「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

The presence of an inventive step is determined based on whether or not it could be reasoned that person skilled in the art is able to easily arrive at the claimed inventions based on the cited inventions, by constantly considering the process the person skilled in the art may take based on the exact understanding of the technical field of the claimed invention as of the filing. 例文帳に追加

進歩性の判断は、本願発明の属する技術分野における出願時の技術水準を的確に把握した上で、当業者であればどのようにするかを常に考慮して、引用発明に基づいて当業者が請求項に係る発明に容易に想到できたことの論理づけができるか否かにより行う。 - 特許庁

This method also includes a step for etching the predetermined region of the inter-layer insulating films, and then for stopping the etching process at the etching stop films to form a damascene pattern.例文帳に追加

所定の構造が形成された半導体基板１０１の上部に誘電定数が低い物質を用いたエッチング停止膜１０２，１０４を形成し、層間絶縁膜１０３，１０５を形成する段階;及び上記層間絶縁膜の所定領域をエッチングし、上記エッチング停止膜でエッチング工程が停止するようにしてダマシンパターンを形成する段階を含む。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for etching a metal oxide film where metal and oxygen are bonded using the mixture of reducing gas having properties for reducing the metal oxide film and nonreactive to that metal, and reactive gas having properties for etching that metal as the etching gas.例文帳に追加

金属と酸素が結合した金属酸化膜を還元する性質を有し、かつ、前記金属と非反応の性質を有する還元性ガスと、前記金属を蝕刻する性質を有する反応性ガスとの混合ガスをエッチングガスに用いて、前記金属酸化膜をエッチングする工程を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The invention relates to the process for producing transgenic eucaryotic cells, especially a plant, comprises a step of contacting a culture of untransformed cells with an inhibitor of poly-(ADP-ribose) polymerase, for a period of time sufficient to reduce the response of the cultured cells to stress and to reduce their metabolism.例文帳に追加

本発明は、非形質転換細胞の培養物を、ストレスに対する応答を低減させるのに充分であって、尚且つ該培養細胞の代謝を低減させるのに充分な期間だけ、ポリ−（ＡＤＰ−リボ−ス）ポリメラ−ゼの阻害剤に接触させる工程を具備する、トランスジェニックな真核細胞、特に植物を産生させる方法に関する。 - 特許庁

At the setting process step, adjustment of the shape of the image itself is performed such as adjustment of parallelism, squareness, magnification and the like is performed in first and then adjustment of image forming position for adjusting the position of the image with respect to the recording material such as adjustment of side skew, lead registration, side registration, front and rear registration and the like.例文帳に追加

この設定工程においては、平行度調整、直角度調整、倍率調整などの画像自体の形状を調整する画像形状調整を先に行い、その後にサイドスキュー調整、リードレジ調整、サイドレジ調整、表裏レジ調整などの記録材に対する画像の位置を調整する画像形成位置調整を行う。 - 特許庁

In the apparatus 70 for coding an image information, a dead zone calculator 71 calculates a dead zone of an input range of a quantized output '0' at each component of an orthogonal transformation coefficient so that the higher the area orthogonal transforming coefficient is, the wider the area is, for example, by considering a virtual weight process for a quantizing step size in the case of the quantization.例文帳に追加

画像情報符号化装置７０において、デッドゾーン算出部７１は、量子化の際の量子化ステップサイズに対する仮想的な重み付け処理を考慮して、例えば高域直交変換係数ほど広くなるように、直交変換係数の成分毎に、量子化出力を０とする入力の範囲であるデッドゾーンを算出する。 - 特許庁

The zeolite is obtained by dissolving the waste diatom earth used in a filtering step of the beer manufacturing process and containing organic compounds as it is in a sodium hydroxide aqueous solution to obtain a sodium silicate aqueous solution, dissolving sodium aluminate or a waste aluminum material in a sodium hydroxide aqueous solution to obtain sodium aluminate aqueous solution and carrying out hydrothermal synthesis using the sodium silicate aqueous solution and the sodium aluminate aqueous solution.例文帳に追加

ビール製造工程における濾加工程で用いた有機物を含む廃ケイソウ土を、そのまま水酸化ナトリウム水溶液に溶解させてケイ酸ナトリウム水溶液を得、アルミン酸ナトリウム又は廃棄物アルミ材を水酸化ナトリウム水溶液に溶解させてアルミン酸ナトリウム水溶液を得、これらの水熱合成によってゼオライトを得る。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition curable by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, high in productivity because of being good in separability even in the washing step essential to its production process, liquid at normal temperatures and therefore excellent in handleability, and giving a cured product with good flexibility, chemical resistance and magic ink stain resistance.例文帳に追加

紫外線又は電子線の照射によって硬化可能で、製造工程に不可欠な洗浄行程においても分離が良好なため生産性に優れ、得られた樹脂組成物が常温で液状でありハンドリング性に優れ、さらに、硬化により可とう性、耐薬品性及び耐マジック汚染性が良好な硬化物を与える光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A thick-film resist formed by a photolithographic technique and a film represented by a silicon oxide film formed by an etching technique with the resist patterns of the thick-film resist as a mask are laminated as a mask for ion implantation in a semiconductor manufacturing process step, by which the ion implantation mask patterns having fine patterns of a high aspect ratio not possible heretofore are obtained.例文帳に追加

半導体製造工程におけるイオン注入用マスクとして、フォトリソグラフィ技術により形成した厚膜レジストと、この厚膜レジストのレジストパターンをマスクとしてエッチング技術により形成した酸化シリコン膜に代表される膜を積層し、従来にない高アスペクト比の微細パターンを有するイオン注入マスクパターンを得るようにした。 - 特許庁

The method of manufacturing the IC cards and the IC tags containing at least one layer of moisture curing adhesive layers and at least layer of resin films includes a process step of laminating at least ≥1 layer of porous members containing at least one kind of moisture curing reaction accelerators within the adhesive layers.例文帳に追加

少なくとも１層の湿気硬化型接着剤層と、少なくとも１層の樹脂フィルムを含有するＩＣカード及びＩＣタグの製造方法において、該接着剤層内に少なくとも１種の湿気硬化反応促進剤を含んだ多孔質部材を、少なくとも１層以上積層させる工程を含むＩＣカード又はＩＣタグの製造方法。 - 特許庁

This method for preparing the alkali cellulose is provided by comprising a contact-filtration process of performing a vacuum filtration while bringing pulp in contact with an alkali metal hydroxide solution on a moving filtering plane and collecting a contact product remaining on the filtering plane, and a draining step of draining the obtained contact product, and the method for preparing cellulose ether by using the alkali cellulose is provided.例文帳に追加

移動する濾過面上でパルプとアルカリ金属水酸化物溶液を接触させながら真空濾過を行い、濾過面上に残った接触物を取り出す接触濾過工程と、得られた接触物を脱液する脱液工程とを含むアルカリセルロースの製造方法、及びこのアルカリセルロースを用いるセルロースエーテルの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a process for preparing a sulfonate group-containing fluorine polymer, a fluorine polymer containing a repeating unit having a sulfonyl fluoride group at its side chain terminal is treated with an amine to obtain a polymer, which is heat molded and subsequently treated with an acid to be converted, via a single step, into a fluorine polymer containing a repeating unit having a sulfonate group.例文帳に追加

スルホニルフルオライド基を側鎖末端に持つ繰り返し単位を含有するフッ素系ポリマーを、アミン処理することにより得られるポリマーを熱成形した後に酸で処理することにより１段階で、スルホン酸基を有する繰り返し単位を含有するフッ素系ポリマーに変換することを特徴とする、フッ素系スルホン酸基含有ポリマーの製造方法である。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process of a semiconductor device and positionally accurately adjust and control a first layer and a halfway layer for the next second layer or layers after the halfway layer, by confirming comprehensively in lump accuracies of many kinds of the first layers or the halfway layers by detecting and evaluating a transfer shift at each step adjacent shot.例文帳に追加

一層目または途中層の多数の種類の精度確認を総合的に一括して、ステップ隣接ショット間毎の転写ズレを検出して評価することにより、半導体デバイスの製造工程を簡略化でき、かつ、次の第２層目または途中層以降の層のために第１層目または途中層を位置的に精度よく調整制御する。 - 特許庁

The method for production of diphenylmethane based polyamine comprising a step (a) reacting aniline and formaldehyde in the presence of an acid catalyst to form the polyamine, (b) neutralizing the reaction mixture by a base, the neutralization process is carried out in the presence of one or more alcohols, and the mole ratio of the alcohol and formaldehyde is ≥ 0.02:1.例文帳に追加

ａ）アニリンおよびホルムアルデヒドを酸触媒の存在で反応させてポリアミンを形成させ、ｂ）反応混合物を塩基で中和することにより、ジフェニルメタン系列のポリアミンを製造する方法の場合に、少なくとも１つのアルコールを中和工程の間および／または後に存在させ、この場合アルコールとホルムアルデヒドとのモル比は、少なくとも０．０２：１である。 - 特許庁

To provide a multilayer ceramic capacitor employing a dielectric porcelain composed of BT crystal grains and BCT crystal grains as a dielectric layer in which deterioration incident to time variation in high temperature load test can be suppressed, and a high insulation multilayer ceramic capacitor can be obtained without providing a step for reoxidation processing in the fabrication process.例文帳に追加

ＢＴ結晶粒子とＢＣＴ結晶粒子とから構成される誘電体磁器を誘電体層とする積層セラミックコンデンサについて、高温負荷試験における時間変化に伴う低下を抑制できる積層セラミックコンデンサ、ならびに、製造工程において再酸化処理の工程を設けなくても高絶縁性の積層セラミックコンデンサを提供する。 - 特許庁

Dry ice fine particles 4 are sprayed in a regeneration process step onto the outer layer of the roll 3 preliminarily designed as above described to rapidly cool and to add impact on the layer; and thereby, the outer layer is stripped and removed on the interface of the two layers, and the shaft 1 including the inner layer is recovered and reused.例文帳に追加

そして、このように予め設計したロール３に対し、その再生処理段階で、その外側の層に、ドライアイス微粒子４を噴射し、その層の急冷およびその層への衝撃付与を行い、上記２層の界面で上記外側の層を剥離除去し、上記内側の層を含む軸体１を回収し再利用に供する。 - 特許庁

To provide, in a working process of a substrate in MEMS manufacturing, a coating composition used for forming an organic film for protecting the substrate, a composition applied by evenly plugging silicon wafer steps especially having a high step shape, and also to provide a coating composition available for a protective film in etching processing of a silicon oxide film.例文帳に追加

ＭＥＭＳの製造における基板の加工工程において、基板保護用の有機膜を形成するのに用いる塗布組成物、特に高段差形状を有するシリコンウエハの段差を平坦に埋め込み塗布することができる組成物、またシリコン酸化膜のエッチング加工時の保護膜としても使用できる塗布組成物を提供しようとするものである。 - 特許庁

The process for manufacturing a solid electrolytic capacitor comprising a step for forming a conductive polymer layer by impregnating a capacitor element 1, obtained by winding an anode foil 2 having an oxide coating formed on the surface and a cathode foil 3 through a separator 4, sequentially with oxidizing agent and monomer and then cleaning the capacitor element with solvent which can dissolve the monomer.例文帳に追加

表面に酸化皮膜が形成された陽極箔２と、陰極箔３とをセパレータ４を介して巻回したコンデンサ素子１に、酸化剤およびモノマーを順次含浸させて導電性高分子層を形成した後、当該コンデンサ素子を、上記モノマーを溶解し得る溶媒によって洗浄する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This system comprises naming a sequential loading number to the below-mentioned loading tanks according to the order of repetitive uses, writing the loading number on historical data of each step in food production process in which plural production steps are sequentially performed and plural loading tanks are repetitively used, and searching production historical data by using the loading number.例文帳に追加

複数の工程を順送りに進行させ、かつ複数の仕込タンクを繰り返し使用する食品製造プロセスにおいて、前記仕込タンクに繰り返し使用する順番に仕込順号を付けるとともに、それぞれの工程における製造履歴データに前記仕込順号を付け、前記仕込順号により製造履歴データを検索する。 - 特許庁

To provide a coating application type magnetic recording medium which is a magnetic recording medium having excellent electromagnetic conversion characteristics, more particularly a greatly improved error rate in a high- density recording region and is excellent in productivity and travelling durability and which is low in noise, excellent in durability in a recording and reproducing system combined with an MR head and is excellent in handling characteristics in a production process step.例文帳に追加

電磁変換特性が良好で特に高密度記録領域でのエラーレートが格段に改良された、生産性及び走行耐久性に優れた磁気記録媒体にあって、ＭＲヘッドを組み合わせた記録再生システムにおいてノイズの低い耐久性に優れ、生産工程でのハンドリング特性に優れる塗布型磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The sterilizing method of the thin-walled plastic bottle comprises a step of heat-sterilizing at least the inner surface of the thin-walled plastic bottle and a process of cooling the heat-sterilized thin-walled plastic bottle wherein the thin-walled plastic bottle is heat-sterilized and/or cooled while keeping the inside of the thin-walled plastic bottle at positive pressure or slightly positive pressure.例文帳に追加

薄肉プラスチックボトルの少なくとも内面を加熱殺菌する工程および加熱殺菌された薄肉プラスチックボトルを冷却する工程とを含む薄肉プラスチックボトルの殺菌方法であって、前記薄肉プラスチックボトルの内部を陽圧または微陽圧に維持しながら前記薄肉プラスチックボトルの加熱殺菌および／または冷却を行う。 - 特許庁

The manufacturing process of hydrogen peroxide with the anthraquinone method involves (1) separating organic phase 1 and water phase 1 by washing the bottom liquid obtained from the solvent distillation step and (2) removing the solvent-degenerated matter by treating separated water phase 1 in order to remove the solvent-degenerated matter accumulated in the working solution.例文帳に追加

アントラキノン法による過酸化水素の製造方法において、作動溶液に蓄積する溶媒変成物を除去するために、（１）溶剤蒸留工程で得られた缶出液を水で洗浄して、有機相１と水相１に分離し、（２）分離した水相１を処理して溶媒変成物を除去することを特徴とする過酸化水素の製造方法。 - 特許庁

This method of manufacturing display device includes a step of patterning a resist layer 2 having a thickness excluding the thickness of the thickest resist film of a plurality of resist films having different film thicknesses in an area 13 other than a display area in a photoengraving process in which the plurality of resist films are provided for forming the pattern of the display device on the surface of a substrate 5.例文帳に追加

基板５表面上に表示装置のパターンを形成するために、複数のレジスト膜厚を設ける写真製版工程において、表示領域以外の領域１３に、前記複数のレジスト膜厚のうち、最も厚いレジスト以外の厚さを有するレジスト層２をパターン形成する工程を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。 - 特許庁

The two step nitration method for the dinitrotoluene is characterized in that (1) the mass ratio of an aqueous phase to an organic phase in a mononitration process is higher than 2:1; (2) an organic phase is dispersed in an acid-containing aqueous phase in each nitration reaction; and (3) an amount of the used nitric acid per mole of the toluene is <2.06 mole.例文帳に追加

（１）モノニトロ化工程における水相と有機相との質量比が２：１より高い；（２）有機相を、各ニトロ化反応において酸含有の水相中に分散させる；及び（３）トルエン１モル当たりに使用される硝酸の量は、２．０６モル未満であるジニトロトルエンの製造のための二段階ニトロ化法によって解決される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus which enhances a process efficiency such as productivity and workability by attaching a separate film to an accurate location without loss of a step and which capable of remarkably improving product quality by preventing the occurrence of defective products while controlling the waste of attaching the separate film onto the wrapper film, as much as possible.例文帳に追加

包装紙フィルムに付着すべき別途のフィルムの無駄遣いを極力抑えながら、工程のロスなしに別途のフィルムを正確な個所に付着することで作業性及び生産性などの工程効率を向上し、且つ製品不良も防止することで製品の品質をも大きく向上することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In the second step, the pulse laser light whose beam intensity has been adjusted is radiated to the substrate, and the focal point of the pulse laser light is fixed to make scanning along the scheduled division line, so that a plurality of linear process traces which come down to such depth as not reach the surface of the substrate with the reform layer as a start point, are periodically formed along the scheduled division line.例文帳に追加

第２工程は、ビーム強度の調整されたパルスレーザ光を基板に照射するとともに、パルスレーザ光の焦点位置を固定して分断予定ラインに沿って走査し、改質層を起点として基板の表面に到達しない深さまで進行する複数の線状加工痕を分断予定ラインに沿って周期的に形成する工程である。 - 特許庁

To prevent reattachment of chips produced during modification by removal to a substrate in a step of removing defective portions remaining so as to be different from a state expected by design against a design in a light shielding film Cr, an absorbing film TaN, a phase film MoSi left without being removed in the process and the substrate Qz by using a probe of an atomic force microscope.例文帳に追加

プロセス工程で除去されず残ってしまった遮光膜Ｃｒ、吸収膜ＴａＮ、位相膜ＭｏＳｉ、や基板Ｑｚの設計とは異なり残留した欠陥部分を原子間力顕微鏡の探針を用いて除去する工程において、除去修正時に発生する削り屑の基板への再付着を防止する。 - 特許庁

The excess supernatant produced in a pretreating process step for the highly hydrous sludge using the coagulant is effectively utilized as an aqueous hexad chromium reducing solution which is mainly composed of a strong acid salt and is added with a reducing agent or as an aqueous coagulation effect promoting solution which is mainly composed of a light metal and is added with a chloride.例文帳に追加

凝集剤を用いた高含水汚泥の前処理工程で生じる余剰上澄み水に，強酸塩を主体とした還元剤を添加した六価クロム還元水溶液として，あるいは軽金属を主成分とした塩化物を添加した凝結効果促進水溶液として有効利用することで，上記課題を解決する． - 特許庁

The structure of the protective spectacles includes a single structure 12 made by a two shots process step within a single mold and this single structure has outer rigid segments 12A on the outer side adhered to soft segments 13B having nose pieces 12C and soft segments 12B on the inner side formed with flexible projections 12D to be applied on the nose of a wearing person.例文帳に追加

保護眼鏡の構造は、単一モールド内で２ショット工程によって作られる単一構造１２を含み、その単一構造は、ノーズ片１２Ｃを有する軟質部分１２Ｂに接着された外側の硬質部分１２Ａと、着用者の鼻にあわせるためのフレキシブルな突起１２Ｄが形成されている内側の軟質部分１２Ｂと、を有する。 - 特許庁

To provide an image forming method, a process cartridge and an image forming apparatus, wherein a residual toner on an electrostatic latent image carrier is not discarded after recovered but reused, contamination on a charging member for the electrostatic latent image carrier is prevented, the residual toner in a developing step is easily recovered and an excellent image stability is obtained with less degradation in durability.例文帳に追加

静電潜像担持体上に残留したトナーを回収破棄せず、再利用し、さらに静電潜像担持体帯電付与部材の汚染を防止し、現像工程での残留トナーの回収を容易にし、優れた画像安定性の得られる耐久劣化も少ない画像形成方法、プロセスカートリッジ、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer film for curved surface printing which is free from the generation of cracks in an image layer constituting a pictorial pattern and capable of performing the curved surface printing with outstanding design characteristics, during a transfer processing step using a curl fit process for applying an activator to the transfer film for curved surface printing having a formed image layer constituting the pictorial pattern.例文帳に追加

絵柄を構成する画像層を形成した曲面印刷用転写フィルムに活性剤を塗布して行うカールフィットによる転写加工工程に際して、絵柄を構成する画像層のひび割れが発生せず、意匠性に優れた曲面印刷を行うことのできる曲面印刷用転写フィルムを提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device, suppressing variations in wafer in-plane attainment temperature caused by a difference in optical characteristics such as wafer in-plane radiation rate and in characteristics caused by a difference in form such as the wiring width in a heat-treating process of the semiconductor manufacturing step.例文帳に追加

半導体製造工程の加熱処理プロセスにおいて、ウェーハ面内における輻射率など光学特性の差異に起因するウェーハ面内の到達温度のばらつきを抑えるとともに、配線幅などの形状の差異に起因する特性のばらつきを抑えることが可能な半導体装置の製造装置と半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The process for the reduction of the residual monomer content and enhancement of the wet strength of articles formed from water-absorbent cross-linked polymer foams containing units derived from monoethylenically unsaturated acids comprises a step of treating the formed articles with at least 0.5 mass% of a polymer which contains primary and/or secondary amino groups and has the molecular weight of at least 300.例文帳に追加

形成された物品を、１級及び／又は２級アミノ基を含有し、かつ少なくとも３００の分子量を有するポリマー少なくとも０．５質量％で処理することで、残留モノマー含分を低下させ、かつ、モノエチレン性不飽和酸から誘導された単位を含有する吸水性架橋ポリマーフォームから形成された物品の湿潤強度を高める。 - 特許庁

Regarding this point, in order to eliminate an additional measurement step of measuring the workpiece 24, a control unit 18 is formed and programmed in such a method that comparison, between a position coordinates acquired by the control unit 18 after the distance compensation of the laser cutting head 22 is made and the reference coordinates stored in memory, is performed before the laser cutting process is started.例文帳に追加

この点に関して、被加工物２４を測定する追加の測定ステップを避けるために、レーザ切断ヘッド２２の距離補正後に制御ユニット１８によって取得された位置座標とメモリに格納された基準位置座標との比較が、レーザ切断プロセスが開始される前に行われるような方法で、制御ユニット１８が形成かつプログラムされる。 - 特許庁

The process for synthesizing the organometallic compound comprises reacting the starting substance comprising a zerovalent transition metal complex (A) or a high-valence transition metal complex (A') with a compound (B) or (B') expressed by general formula (1) or (4) and a neutral ligand (C) or (C') under a nonreducing condition or reducing condition, in one step.例文帳に追加

ゼロ価の遷移金属錯体（Ａ）又は高原子価の遷移金属錯体（Ａ’）からなる出発物質に、下記の一般式（１）又は（４）で示される化合物（Ｂ）又は（Ｂ’）と、中性配位子（Ｃ）又は（Ｃ’）とを、非還元条件下又は還元条件下に一工程で反応させることを特徴とする有機金属化合物の合成方法にて提供。 - 特許庁

In steps S11 and S12, a prescribed instruction in the cycle immediately prior to a non-operation cycle wherein a specific arithmetic unit performs no process is detected in the program and in a step S14, the prescribed instruction in the cycle immediately prior to the non-operation cycle is converted into an instruction with an interlock, to which the indication of the interlock is added.例文帳に追加

ステップＳ１１および１２において、プログラムから、所定の演算ユニットが処理を行わないノンオペレーションサイクルの直前のサイクルにある所定のインストラクションが検出され、ステップＳ１４において、ノンオペレーションサイクルの直前のサイクルにある所定のインストラクションが、インターロックを指示することを追加したインターロック付きインストラクションに変換される。 - 特許庁

The process for producing a nozzle plate having a nozzle hole for ejecting a liquid drop comprises a step for forming a nozzle hole 22 by etching a silicon substrate 10 from the other side in such a state that the silicon substrate 10 having one side bonded with a substrate 50 for supporting the silicon substrate 10 is supported by the supporting substrate 50.例文帳に追加

液滴を吐出するためのノズル孔を有するノズルプレートの製造方法であって、シリコン基板１０の一方の面に、シリコン基板１０を支持するための支持基板５０を接合して、シリコン基板１０を支持基板５０により支持した状態で、シリコン基板１０の他方の面からエッチングを施して、ノズル孔２２を形成するノズル孔形成工程を有する。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting polycrystalline semiconductor film by which only such a substrate that carries a polycrystalline semiconductor film having a normal film quality can be sent to the subsequent step in a TFT(thin film transistor) manufacturing process, etc., by nondestructively inspecting the surface of the semiconductor film for state in a short time.例文帳に追加

短時間のうちに非破壊で半導体膜の表面状態を検査することにより、ＴＦＴの製造工程などにおいて、正常な膜質の多結晶性半導体膜を形成した基板のみを後工程に回すことのできる多結晶半導体膜の検査方法、 および多結晶性半導体膜の検査装置を提供すること。 - 特許庁

To reduce irritation on a user sensing the irritation caused by a preservative in use without taking any special step in prevention of microorganism contamination during a production process or affecting preservability of the skin external preparation by applying the skin external preparation to a skin after immediately adsorbing and reducing the preservative included in the skin external preparation on use.例文帳に追加

皮膚外用剤に含まれる防腐剤を、使用時に速やかに吸着、減少させた後に皮膚に適用することにより、製造工程上の微生物汚染に特別の防止措置を講じることなく、また皮膚外用剤の保存性に影響を与えず、かつ使用時に防腐剤に起因する刺激感を感じる使用者の刺激感を軽減する。 - 特許庁

The method for producing the paper or the paperboard including a step for coating a sizing liquid 2 at least on one surface of the wet paper 1 under papermaking process of the paper or the paperboard includes: coating the sizing liquid 2 in 10-25 wt.% concentration on the wet paper 1 having the water content in a range of 10-25 wt.%, and subjecting the resultant wet paper 1 to post drying treatment.例文帳に追加

紙又は板紙の抄紙工程中で湿紙１の少なくとも一方の表面にサイズ液２を塗布する工程を含む紙又は板紙の製造方法において、湿紙１の水分量が１０〜２５重量％の領域で湿紙１に濃度が１０〜２５重量％のサイズ液２を塗布し、その後湿紙１を後乾燥処理する。 - 特許庁

The cited inventions are found to be identical or similar to the arts described in the working example in the specifications or drawings of the claimed invention and any grounds to deny the inventive step of the claimed inventions are found, such as cited inventions providing the same manufacturing process as and a similar starting material to those described in the working examples, or cited inventions providing a similar manufacturing process and identical starting material to those described in the working examples. 例文帳に追加

本願の明細書若しくは図面に実施の形態として記載されたものと同一又は類似の引用発明であって進歩性否定の根拠となるものが発見された場合(例えば、実施の形態として記載された製造工程と同一の製造工程及び類似の出発物質を有する引用発明を発見したとき、又は実施の形態として記載された製造工程と類似の製造工程及び同一の出発物質を有する引用発明を発見したときなど) - 特許庁

In this case, the process to provide the porous membrane includes a step of combining a predetermined substituent which is different from radicals included in the polymer material with carbon atoms of a main chain of the polymer material via two or more continuous carbon atoms in the predetermined substituent, after the forming process of the porous membrane, and a step to modify at least a part of the porous membrane.例文帳に追加

本発明の非水電解質二次電池用電極の製造方法は、非水電解質二次電池用の正極もしくは負極である電極板を形成する電極板形成工程と、高分子材料から構成される多孔質膜を形成する多孔質膜形成工程を含み該多孔質膜を表面上にもつ該電極板を得る多孔質膜付与工程と、を有する非水電解質二次電池用電極の製造方法において、前記多孔質膜付与工程は、前記多孔質膜形成工程以後に、該高分子材料に含まれる基と異なる所定置換基を該所定置換基内の２以上の連続する炭素原子を介して該高分子材料の主鎖の炭素原子と結合させて、該多孔質膜の少なくとも一部を修飾する修飾工程をもつことを特徴とする。 - 特許庁

A product invention should be (except for certain particular cases where it is impossible to specify the product without using a manufacturing process thereof) described in such a way that the technical constitutions are directly stated in the claim, even if the manufacturing process of the product is disclosed in the product claim. Thus, an examiner should compare the claimed product itself specified by the description of the claim with a prior art published prior to the time of filing when assessing novelty and inventive step, unless there is a special reason in the description of the claim. 例文帳に追加

物の発明は（その製造方法により物を特定せざるを得ない特別の場合を除き）、請求項に製造方法が記述されていたとしても、発明の対象である物の構成を直接特定する方式で記載しなければならない。従って審査官は当該発明の新規性・進歩性等を判断するにあたっては、請求項の説明に特別な理由が記載されていない限り請求項の記載により特定される発明品自体をその出願前に公知となった先行技術と比較することとする。 - 特許庁

The method for manufacturing the optical article includes a heat-press step of placing the quartz base 51 and the glass material 52 having a glass transition temperature lower than the α-β phase transition temperature of the quartz base 51 between one mold and the other mold, and heating the molds while fastening to process the glass material 52 into a molded part 53.例文帳に追加

本発明の光学物品の製造方法は、一方の金型と他方の金型との間に水晶基材５１とこの水晶基材５１のα−β相転移温度よりガラス転移温度が低いガラス材５２とを配置するとともに、これらの金型を型締めしながら加熱してガラス材５２を成形部５３に加工する加熱プレス工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

The process for manufacturing a semiconductor device comprises a step for mounting a semiconductor chip 30 having a plurality of electrodes 32 in a semiconductor chip mounting region 31 of a wiring board 10 including a wiring pattern 12 having a plurality of electrical connections 14 and a base substrate 20, and connecting each electrical connection 14 electrically with any one electrode 32 while opposing each other.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、複数の電気的接続部１４を有する配線パターン１２とベース基板２０とを含む配線基板１０の、半導体チップを搭載するための領域３１に、複数の電極３２を有する半導体チップ３０を搭載して、それぞれの電気的接続部１４といずれかの電極３２とを対向させて電気的に接続することを含む。 - 特許庁