「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(73ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a cleaning liquid for cleaning a substrate in a production process of a semiconductor device and affording sufficient cleaning effects even when a low dielectric constant film containing carbon is used as an interlayer dielectric and to provide a method for producing the semiconductor device including a step of cleaning the substrate using the cleaning liquid.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において基板を洗浄する洗浄液であって、層間絶縁膜として炭素を含む低誘電率膜を使用した場合であっても十分な洗浄効果を得ることができる洗浄液、及びこの洗浄液を使用した基板洗浄工程を含む半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A pharmaceutical formulation comprising at least one omega-3 polyunsaturated fatty acid in free acid form or a pharmacologically acceptable derivative thereof is contained in a soft gelatin capsule characterized in that the capsule does not harden significantly over time, thus has a longer shelf life, and comprises gelatin extracted by an extraction process comprising a step of acid pre-treatment of a collagen source.例文帳に追加

オメガ−３多価不飽和脂肪酸の遊離酸型又は薬理学的に許容されるその誘導体の少なくとも一つを含む医薬製剤が、長期に亘り顕著に硬くなることが無く、有効期限がより長くなることを特徴とする、コラーゲン源の酸による前処理工程を含む抽出プロセスによって抽出されたゼラチンを含む軟ゼラチンカプセル。 - 特許庁

In the step S1 in the manufacturing process, at least the conductor pattern width, conductor pattern thickness, and insulating layer thickness are taken as parameters, and an effective conductor pattern width expressed by multiplying these parameters by a prescribed factor to correct them is introduced, and the simulation values of the characteristic impedances are calculated as a function of the effective conductor pattern width.例文帳に追加

このとき、製造プロセスにおいては、ステップＳ１において、少なくとも、導体パターン幅、導体パターン厚、及び絶縁層厚をパラメータとするとともに、これらパラメータに対して所定の係数を乗じて補正することによって表される実効導体パターン幅を導入し、実効導体パターン幅の関数として、特性インピーダンスのシミュレーション値を算出する。 - 特許庁

The process increases a leaching rate of zinc, by adjusting a particle size of the concentrate, reducing the concentrations of the pulp and an oxidizing agent, and instead reacting them in the steps divided into two or more, because when a reaction product (S) formed in a leaching step covers the surface of a mineral (ZnS), a leaching rate extremely decreases.例文帳に追加

浸出工程における反応生成物（Ｓ）が鉱物（ＺｎＳ）表面を覆うようになると浸出速度が極端に低下するため、精鉱の粒度を調整し、パルプ濃度及び酸化剤濃度を低く抑え、その代わりに反応を二段階若しくは多段階に分けて行うことにより亜鉛浸出率を高めることができる。 - 特許庁

This method for preparing the alkali cellulose is provided by comprising a contact-filtration process of performing a vacuum filtration while bringing pulp in contact with an alkali metal hydroxide solution on a moving filtering plane and collecting a contact product remaining on the filtering plane, and a draining step of draining the obtained contact product, and the method for preparing cellulose ether by using the alkali cellulose is provided.例文帳に追加

移動する濾過面上でパルプとアルカリ金属水酸化物溶液を接触させながら真空濾過を行い、濾過面上に残った接触物を取り出す接触濾過工程と、得られた接触物を脱液する脱液工程とを含むアルカリセルロースの製造方法、及びこのアルカリセルロースを用いるセルロースエーテルの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a process for preparing a sulfonate group-containing fluorine polymer, a fluorine polymer containing a repeating unit having a sulfonyl fluoride group at its side chain terminal is treated with an amine to obtain a polymer, which is heat molded and subsequently treated with an acid to be converted, via a single step, into a fluorine polymer containing a repeating unit having a sulfonate group.例文帳に追加

スルホニルフルオライド基を側鎖末端に持つ繰り返し単位を含有するフッ素系ポリマーを、アミン処理することにより得られるポリマーを熱成形した後に酸で処理することにより１段階で、スルホン酸基を有する繰り返し単位を含有するフッ素系ポリマーに変換することを特徴とする、フッ素系スルホン酸基含有ポリマーの製造方法である。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process of a semiconductor device and positionally accurately adjust and control a first layer and a halfway layer for the next second layer or layers after the halfway layer, by confirming comprehensively in lump accuracies of many kinds of the first layers or the halfway layers by detecting and evaluating a transfer shift at each step adjacent shot.例文帳に追加

一層目または途中層の多数の種類の精度確認を総合的に一括して、ステップ隣接ショット間毎の転写ズレを検出して評価することにより、半導体デバイスの製造工程を簡略化でき、かつ、次の第２層目または途中層以降の層のために第１層目または途中層を位置的に精度よく調整制御する。 - 特許庁

The method for production of diphenylmethane based polyamine comprising a step (a) reacting aniline and formaldehyde in the presence of an acid catalyst to form the polyamine, (b) neutralizing the reaction mixture by a base, the neutralization process is carried out in the presence of one or more alcohols, and the mole ratio of the alcohol and formaldehyde is ≥ 0.02:1.例文帳に追加

ａ）アニリンおよびホルムアルデヒドを酸触媒の存在で反応させてポリアミンを形成させ、ｂ）反応混合物を塩基で中和することにより、ジフェニルメタン系列のポリアミンを製造する方法の場合に、少なくとも１つのアルコールを中和工程の間および／または後に存在させ、この場合アルコールとホルムアルデヒドとのモル比は、少なくとも０．０２：１である。 - 特許庁

To provide a multilayer ceramic capacitor employing a dielectric porcelain composed of BT crystal grains and BCT crystal grains as a dielectric layer in which deterioration incident to time variation in high temperature load test can be suppressed, and a high insulation multilayer ceramic capacitor can be obtained without providing a step for reoxidation processing in the fabrication process.例文帳に追加

ＢＴ結晶粒子とＢＣＴ結晶粒子とから構成される誘電体磁器を誘電体層とする積層セラミックコンデンサについて、高温負荷試験における時間変化に伴う低下を抑制できる積層セラミックコンデンサ、ならびに、製造工程において再酸化処理の工程を設けなくても高絶縁性の積層セラミックコンデンサを提供する。 - 特許庁

Dry ice fine particles 4 are sprayed in a regeneration process step onto the outer layer of the roll 3 preliminarily designed as above described to rapidly cool and to add impact on the layer; and thereby, the outer layer is stripped and removed on the interface of the two layers, and the shaft 1 including the inner layer is recovered and reused.例文帳に追加

そして、このように予め設計したロール３に対し、その再生処理段階で、その外側の層に、ドライアイス微粒子４を噴射し、その層の急冷およびその層への衝撃付与を行い、上記２層の界面で上記外側の層を剥離除去し、上記内側の層を含む軸体１を回収し再利用に供する。 - 特許庁

To provide, in a working process of a substrate in MEMS manufacturing, a coating composition used for forming an organic film for protecting the substrate, a composition applied by evenly plugging silicon wafer steps especially having a high step shape, and also to provide a coating composition available for a protective film in etching processing of a silicon oxide film.例文帳に追加

ＭＥＭＳの製造における基板の加工工程において、基板保護用の有機膜を形成するのに用いる塗布組成物、特に高段差形状を有するシリコンウエハの段差を平坦に埋め込み塗布することができる組成物、またシリコン酸化膜のエッチング加工時の保護膜としても使用できる塗布組成物を提供しようとするものである。 - 特許庁

The process for manufacturing a solid electrolytic capacitor comprising a step for forming a conductive polymer layer by impregnating a capacitor element 1, obtained by winding an anode foil 2 having an oxide coating formed on the surface and a cathode foil 3 through a separator 4, sequentially with oxidizing agent and monomer and then cleaning the capacitor element with solvent which can dissolve the monomer.例文帳に追加

表面に酸化皮膜が形成された陽極箔２と、陰極箔３とをセパレータ４を介して巻回したコンデンサ素子１に、酸化剤およびモノマーを順次含浸させて導電性高分子層を形成した後、当該コンデンサ素子を、上記モノマーを溶解し得る溶媒によって洗浄する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

This system comprises naming a sequential loading number to the below-mentioned loading tanks according to the order of repetitive uses, writing the loading number on historical data of each step in food production process in which plural production steps are sequentially performed and plural loading tanks are repetitively used, and searching production historical data by using the loading number.例文帳に追加

複数の工程を順送りに進行させ、かつ複数の仕込タンクを繰り返し使用する食品製造プロセスにおいて、前記仕込タンクに繰り返し使用する順番に仕込順号を付けるとともに、それぞれの工程における製造履歴データに前記仕込順号を付け、前記仕込順号により製造履歴データを検索する。 - 特許庁

To provide a coating application type magnetic recording medium which is a magnetic recording medium having excellent electromagnetic conversion characteristics, more particularly a greatly improved error rate in a high- density recording region and is excellent in productivity and travelling durability and which is low in noise, excellent in durability in a recording and reproducing system combined with an MR head and is excellent in handling characteristics in a production process step.例文帳に追加

電磁変換特性が良好で特に高密度記録領域でのエラーレートが格段に改良された、生産性及び走行耐久性に優れた磁気記録媒体にあって、ＭＲヘッドを組み合わせた記録再生システムにおいてノイズの低い耐久性に優れ、生産工程でのハンドリング特性に優れる塗布型磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The sterilizing method of the thin-walled plastic bottle comprises a step of heat-sterilizing at least the inner surface of the thin-walled plastic bottle and a process of cooling the heat-sterilized thin-walled plastic bottle wherein the thin-walled plastic bottle is heat-sterilized and/or cooled while keeping the inside of the thin-walled plastic bottle at positive pressure or slightly positive pressure.例文帳に追加

薄肉プラスチックボトルの少なくとも内面を加熱殺菌する工程および加熱殺菌された薄肉プラスチックボトルを冷却する工程とを含む薄肉プラスチックボトルの殺菌方法であって、前記薄肉プラスチックボトルの内部を陽圧または微陽圧に維持しながら前記薄肉プラスチックボトルの加熱殺菌および／または冷却を行う。 - 特許庁

The presence of an inventive step is determined based on whether or not it could be reasoned that person skilled in the art is able to easily arrive at the claimed inventions based on the cited inventions, by constantly considering the process the person skilled in the art may take based on the exact understanding of the technical field of the claimed invention as of the filing. 例文帳に追加

進歩性の判断は、本願発明の属する技術分野における出願時の技術水準を的確に把握した上で、当業者であればどのようにするかを常に考慮して、引用発明に基づいて当業者が請求項に係る発明に容易に想到できたことの論理づけができるか否かにより行う。 - 特許庁

This method also includes a step for etching the predetermined region of the inter-layer insulating films, and then for stopping the etching process at the etching stop films to form a damascene pattern.例文帳に追加

所定の構造が形成された半導体基板１０１の上部に誘電定数が低い物質を用いたエッチング停止膜１０２，１０４を形成し、層間絶縁膜１０３，１０５を形成する段階;及び上記層間絶縁膜の所定領域をエッチングし、上記エッチング停止膜でエッチング工程が停止するようにしてダマシンパターンを形成する段階を含む。 - 特許庁

The process for producing a raw material for inkjet or an ink for inkjet using the raw material for inkjet comprises a step of performing a centrifugal treatment to remove at least a part of components in a liquid as a medium, wherein the centrifugal treatment is performed at a liquid temperature of 30°C or higher.例文帳に追加

媒体液中の少なくとも一部の成分を除去するために遠心処理を行なう工程を含むインクジェット用原材料あるいはこれを用いたインクジェット用インクの製造方法において、該遠心処理が、液温３０℃以上にて行なわれたものであることを特徴とするインクジェット用原材料あるいはインクジェット用インクの製造方法。 - 特許庁

The process for fabricating a semiconductor device comprises a step for etching a metal oxide film where metal and oxygen are bonded using the mixture of reducing gas having properties for reducing the metal oxide film and nonreactive to that metal, and reactive gas having properties for etching that metal as the etching gas.例文帳に追加

金属と酸素が結合した金属酸化膜を還元する性質を有し、かつ、前記金属と非反応の性質を有する還元性ガスと、前記金属を蝕刻する性質を有する反応性ガスとの混合ガスをエッチングガスに用いて、前記金属酸化膜をエッチングする工程を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The invention relates to the process for producing transgenic eucaryotic cells, especially a plant, comprises a step of contacting a culture of untransformed cells with an inhibitor of poly-(ADP-ribose) polymerase, for a period of time sufficient to reduce the response of the cultured cells to stress and to reduce their metabolism.例文帳に追加

本発明は、非形質転換細胞の培養物を、ストレスに対する応答を低減させるのに充分であって、尚且つ該培養細胞の代謝を低減させるのに充分な期間だけ、ポリ−（ＡＤＰ−リボ−ス）ポリメラ−ゼの阻害剤に接触させる工程を具備する、トランスジェニックな真核細胞、特に植物を産生させる方法に関する。 - 特許庁

At the setting process step, adjustment of the shape of the image itself is performed such as adjustment of parallelism, squareness, magnification and the like is performed in first and then adjustment of image forming position for adjusting the position of the image with respect to the recording material such as adjustment of side skew, lead registration, side registration, front and rear registration and the like.例文帳に追加

この設定工程においては、平行度調整、直角度調整、倍率調整などの画像自体の形状を調整する画像形状調整を先に行い、その後にサイドスキュー調整、リードレジ調整、サイドレジ調整、表裏レジ調整などの記録材に対する画像の位置を調整する画像形成位置調整を行う。 - 特許庁

In the apparatus 70 for coding an image information, a dead zone calculator 71 calculates a dead zone of an input range of a quantized output '0' at each component of an orthogonal transformation coefficient so that the higher the area orthogonal transforming coefficient is, the wider the area is, for example, by considering a virtual weight process for a quantizing step size in the case of the quantization.例文帳に追加

画像情報符号化装置７０において、デッドゾーン算出部７１は、量子化の際の量子化ステップサイズに対する仮想的な重み付け処理を考慮して、例えば高域直交変換係数ほど広くなるように、直交変換係数の成分毎に、量子化出力を０とする入力の範囲であるデッドゾーンを算出する。 - 特許庁

The zeolite is obtained by dissolving the waste diatom earth used in a filtering step of the beer manufacturing process and containing organic compounds as it is in a sodium hydroxide aqueous solution to obtain a sodium silicate aqueous solution, dissolving sodium aluminate or a waste aluminum material in a sodium hydroxide aqueous solution to obtain sodium aluminate aqueous solution and carrying out hydrothermal synthesis using the sodium silicate aqueous solution and the sodium aluminate aqueous solution.例文帳に追加

ビール製造工程における濾加工程で用いた有機物を含む廃ケイソウ土を、そのまま水酸化ナトリウム水溶液に溶解させてケイ酸ナトリウム水溶液を得、アルミン酸ナトリウム又は廃棄物アルミ材を水酸化ナトリウム水溶液に溶解させてアルミン酸ナトリウム水溶液を得、これらの水熱合成によってゼオライトを得る。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition curable by irradiation with ultraviolet rays or electron beams, high in productivity because of being good in separability even in the washing step essential to its production process, liquid at normal temperatures and therefore excellent in handleability, and giving a cured product with good flexibility, chemical resistance and magic ink stain resistance.例文帳に追加

紫外線又は電子線の照射によって硬化可能で、製造工程に不可欠な洗浄行程においても分離が良好なため生産性に優れ、得られた樹脂組成物が常温で液状でありハンドリング性に優れ、さらに、硬化により可とう性、耐薬品性及び耐マジック汚染性が良好な硬化物を与える光硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A thick-film resist formed by a photolithographic technique and a film represented by a silicon oxide film formed by an etching technique with the resist patterns of the thick-film resist as a mask are laminated as a mask for ion implantation in a semiconductor manufacturing process step, by which the ion implantation mask patterns having fine patterns of a high aspect ratio not possible heretofore are obtained.例文帳に追加

半導体製造工程におけるイオン注入用マスクとして、フォトリソグラフィ技術により形成した厚膜レジストと、この厚膜レジストのレジストパターンをマスクとしてエッチング技術により形成した酸化シリコン膜に代表される膜を積層し、従来にない高アスペクト比の微細パターンを有するイオン注入マスクパターンを得るようにした。 - 特許庁

The method of manufacturing the IC cards and the IC tags containing at least one layer of moisture curing adhesive layers and at least layer of resin films includes a process step of laminating at least ≥1 layer of porous members containing at least one kind of moisture curing reaction accelerators within the adhesive layers.例文帳に追加

少なくとも１層の湿気硬化型接着剤層と、少なくとも１層の樹脂フィルムを含有するＩＣカード及びＩＣタグの製造方法において、該接着剤層内に少なくとも１種の湿気硬化反応促進剤を含んだ多孔質部材を、少なくとも１層以上積層させる工程を含むＩＣカード又はＩＣタグの製造方法。 - 特許庁

This process comprises a step of providing a set of parametric elementary curved surfaces, and each parametric elementary curved surface has edges including vertices joining adjacent edges, and each elementary curved surface has internal continuity Cj which is at least equal to required continuity Gi, and the geometrical continuity between at least two elementary curved surfaces across their common edge is less than the required continuity Gi.例文帳に追加

プロセスは、一連のパラメトリック基本曲面を提供するステップを備え、各パラメトリック基本曲面は、隣接エッジを結合する頂点を含むエッジを有し、所要の連続Ｇｉと少なくとも等しい内部連続Ｃｊを有し、共通エッジと交わる少なくとも２つのパラメトリック基本曲面間の幾何的連続は、所要の連続Ｇｉより少ない。 - 特許庁

The manufacturing method of the cathode active material 153 having a lithium-metal compound oxide as a main component is provided with a surface treatment process (step S15) in which an untreated cathode active material 154 which is formed by calcining a material of the cathode active material 153 is made to contact with a treatment aqueous solution which is adjusted to pH 10-13.例文帳に追加

本発明の正極活物質の製造方法は、リチウム−金属複合酸化物を主成分とする正極活物質１５３の製造方法であって、正極活物質１５３の原料を焼成してなる未処理正極活物質１５４を、ｐＨ１０〜１３に調整した処理水溶液に接触させる表面処理工程（ステップＳ１５）を備えている。 - 特許庁

The single-step process relates to a method for producing chondroitin polysulfate with an intrinsic viscosity of 0.09-0.18 and an organosulfur content of 25.6-37.3 wt.%, being characterized by comprising adding chlorosulfonic acid to a formamide solution of chondroitin at such a rate that the temperature of the formamide solution is kept at levels lower than 40°C but higher than 15°C.例文帳に追加

本発明の一段階プロセスは、コンドロイチンのホルムアミド溶液に、前記ホルムアミド溶液の温度が４０℃より低く且つ１５℃より高く保たれる速度でクロロスルホン酸を添加することを特徴とする、０．０９〜０．１８の固有粘度及び２５．８〜３７．３％の有機イオウ含有量を有するコンドロイチンポリサルフェートの製造方法に関する。 - 特許庁

A process that comprises a step that a ceramic substrate as a group of ceramic packages is airtight sealed in a reflow oven in an atmosphere of nitrogen, where lid 5 is set on the group of ceramic packages, the set lid 5 is loaded by permanent magnets 7, 8 mounted to the back of the ceramic substrate 1, and a solder 6 covering the back of the lid 5 is reflowed.例文帳に追加

複数個のセラミックパッケージ集合体であるセラミック基板１を窒素雰囲気中のリフロー炉で気密封止する作業において、前記複数個のセラミックパッケージにリッド５を載置し、セラミック基板１底部に設置した永久磁石７、８により載置したリッド５に荷重を加え、リッド５裏面を覆ったはんだ６をリフローすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a rolled item of a fine porous membrane made of a polyolefin that is excellent in workability when a manufactured article such as a cell separator or the like is fabricated and that has high strength, is produced at a low cost and is excellent in thickness stability so as to allow for a high winding speed during the winding process in the subsequent step of slitting and rewinding using the rolled item.例文帳に追加

電池セパレーター等の製品を製造する際の作業性に優れたポリオレフィン製微多孔膜捲回物を提供し、さらには、高強度、低コストで、該捲回物を用いて捲回を行う次工程での捲回時に高捲回速度が取れるように厚み安定性に優れたポリオレフィン製微多孔膜捲回物を提供すること。 - 特許庁

The preparation process of an acrylic copolymer comprises a step of copolymerization of (A) an acrylate monomer and (B) a norbornene monomer in the presence of (C) a Lewis acid and (D) a nickel compound using an azobis radical polymerization initiator with the polymerization initiating temperature and the peak temperature of the polymerization higher than the 10-hour half-life temperature of the radical polymerization initiator by 0-30°C.例文帳に追加

アクリル酸エステル単量体(A)と、ノルボルネン系単量体(B)とを、 ルイス酸(C)とニッケル化合物(D)の存在下において、アゾビス系ラジカル重合開始剤を用いて、重合開始温度及び重合発熱によるピーク温度が、該ラジカル重合開始剤の10時間半減期温度に対して0〜30℃高い温度で共重合させるアクリル系共重合体の製造方法。 - 特許庁

To allow even a relatively thick constraint layer to be sufficiently densified when a sufficient constraint force is affected in a baking step, by increasing a thickness of the constraint layer contacted with a ceramic layer for a base in response to the thickness of the ceramic layer in a raw laminate prepared to obtain a multilayer ceramic board by a so-called non-shrinking process.例文帳に追加

多層セラミック基板をいわゆる無収縮プロセスによって得るために用意される生の積層体において、基体用セラミック層の厚みに応じて、これに接する拘束層の厚みを増し、焼成工程において十分な拘束力を及ぼせるようにしたとき、厚みの比較的厚い拘束層であっても、十分に緻密化できるようにする。 - 特許庁

In the pre-treatment for a lowermost-layer electroless Ni plating step, Pd catalyst is deposited on a tungsten sintered wiring body, and the PD catalyst sintered in a micro crack of a ceramic insulating body is removed, so that electroless Ni plating process with superior selectivity and no surplus deposition can be provided, even when the Ni plating is carried out again after heat treatment.例文帳に追加

最下層の無電解Ｎｉめっきの前処理でＰｄ触媒をＷ焼結配線体に析出した後、セラミック絶縁体のマイクロクラックに浸透したＰｄ触媒を除去することにより、熱処理後再度、Ｎｉめっきを施した場合に於いても、余分析出の発生しない選択性の優れた無電解Ｎｉめっきプロセスが提供される。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufacturing by exposing and developing a photoresist 11 on a substrate 11 to form rugged patterns 12 and 13, regulating the photoresist 11 to a glass transition point or above by performing post baking and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the rugged patterns 13 of the photoresist 11 with the laser beam in the post baking process step.例文帳に追加

基板１０上のフォトレジスト１１を露光現像して凹凸パターン１２，１３を形成し、ポストベークを行ってフォトレジスト１１をガラス転移点以上とし、ポストベーク工程において、フォトレジスト１１の凹凸パターン１３にレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁

In steps S11 and S12, a prescribed instruction in the cycle immediately prior to a non-operation cycle wherein a specific arithmetic unit performs no process is detected in the program and in a step S14, the prescribed instruction in the cycle immediately prior to the non-operation cycle is converted into an instruction with an interlock, to which the indication of the interlock is added.例文帳に追加

ステップＳ１１および１２において、プログラムから、所定の演算ユニットが処理を行わないノンオペレーションサイクルの直前のサイクルにある所定のインストラクションが検出され、ステップＳ１４において、ノンオペレーションサイクルの直前のサイクルにある所定のインストラクションが、インターロックを指示することを追加したインターロック付きインストラクションに変換される。 - 特許庁

The process for producing a nozzle plate having a nozzle hole for ejecting a liquid drop comprises a step for forming a nozzle hole 22 by etching a silicon substrate 10 from the other side in such a state that the silicon substrate 10 having one side bonded with a substrate 50 for supporting the silicon substrate 10 is supported by the supporting substrate 50.例文帳に追加

液滴を吐出するためのノズル孔を有するノズルプレートの製造方法であって、シリコン基板１０の一方の面に、シリコン基板１０を支持するための支持基板５０を接合して、シリコン基板１０を支持基板５０により支持した状態で、シリコン基板１０の他方の面からエッチングを施して、ノズル孔２２を形成するノズル孔形成工程を有する。 - 特許庁

To provide a method and device for inspecting polycrystalline semiconductor film by which only such a substrate that carries a polycrystalline semiconductor film having a normal film quality can be sent to the subsequent step in a TFT(thin film transistor) manufacturing process, etc., by nondestructively inspecting the surface of the semiconductor film for state in a short time.例文帳に追加

短時間のうちに非破壊で半導体膜の表面状態を検査することにより、ＴＦＴの製造工程などにおいて、正常な膜質の多結晶性半導体膜を形成した基板のみを後工程に回すことのできる多結晶半導体膜の検査方法、 および多結晶性半導体膜の検査装置を提供すること。 - 特許庁

To reduce irritation on a user sensing the irritation caused by a preservative in use without taking any special step in prevention of microorganism contamination during a production process or affecting preservability of the skin external preparation by applying the skin external preparation to a skin after immediately adsorbing and reducing the preservative included in the skin external preparation on use.例文帳に追加

皮膚外用剤に含まれる防腐剤を、使用時に速やかに吸着、減少させた後に皮膚に適用することにより、製造工程上の微生物汚染に特別の防止措置を講じることなく、また皮膚外用剤の保存性に影響を与えず、かつ使用時に防腐剤に起因する刺激感を感じる使用者の刺激感を軽減する。 - 特許庁

The method for producing the paper or the paperboard including a step for coating a sizing liquid 2 at least on one surface of the wet paper 1 under papermaking process of the paper or the paperboard includes: coating the sizing liquid 2 in 10-25 wt.% concentration on the wet paper 1 having the water content in a range of 10-25 wt.%, and subjecting the resultant wet paper 1 to post drying treatment.例文帳に追加

紙又は板紙の抄紙工程中で湿紙１の少なくとも一方の表面にサイズ液２を塗布する工程を含む紙又は板紙の製造方法において、湿紙１の水分量が１０〜２５重量％の領域で湿紙１に濃度が１０〜２５重量％のサイズ液２を塗布し、その後湿紙１を後乾燥処理する。 - 特許庁

The cited inventions are found to be identical or similar to the arts described in the working example in the specifications or drawings of the claimed invention and any grounds to deny the inventive step of the claimed inventions are found, such as cited inventions providing the same manufacturing process as and a similar starting material to those described in the working examples, or cited inventions providing a similar manufacturing process and identical starting material to those described in the working examples. 例文帳に追加

本願の明細書若しくは図面に実施の形態として記載されたものと同一又は類似の引用発明であって進歩性否定の根拠となるものが発見された場合(例えば、実施の形態として記載された製造工程と同一の製造工程及び類似の出発物質を有する引用発明を発見したとき、又は実施の形態として記載された製造工程と類似の製造工程及び同一の出発物質を有する引用発明を発見したときなど) - 特許庁

In this case, the process to provide the porous membrane includes a step of combining a predetermined substituent which is different from radicals included in the polymer material with carbon atoms of a main chain of the polymer material via two or more continuous carbon atoms in the predetermined substituent, after the forming process of the porous membrane, and a step to modify at least a part of the porous membrane.例文帳に追加

本発明の非水電解質二次電池用電極の製造方法は、非水電解質二次電池用の正極もしくは負極である電極板を形成する電極板形成工程と、高分子材料から構成される多孔質膜を形成する多孔質膜形成工程を含み該多孔質膜を表面上にもつ該電極板を得る多孔質膜付与工程と、を有する非水電解質二次電池用電極の製造方法において、前記多孔質膜付与工程は、前記多孔質膜形成工程以後に、該高分子材料に含まれる基と異なる所定置換基を該所定置換基内の２以上の連続する炭素原子を介して該高分子材料の主鎖の炭素原子と結合させて、該多孔質膜の少なくとも一部を修飾する修飾工程をもつことを特徴とする。 - 特許庁

A product invention should be (except for certain particular cases where it is impossible to specify the product without using a manufacturing process thereof) described in such a way that the technical constitutions are directly stated in the claim, even if the manufacturing process of the product is disclosed in the product claim. Thus, an examiner should compare the claimed product itself specified by the description of the claim with a prior art published prior to the time of filing when assessing novelty and inventive step, unless there is a special reason in the description of the claim. 例文帳に追加

物の発明は（その製造方法により物を特定せざるを得ない特別の場合を除き）、請求項に製造方法が記述されていたとしても、発明の対象である物の構成を直接特定する方式で記載しなければならない。従って審査官は当該発明の新規性・進歩性等を判断するにあたっては、請求項の説明に特別な理由が記載されていない限り請求項の記載により特定される発明品自体をその出願前に公知となった先行技術と比較することとする。 - 特許庁

The toner manufacturing method comprises a processing step of forming toner particles in liquid medium, filtering out the toner particles and obtaining a wet cake, then, bringing the wet cake in contact with at least either of supercritical fluid and subcritical fluid, the toner is manufactured by the aforesaid method, the developer contains the toner, the container is prepared for storing the toner, the toner is used for the image forming method and the process cartridge.例文帳に追加

液体媒体中でトナー粒子を形成し、該トナー粒子を濾取してウエットケーキを得、該ウエットケーキを超臨界流体および亜臨界流体の少なくともいずれかと接触させる処理工程を有することを特徴とするトナーの製造方法、該方法により製造されたトナー、該トナーを備えた現像剤、トナー入り容器、画像形成方法およびプロセスカートリッジ。 - 特許庁

In a process to form an internal polarizing layer of a transflective liquid crystal panel carrying out display of a transmissive mode and of a reflective mode, and in the case application is conducted while imparting stress to construction materials, a step to align extending directions of opening parts as transmission holes arranged on a reflection layer to reflect incident light and stress imparting directions in the application in the same direction is included.例文帳に追加

透過モードと反射モードとの表示を行う半透過反射型の液晶パネルの内部偏光層の形成工程にて、その構成材料に応力を付与しつつ塗布する際に、入射光を反射するための反射層に設けられた透孔としての開口部の延在方向と、前記塗布の応力付与方向とを同一方向とする工程を含むものである。 - 特許庁