加
(A)固体状のポリマーをスルホン化溶液中でスルホン化させ、固体状のスルホン化ポリマーを製造する工程、および(B)前記固体状のスルホン化ポリマーを溶媒に溶解する工程を含む、スルホン化ポリマー溶液の製造方法。 - 特許庁
A user inputs the winning number to the photograph vending machine in a step S101 and is able to perform a process (play) in a step S103 when the number is recognized as the winning number (YES at S102).例文帳に追加
利用者は、ステップS101でその当選番号を写真自動販売機に入力し、その番号が当選番号と認証されたら(S102でYES)、ステップS103で当選プレイモードにて処理(プレイ)を行なうことができる。 - 特許庁
The manufacturing process of the metal particle-aligned film comprises (A) a step of forming a polymer film containing a metal component on a reflection substrate and (B) a step of irradiating the polymer film with a light having a specific wavelength.例文帳に追加
反射基板上に金属成分を含有するポリマー膜を製膜する工程(A)と、前記ポリマー膜に、特定の波長の光を照射する工程(B)とを有することを特徴とする金属微粒子配列膜の製造方法。 - 特許庁
In this technique, samples erroneously identified in a first step are directly taken as fundamental learning samples in a second step to effectively process the deformed samples, whereby the identification precision of a system is enhanced.例文帳に追加
本発明の技術案では、第一段階にて誤って識別されたサンプルを直接に第二段階の基本学習サンプルとすることによって、それらの変形したサンプルを効果的に処理でき、もってシステムの識別精度を高める。 - 特許庁
The method comprises a step 3 of carbonizing a papermaking sludge waste produced in a papermaking process in an oxygen-poor atmosphere, and a decarbonizing step 4 of burning a carbon component of the carbonized product at a surrounding gas temperature of not lower than 650°C.例文帳に追加
本発明は、製紙工程で発生する製紙汚泥廃棄物を貧酸素雰囲気で炭化する工程3と、炭化物中の炭素成分を雰囲気ガス温度が650℃以上で燃焼させる脱炭素工程4とを備える。 - 特許庁
The method for manufacturing a toner manufactured by a polymerization process has a step for transferring a treating liquid containing at least colored particles, wherein piping parts in the transfer step are cooled after transferring the treating liquid.例文帳に追加
重合法により製造されるトナーの製造方法であって、少なくとも着色粒子を含有する処理液を移送する工程を有し、処理液移送後に処理液移送工程の配管部品を冷却することを特徴とする。 - 特許庁
In a retrieval meta-information creating process in a step S102, document data is read and reference bibliographic information and reference sentences are extracted from the document data based on the extraction pattern data registered in the step S101.例文帳に追加
ステップS102における検索用メタ情報作成処理では、書籍データが読み込まれ、ステップS101で登録された抽出パターンデータに基づいて、書籍データの中から参照書誌情報と参照文が抽出される。 - 特許庁
In this step, since the temperature in the chamber is increased from 50 to 80°C, moisture adsorbed to the substrate can be removed in a short time, even if a special process step for removing moisture which was conventionally necessary before application of underfill resin is omitted.例文帳に追加
このとき、チャンバー内の温度が50℃から80℃に上がっていため、アンダーフィル樹脂塗布前に従来必要とされたの専用の水分除去工程を省いても、短時間で基板吸着水分を除去することができる。 - 特許庁
After a step of the CMP process of polishing the formed film on the semiconductor wafer by the polishing cloth, while the slurry containing polishing particles is supplied, a step of hydrophile-processing the surface of the polishing cloth is executed.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、研磨粒子を含むスラリーを供給しながら研磨布により半導体ウェーハ上の成膜をポリッシングするCMP処理工程の後に、研磨布表面を親水性処理する工程を実施する。 - 特許庁
When the environment navigation mode is designated (S1), an hourly cost mainly concerning the labor cost of the crew of aircraft is set to 0 (step S2), and a navigation assisting process to prioritize the environment under this condition starts (step S3).例文帳に追加
環境飛行モードが指定されると(ステップS1)、主として航空機の搭乗員の人件費に関係する時間コストに0が設定され(ステップS2)、この条件のもとで環境を優先する飛行支援処理が開始される(ステップS3)。 - 特許庁
The process for production comprises a surface roughening treatment step of subjecting the surface layer parts 9 of the palatal parts of the dentures 5a and 5b and the denture plate to rough surface formation by a sandblasting treatment and a polishing finishing step of buffing the rugged surfaces formed by the stage described above.例文帳に追加
当該製造方法は、義歯及び義歯床口蓋部表層部をサンドブラスト処理により粗面形成する粗面処理工程と、前記工程により形成された凹凸面をバフ摩きする摩き仕上工程とから成る。 - 特許庁
In a retrieval meta-information creating process in a step S102, document data is read and illustration specification information and illustration explanation sentences are extracted from the document data based on the extraction pattern data registered in the step S101.例文帳に追加
ステップS102における検索用メタ情報作成処理では、書籍データが読み込まれ、ステップS101で登録された抽出パターンデータに基づいて、書籍データの中から図版特定情報と図版説明文が抽出される。 - 特許庁
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