「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for producing malt using barley for forming early flocculation factors of yeast, PYF negative malt having suppressed the early flocculation of yeast is produced by treating barley of malt raw material using one or two or more PYF factor reducing substances such as sodium hypochlorite, chlorhexidine gluconate, chlorhexidine acetate, and chlorhexidine chloride in the immersion step in the malt production process.例文帳に追加

酵母早期凝集因子を生成する大麦を用いた麦芽の製造方法において、麦芽製造工程における浸漬工程で、次亜塩素酸ナトリウム、グルコン酸クロルヘキシジン、酢酸クロルヘキシジン、及び、塩化クロルヘキシジンのようなＰＹＦ因子低減物質の１又は２以上を用いて麦芽原料大麦の処理を行うことにより、酵母早期凝集性の抑制されたＰＹＦネガティブ麦芽を製造する。 - 特許庁

The wet natural rubber masterbatch is one obtained by a production process including the step of mixing a natural rubber latex with a slurry prepared by previously dispersing carbon black in water, wherein the carbon black is one having a potassium content of 800 ppm or smaller and is contained in an amount of 10 to 100 pts.wt. per 100 pts.wt. rubber component in the natural rubber latex.例文帳に追加

天然ゴムラテックスと、カーボンブラックを予め水中に分散させたスラリー溶液とを混合する工程を含む製造工程により得られる天然ゴムウェットマスターバッチであって、上記カーボンブラックは、カリウム含有量が８００ｐｐｍ以下となるカーボンブラックであり、かつ、その含有量が天然ゴムラテックス中のゴム成分１００重量部に対して、１０〜１００重量部であることを特徴とする天然ゴムウェットマスターバッチ。 - 特許庁

The template DNA strand used for inverse PCR process is produced in the method characterized by including a step of primer extension reaction using the DNA strand as the template and the oligonucleotide as the primer in a system including a DNA strand including the target DNA sequence, a DNA polymerase, an oligonucleotide having at least one LNA (locked nuckic acid) residue and at least including four kind of dNTP.例文帳に追加

標的ＤＮＡ配列を有するＤＮＡ鎖、ＤＮＡポリメラーゼ、少なくとも１残基のＬＮＡを有するオリゴヌクレオチドおよび４種のｄＮＴＰを少なくとも含む系において、上記ＤＮＡ鎖を鋳型とし、上記オリゴヌクレオチドをプライマーとして、プライマー伸長反応をさせる工程、を包含することを特徴とする方法により、インバースＰＣＲ方法に用いる鋳型ＤＮＡ鎖を生産する。 - 特許庁

In this user dictionary registration method for storing kanji and kana letters showing the pronunciation by corresponding them each other in a user dictionary storage means, user dictionary registration processing (step S7) for storing kanji and kana letters showing the pronunciation to be registered in information database in a pair in the user dictionary storage means is performed in an information database registration process for registering information in the information database different from the user dictionary storage means.例文帳に追加

漢字と振り仮名を対応付けてユーザ辞書記憶手段に記憶させるユーザ辞書登録方法であって、ユーザ辞書記憶手段とは異なる情報データベースに情報を登録する情報データベース登録過程において、情報データベースへ対として登録する漢字と振り仮名をユーザ辞書記憶手段にも記憶させるユーザ辞書登録処理（ステップＳ７）を行うことを特徴とする。 - 特許庁

The plasma display panel is a plasma display panel in which an electrode and the dielectric layer are formed on at least one substrate, wherein the dielectric layer is formed using the dielectric paste, only one application process using the dielectric paste is performed in the step of forming the dielectric layer, and the surface roughness of the dielectric layer is 0.20 μm or more and 0.27 μm or less.例文帳に追加

本発明のプラズマディスプレイパネルは、少なくとも一方の基板上に電極と誘電体層とを形成したプラズマディスプレイパネルであって、誘電体層は誘電体ペーストを用いて形成し、誘電体層を形成する工程において誘電体ペーストを用いた塗布工程が１回のみであって、誘電体層の表面粗さが０．２０μｍ以上０．２７μｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

The process for preparing the composite material comprising: (a) introducing a liquid polymer composition comprising at least one thermosetting resin in a liquid state, nanotubes and optionally a rheology modifier into a compounding device, (b) mixing the polymer composition and the nanotubes within the device, to form a composite material, and (c) a step of recovering the composite material, optionally after forming the same to pellets.例文帳に追加

（ａ）液体状態の少なくとも一種の熱硬化性樹脂を含む液体のポリマー組成物と、ナノチューブと、必要に応じて用いられるレオロジー調節剤とをコンパウンディング装置中に導入し、（ｂ）上記コンパウンディング装置中で上記ポリマー組成物とナノチューブとを混合して複合材料を形成し、（ｃ）得られた複合材料を、必要な場合にはペレットに成形した後に、回収する段階から成る。 - 特許庁

MHLW consulted with and made recommendations to the Labour Policy Council on a draft ministerial order that abolishes a special provision of the radiation dose limit raised to 250 mSv for some tasks upon completion of the process of putting nuclear reactors at TEPCO's No. 1 Nuclear Power Plant into a stable cold shutdown state (step 2) scheduled to be accomplished before the end of the year. (November 21, 2011).例文帳に追加

年内に達成予定の東電福島第一原発の原子炉を安定的な冷温停止状態にするための工程（ステップ２）の終了をもって、一部の作業で250ミリシーベルトに引き上げられていた被ばく線量限度の特例を廃止する省令案について、労働政策審議会に諮問、答申（平成23年11月21日）し、ステップ２の終了とともに特例省令を廃止（平成23年12月16日） - 厚生労働省

The patterning method includes a step of forming a pattern by using a plurality of patterning steps by use of a photolithographic process on the same substrate, and the method includes steps of preparing a substrate on which an alignment mark to be used for alignment is formed, drawing a first pattern by aligning using the above alignment mark, and drawing a second pattern by aligning using the above alignment mark.例文帳に追加

同一基板上にフォトリソグラフィー法を用いた複数のパターニング工程を用いてパターンを形成する工程を有するパターン形成方法において、位置合わせに用いるアライメントマークが形成された基板を準備する工程と、上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第１のパターンを描画する工程と、さらに上記アライメントマークを用いて位置合わせを行い第２のパターンを描画する工程とを含む。 - 特許庁

The cation electrodeposition coating method or subjecting the surface of the aluminum blank to electrodeposition coating with a cation electrodeposition coating material composition includes a process step of previously subjecting the surface of the aluminum blank to the chemical conversion treatment by using the surface treating not containing the heavy metals, in which the cation electrodeposition coating material composition contains a resin composition having a sulfonium group and propagagyl group.例文帳に追加

アルミニウム素材の表面に対して、カチオン電着塗料組成物を電着塗装するカチオン電着塗装方法であって、上記アルミニウム素材を、予め、重金属を含まない表面処理剤によって化成処理する工程を含んでいて、かつ、上記カチオン電着塗料組成物がスルホニウム基およびプロパルギル基を有する樹脂組成物を含有することを特徴とするカチオン電着塗装方法。 - 特許庁

The process for producing a semiconductor substrate by bonding two semiconductor wafers directly comprises steps of: sticking a first semiconductor wafer and a second semiconductor wafer; and heat treating of a semiconductor substrate formed in the sticking step at a temperature of 1,000°C-1,400°C and at a temperature rise/fall rate of 100°C/sec or above.例文帳に追加

２枚の半導体ウェーハが直接接合した半導体基板の製造方法であって、第１の半導体ウェーハと第２の半導体ウェーハを貼り合わせる工程と、この貼り合わせる工程によって形成された半導体基板を、１００℃／秒以上の昇降温速度で、１０００℃以上１４００℃以下の温度で熱処理する工程を有することを特徴とする半導体基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a production method wherein a manufacturing process is simplified more greatly compared with a conventional physical magnetic layer processing type by eliminating a magnetic layer removal step and a contamination risk is small, and a useful discrete track type magnetic recording medium having high head floating characteristics, regarding a magnetic recording medium having a magnetically separated magnetic recording pattern in at least one surface of a nonmagnetic substrate.例文帳に追加

非磁性基板の少なくとも一方の表面に、磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体において、従来の物理的な磁気層加工型と比較しその磁性層除去工程を排除することにより格段に製造工程を簡略化し、かつ汚染リスクがすくない製造方法と、ヘッド浮上特性に優れた有用なディスクリートトラック型磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To carry out a desired circuit connection in a subsequent wiring forming step and enhance a yield of a semiconductor product in such a manner that, even when a finished dimension of a wiring layer or a diffusion layer fluctuates because of exposure variations and etching variations in a production process, a characteristic fluctuation of a transistor because of its fluctuation is corrected or a decrease in an operating allowance of an internal circuit is prevented.例文帳に追加

製造プロセスでの露光ばらつき、エッチングばらつきによって配線層あるいは拡散層の仕上がり寸法が変動した場合でも、その変動によるトランジスタの特性変動を補正する、あるいは内部回路の動作余裕の減少を防止するように、以後の配線形成工程で所望の回路接続を行うことができ、半導体製品の歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁

In the sealing step of an IC chip 21 after connecting the IC chip 21 with a bump 22 to the wiring pattern of a circuit board 23 by the flip process, the preprocessing is performed by hole making in the circuit board 23 for filling a sealing resin 25 through the hole H1 thereby enabling the time for filling the entire gap between the IC chip 21 and the circuit board 23 to be cut down.例文帳に追加

バンプ２２付きのＩＣチップ２１と回路基板２３の配線パターンとをフリップ工法により接続した後にＩＣチップ２１を封止する工程において、あらかじめ回路基板２３に穴加工などの前処理を行うことで、その穴Ｈ１を通じて封止樹脂２５を充填して封止することにより、ＩＣチップ２１と回路基板２３とのスキマ全体に封止樹脂２５を満たす時間の短縮化を可能とする。 - 特許庁

To provide a population of insulin producing cells made by a process comprising a step for bringing non-insulin producing cells into contact with a growth factor selected from the group consisting of GLP-1 or Exendin-4, growth factors having amino acid sequences substantially homologous to the GLP-1 or the Exendin-4, and fragments thereof.例文帳に追加

非インスリン産生細胞と、ＧＬＰ−１またはＥｘｅｎｄｉｎ−４、ＧＬＰ−１またはＥｘｅｎｄｉｎ−４に実質的に相同なアミノ酸配列を有する増殖因子、およびそれらのフラグメントからなる群より選択される増殖因子とを接触させる工程を包含するプロセスにより作製されるインスリン産生細胞の集団を提供することによって、先行技術の有する上記の問題を克服または低減する。 - 特許庁

A process for the production of an organic polymer having plural organic ring structures and a chain structure passing through the rings, comprises the polymerization step of polymerizing a monomer component comprising at least one monomer free from ionic functional groups releasing a metal ion, to from an organic polymer having ring structures arranged in a state restricted in mobility every prescribed constituent unit.例文帳に追加

本発明の製造方法は、複数の有機環状構造と複数の有機環状構造を貫通する１つの鎖状構造とを備える有機重合体の製造方法であって、金属イオンを放出するイオン性官能基を含有しない少なくとも１種のモノマを重合させることによって、移動が制限された状態で所定の構成単位ごとに有機環状構造が配置された有機重合体を形成する重合工程を含む。 - 特許庁

To provide a powdery thermoplastic resin composition that has a soft texture, excellent abrasion resistance, mechanical properties, etc., achieves weight reduction of molded article and cost reduction, uses existing facilities as they are and makes in one-step process a non-foamed layer having excellent designability and a foamed layer contributing to weight reduction and a weight-reduced sheet-like thermoplastic resin molded article having excellent designability.例文帳に追加

ソフトな触感を有し、耐摩耗性、機械物性等に優れ、成形物の軽量化、低コスト化を実現し、かつ、既存設備をそのまま利用でき、単一の粉末状熱可塑性樹脂組成物から意匠性の優れる非発泡層と軽量化に寄与する発泡層を１段工程で作製することが可能な粉末状熱可塑性樹脂組成物、及び、意匠性に優れた軽量化シート状熱可塑性樹脂成形物を提供する。 - 特許庁

This process comprises the step that a first silicon-containing compound bearing at least one tetrafunctional silicon atom per molecule, a second silicon-containing compound bearing at least one monofunctional silicon atom per molecule, and a third silicon-containing compound bearing at least one trifunctional silicon atom per molecule are allowed to contact with one another in the presence of a catalyst selected from sulfonic acid group-containing compounds and phosphonitrile compounds.例文帳に追加

この方法はスルホン酸含有化合物およびホスホニトリル化合物の中から選択された触媒の存在下で、分子あたり少なくとも１個の四官能性ケイ素原子を含む第一のケイ素含有化合物と、分子あたり少なくとも１個の単官能性ケイ素原子を含む第二のケイ素含有化合物と、分子あたり少なくとも１個の三官能性ケイ素原子を含む第三のケイ素含有化合物とを接触させる行程を含んでいる。 - 特許庁

To obtain a new copolymer suitable as a coating film-forming polymer for obtaining a resist pattern highly adhesive to a substrate and slight in pattern spoilage in an ultrafine pattern formation step in semiconductor production process through eliminating drawbacks involved in conventional techniques, to provide a method for producing the copolymer, and to obtain a new thiol compound useful as a chain transfer agent in producing the copolymer.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体の製造における極微細なパターン形成において、基板との密着性が高くパターン倒れが少ないレジストパターンを得るための塗膜形成用ポリマーとして好適な、新規な共重合体及び該共重合体を製造する方法、並びに、これらの塗膜形成用ポリマーとして好適な共重合体の製造における連鎖移動剤として有用な新規チオール化合物を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor comprising a support and a photosensitive layer formed on the support body includes a surface treatment step of roughening the surface of the process object having the support body and all layers including the photosensitive layer provided on the support body, by making a powder having a surface adsorption water content of 10 to 400 ppm collide with the surface of the object.例文帳に追加

支持体及び該支持体上に設けられた感光層を有する電子写真感光体の製造方法において、該支持体と該支持体上に設けられた感光層を含むすべての層とを有する被処理体の表面に、表面吸着水分量が１０ｐｐｍ以上かつ４００ｐｐｍ以下である粉体を衝突させることによって、該被処理体の表面の粗面化処理を行う表面処理工程を含むようにする。 - 特許庁

To provide a method for making microcapsules including an electrophoretic particle dispersion capable of efficiently making microcapsules with a relatively large and uniform particle size by eliminating a classifying process step in order to enable a high-contrast display with a display device using the microcapsules including the electrophoretic particles and of making the content of the electrophoretic particles uniform and the display device using the same.例文帳に追加

本発明の課題は、電気泳動性粒子を内包したマイクロカプセルを用いた表示装置において高コントラストな表示を可能にするため、粒子径を比較的大きくかつ均一なマイクロカプセルを分級工程をなくして効率よく作製するとともに、マイクロカプセル内の電気泳動性粒子の含有率を均一にすることができる電気泳動性粒子分散溶液内包マイクロカプセルの製造方法およびそれを用いた表示装置を提供するものである。 - 特許庁

To provide a polymer scale adhesion inhibitor capable of forming a coating film having sufficient scale adhesion-proof performance by a single-step coating, enabling polymer productivity to be improved through cutting the process time, and capable of obtaining polymer products of improved quality through preventing the adhesion of polymer scale to the inner wall surface and the like of a polymerizer even if repeating polymerization batches many times under high-temperature polymerization reaction conditions.例文帳に追加

一段塗布により十分なスケール付着防止性能を有するスケール防止性塗膜が形成でき、工程時間を短縮して生産性を向上すると共に、高温の重合反応条件において多数回の重合バッチを繰り返しても、重合器内壁面等に対する重合体スケールの付着を防止して、品質の向上した重合体製品を得ることができる重合体スケール付着防止剤を提供する。 - 特許庁

In the method of manufacturing an electronic component with a semiconductor chip connected to a substrate, a pretreatment prior to die bonding step, comprises installing a solid dielectric on at least one opposed surface of a pair of opposed electrodes under near the atmospheric pressure, introducing a process gas between the pair of opposed electrodes, applying a pulse-like electric field to obtain a plasma, and contacting the plasma with the substrate.例文帳に追加

半導体チップを基板に接続してなる電子部品の製造方法において、ボンディング工程の前処理として、大気圧近傍の圧力下、対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面に固体誘電体を設置し、当該一対の対向電極間に処理ガスを導入してパルス状の電界を印加することにより得られるプラズマで基板を接触処理することを特徴とする電子部品の製造方法。 - 特許庁

To provide an adhesive tape for processing a semiconductor substrate which allows a stable processing and does not require changes in the manufacturing conditions in each step by minimizing a change in the adhesiveness of the tape by the storage condition and the time, does not cause soiling of the back side of a chip and reduces chipping of the chip in dicing and improves the yield for a semiconductor substrate manufacturing process.例文帳に追加

半導体基板加工用粘着テープにおいてその保管条件、経過時間に伴う粘着特性の変化を極力少なくし、各工程において製造条件の変更などを伴わず、安定した加工が可能であり、また、粘着剤とフィルム基材との密着性を上げることによりチップの裏面汚染をなくすとともにダイシング時のチップの欠けを減らすことが可能であり、半導体基板製造工程における歩留まりが向上する半導体基板加工用粘着テープを提供すること。 - 特許庁

Mixing of impurities in the pulverization step of the alloy is prevented and a phosphor having high luminance can be industrially advantageously produced by the process throughout from the raw material metals to the production of the phosphor.例文帳に追加

（ａ）蛍光体を構成する少なくとも１種の金属元素及び少なくとも１種の付活元素Ｍ^１とを溶融させて、これらの元素を含む合金溶湯を得る融解工程、（ｂ）該合金溶湯を不活性ガス中で微細化する微細化工程、（ｃ）該微細化した合金溶湯を凝固させる凝固工程、及び、（ｄ）該凝固させて得られた合金粉末を窒素含有雰囲気下で焼成する焼成工程 合金の粉砕工程における不純物の混入を防止して、輝度の高い蛍光体を、原料金属から蛍光体の製造までを一貫した工程として、工業的に有利に製造することができる。 - 特許庁

The process of cleaning ready-mixed concrete residue by shutting by means of placing a hydrophobic resilient material at the end of the pressure-hose, severing the connection between the pumping tube and pressure-transfer tube and at the same time opening the cock of the connection pipe. Following this processesimilar hydrophobic resilient material is sent out of the hopper by water-pressure, cleaning the inside of the pumping hose and the connection pipe. In the next step, shut off the cock of the connecting tube, send the hydrophobic resilient material placed at the end of the pressure-hose down the inside by means of the water pressure. 例文帳に追加

ポンピングチューブと圧送ホースとの連通関係を接続管の圧送ホース側端部で非吸水性の弾性部材により遮断するとともに、接続管の開口部を開放した後、前記と同様の非吸水性の弾性部材をホッパーから水圧により移送して、ポンピングチューブと接続管内を洗浄し、ついで、接続管の開口部を閉塞して、上記圧送ホース側端部を遮断した非吸水性の弾性部材をホッパーからの水圧により送通して圧送ホース内を洗浄することを特徴とする生コンクリートの輸送ホース洗浄方法。 - 特許庁

As fairness before the law is a norm in Japan, I think that exempting from criminal prosecution the practice of lending at an interest rate higher than the upper limit under the Act Regulating the Receipt of Contributions, Receipt of Deposits and Interest Rates (Shussi Hou) in a particular geographical area only – a concept at issue here – would go against the principle of fairness before the law. Since the current regulation under the amended Act, which the media covered extensively when it was established, is a legislative step supported unanimously by all parties to address the multiple-debt problem, as I point out repeatedly, creating any exemption designed to relax its enforcement could result in its social significance being compromised. It is on those grounds that we are in the process of formulating a statement in our second reply that it would be difficult, or not acceptable, to undertake the idea. 例文帳に追加

日本国はご存じのように、法の下の公正ということがございまして、一部の地域のみ、今お話がございました出資法の上限金利を上回るような貸付けを刑罰の対象から除外することは、法の公正に反するのではないかと考えております。現行の規制は、当時、マスコミが大変大きく取り上げていただきまして、この法律は、私が何回も言っているように、全党一致で多重債務問題への対処として設けられた法律でもございますから、例外的に緩和措置を講ずることは、社会的意義を損なうのではないか。そういった理由から、対応がなかなか難しいのではないか、対応不可だということを、2次回答において示しているところでございます。 - 金融庁

For example, when a chemical substance is described merely by its name or its chemical formula in a publication and the description does not show the manufacturing process clearly enough that a person skilled in the art is able to manufacture the substance on the basis of the common general knowledge as of the filing, the chemical substance is not included in "cited inventions"(Note that this does not mean that the claim violates the enablement requirement under Article 36(4)(i) where the publication is a patent application claiming the chemical substance as one of the alternatives described in the Markush form). Even though the prior art constitutes an incomplete expression or there is a defect in some of the prior art, it can be cited in assessing the novelty and the inventive step, when the person skilled in the art can readily understand the technical features of the claimed invention based on common technical knowledge or empirical rules. 例文帳に追加

したがって、例えば、刊行物に化学物質名又は化学構造式によりその化学物質が示されている場合において、当業者が本願出願時の技術常識を参酌しても、当該化学物質を製造できることが明らかであるように記載されていないときは、当該化学物質は「引用発明」とはならない（なお、これは、当該刊行物が当該化学物質を選択肢の一部とするマーカッシュ形式の請求項を有する特許文献であるとした場合に、その請求項が第36条第4項第1号の実施先行技術に不完全な表現が含まれるか又は一部の先行技術に瑕疵があったとしても、当業者が技術常識や経験則に基づき容易に発明の技術的特徴を理解することができる場合は、新規性及び進歩性を判断する際に引用することが可能である)。 - 特許庁

Answering the question just posed to the Minister as to whether there is any specific deal with respect to establishing a Japan Desk or making an MOU, there is not yet a specific agreement that JBIC has entered into with any local financial institution, etc. overseas. As JBIC itself does not have much contact with mid-to-large companies and SMEs located in Japan, the initial step will be for (Japanese) regional financial institutions to comprehend the needs of those mid-to-large companies and SMEs and then JBIC will, based on the needs thus grasped, move on to make a decision in the capacity of JBIC as to which local financial institution, etc. to enter into an MOU with. An agreement being an agreement, however, an MOU will be made naturally as a result of negotiation with the prospective party to it and other actions will then follow, including establishing a Japan Desk and sending staff members of the regional financial institution in the capacity of JBIC staff members. While I suspect that it will take some time before any MOU is entered into between JBIC and a local financial institution, etc., my guess is that the process of sending regional financial institution staff members to JETRO could happen a little earlier. 例文帳に追加

先ほど大臣へのご質問の中に、ジャパンデスク設置、MOUの締結について、具体的な話があるかということでしたが、JBICはまだ具体的に海外の地場金融機関等とMOUを締結したことはありません。JBIC自身は必ずしも日本国内の中堅・中小企業との関係はあまりありませんので、まずは、（本邦）地域金融機関がこの中堅・中小企業のニーズを把握した上で、そのニーズを踏まえて、JBICとして、特にどこの地場金融機関等とMOUを締結するのかを決めますが、相手がある話ですから交渉の結果、MOU締結がなされれば、そこでジャパンデスクを設置して、地域金融機関の職員をJBICの職員として派遣するという段取りになると思います。ですから、JBICと地場金融機関等との間のMOU締結には少し時間がかかるとは思いますが、JETROに地域金融機関の職員を派遣することについては、少し早めにできるのではないかと思います。 - 金融庁

3. We reaffirm our commitment to coordinated policy action by all G20 members to achieve strong, sustainable and balanced growth. Our main priority actions include implementing medium term fiscal consolidation plans differentiated according to national circumstances in line with our Toronto commitment, pursuing appropriate monetary policy, enhancing exchange rate flexibility to better reflect underlying economic fundamentals and structural reforms, to sustain global demand, increase potential growth, foster job creation and contribute to global rebalancing. We discussed progress made since the Seoul Summit and stressed the need to reduce excessive imbalances and maintain current account imbalances at sustainable levels by strengthening multilateral cooperation. We agreed on a set of indicators that will allow us to focus, through an integrated two-step process, on those persistently large imbalances which require policy actions. To complete the work required for the first step, our aim is to agree, by our next meeting in April, on indicative guidelines against which each of these indicators will be assessed, recognizing the need to take into account national or regional circumstances, including large commodity producers. While not targets, these indicative guidelines will be used to assess the following indicators: (i) public debt and fiscal deficits; and private savings rate and private debt (ii) and the external imbalance composed of the trade balance and net investment income flows and transfers, taking due consideration of exchange rate, fiscal, monetary and other policies. We also adopted a timetable for developing the 2011 action plan that will implement our Framework for Strong, Sustainable and Balanced Growth and monitor the commitments already made. As agreed in Seoul, we call on the IMF to provide an assessment as part of the Mutual Assessment Process on progress towards external sustainability and consistency of policies at our October meeting. At that time, we will also review a report on the MAP including an action plan informed by the analysis on the root causes of persistently large imbalances based on the agreed guidelines. We will also review an assessment of progress made in meeting commitments made in Seoul. 例文帳に追加

3. 我々は、強固で持続可能かつ均衡ある成長を達成するための全ての G20 メンバーによる協調した政策措置へのコミットメントを再確認する。我々の主要な優先的政策措置は、トロントでのコミットメントに沿った、各国の状況によって差別化された中期財健全化計画の実施、適切な金融政策の実現、根底にある経済のファンダメンタルズをよりよく反映した、為替レートの柔軟性の向上及び世界需要を維持し、潜在成長を増大させ、雇用創出を助け、世界的なリバランスに貢献する構造改革を含む。我々は、ソウル・サミット以降の進捗を議論し、多角的協調を強化することにより、過度の不均衡を縮小し経常収支を持続可能な水準で維持することの必要性を強調した。我々は、統合された 2 段階のプロセスを通じて、政策措置を必要とするような継続した大規模な不均衡に焦点を当てることを可能にする一連の項目に合意した。第 1段階に必要な作業を完了するため、我々の目標は、大規模な一次産品生産者を含む、国及び地域の状況を考慮する必要性を認識しつつ、4 月の次回会合までに、これらの項目それぞれを評価する参考となるガイドラインに合意することである。これらの参考となるガイドラインは、目標となるものではないが、以下の項目を評価するのに使用される： (i)公的債務と財政赤字、民間貯蓄率と民間債務、(ii)為替・財政・金融・その他の政策を十分に考慮しつつ、貿易収支、投資所得及び対外移転のネットフローから構成される対外バランス。我々はまた、強固で持続可能かつ均衡ある成長のための枠組みを実施し、既に行ったコミットメントをモニターする 2011 年版の行動計画の策定へ向けた予定表を採択した。ソウルで合意したように、我々は、IMF に対し、相互評価プロセスの一部として、対外的な持続可能性と政策の一貫性確保に向けた進捗についての評価を 10 月の会合において提供することを求める。その際、我々はまた、合意されたガイドラインに基づく継続した大規模な不均衡の原因に関する分析によって情報を得て、行動計画を含む MAP に関する報告のレビューを行う。我々はまた、ソウルでのコミットメントを達成するためになされた進捗の評価をレビューする。 - 財務省

In the course of examination the Patent Office shall: refuse to recognize the subject matter of the application as an invention, in particular where the Office reveals that it does not concern any tangible creation susceptible of application, determined by means of technical features relating to its structure or composition, nor any particular technical way in which it affects a material, nor new use of a substance comprised in the state of the art; (ii)refuse to recognize the subject matter of the application as a new invention, where it may prove that all the technical features of the technical solution or of a variation of the technical solution contained in the application, taken together, are comprised in the state of the art and are not characterized by the production of unexpected effects; recognize the claimed invention that meets the criterion of novelty as a technical solution not involving an inventive step, where the Office may cite those documents from the state of the art, on the basis of which it may reasonably claim that the invention's capability of being carried out or applied is clearly implied by that state of the art, when taking into account average skills of a person skilled in the art; refuse to recognize the subject matter of the application as a technical solution susceptible of industrial application, in particular when it finds that it is infeasible for that solution to be used for manufacturing of the product or for the claimed process to be used in a technical sense.例文帳に追加

特許庁は，審査の過程において次のことを行う。 特に出願の主題が，構造又は構成に関する技術的特徴から判断して，出願可能な実体的な創造物に関係しておらず，また物質に作用する特定の技術的方法にも，技術水準に含まれる物質の新たな用途にも関係していないことを庁が明らかにした場合は，発明としての出願の主題の認容を拒絶する。出願に含まれる，技術的解決方法又はその変種の技術的特徴のすべてが，全体として技術水準に含まれており，かつ，予期できない効果の出現によって特徴付けられていないことを特許庁が証明することができる場合は，出願の主題を新たな発明として認容することを拒絶する。特許庁が技術水準から書類を引用することができ，その書類を基礎として特許庁が，当該技術の熟練者の平均的熟練度を考慮に入れたときに，発明が実施され又は利用される可能性が当該技術水準に明瞭に示されていることを合理的に主張することができる場合は，新規性の基準に適合するクレームされた発明を，進歩性を含まない技術的解決方法として認容する。 特に，製品の製造のために当該解決方法が実施されること又はクレームされた方法が技術的な意味で実施されることが不可能であることを特許庁が認めたときは，出願の主題を産業上の利用可能性のある技術的解決方法として認容することを拒絶する。 - 特許庁