「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a support for a recording material by which the process from a step of covering a paper substrate with a water resistant resin to a step of coating with an undercoat layer can be continuously carried out by reducing the coating weight of a coating liquid for an undercoat layer to reduce the load on a drying step after coating.例文帳に追加

下塗り層用塗布液の塗布量を抑制して塗布後の乾燥工程の負荷を低下させることにより、紙基体への耐水性樹脂被覆工程から下塗り層塗布工程までを連続して行うことのできる記録材料用支持体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Meanwhile, a 3D-LUT with a higher upper limit value in the image data after the color conversion process is selected (step S8), when the area in which the number of pixels with the total of pixel values that are the threshold value T1 and more is the threshold H1 or more is not present (NO in step S5, YES in step S7).例文帳に追加

一方、画素値の合計が閾値Ｔ１以上の画素の数が閾値Ｈ１以上である領域が存在しない場合には（ステップＳ５；ＮＯ、ステップＳ７；ＹＥＳ）、色変換処理後の画像データの上限値がより高い３Ｄ−ＬＵＴを選択する（ステップＳ８）。 - 特許庁

A turn-over control process is carried out (step S4) only when the sleep depth is determined to 0, i.e. the cared person is determined to be in fast wave sleep, in a step S2 and it is determined in a step S3 that more than one hour elapses from the start of sleep or the last turn-over motion.例文帳に追加

そして、ステップS2において睡眠深度が0、すなわち被介護者がレム睡眠状態にあると判定され、かつ、ステップS3において睡眠開始又は前の寝返り動作から1時間以上経過していると判定された場合のみ寝返り動作制御処理を実行する（ステップS4）。 - 特許庁

In a shift down process involved in the gear shifting of the auxiliary transmission unit, the auxiliary transmission unit connects a clutch (at the step S44) if the next stage of the gear shifting is not completed within the predetermined time and disconnects the clutch (at the step S48) when the gear shift to the next stage is completed (at the step S46).例文帳に追加

副変速機部の変速を伴うシフトダウン時において、副変速機部の次段への変速が所定時間経過しても完了しなかったときにクラッチを接続し（ステップＳ４４）、次段への変速が完了すると（ステップＳ４６）クラッチの接続を解除する（ステップＳ４８）。 - 特許庁

This process for preparing the crystallized glass is a method of preparing the crystallized glass obtained by making a glass containing TiO_2 subjected to a phase splitting step and a crystallization step, where the phase splitting step has heat treatment of the glass at a temperature in the range from the glass transition temperature Tg to the glass transition temperature Tg+60°C.例文帳に追加

TiO_2を含有するガラスを分相工程及び結晶化工程を経て結晶化ガラスとする方法であって、前記分相工程が前記ガラスを該ガラスの転移温度Tgから該ガラスの転移温度Tg＋60℃までの範囲の温度で加熱することで行われる結晶化ガラスの製造方法。 - 特許庁

The method for producing the alcohol compound includes the following process: a first step of conducting a reaction among an imidazolium salt (A), a ruthenium compound (B) and a base (C) to obtain a ruthenium complex; and a second step of reducing a carboxylic ester compound with hydrogen in the presence of the ruthenium complex obtained in the first step.例文帳に追加

イミダゾリウム塩（Ａ）、ルテニウム化合物（Ｂ）及び塩基（Ｃ）を反応させてルテニウム錯体を得る第１工程、及び第１工程で得られたルテニウム錯体の存在下、カルボン酸エステル化合物を水素で還元する第２工程を含むことを特徴とするアルコール化合物の製造方法。 - 特許庁

When, however, it is in a period wherein authentication is needed an authentication validity period after last authentication, a connection with the server at an inquiry destination is made (step S7) after the authenticating process in the steps S3 to S6, and then data are received (step S8) and stored (step S10).例文帳に追加

しかし、前回の認証から認証有効期間を経過していて認証を必要とする時期である場合には、ステップＳ３〜Ｓ６で認証処理を行った後、照会先のサーバーへの接続処理を実行して（ステップＳ７）、データを受信し（ステップＳ８）、取り込んだデータを記憶する（ステップＳ１０）。 - 特許庁

The method for wiring the semiconductor integrated circuit comprises a step of extracting timing marginal information of each net from a timing verifying result obtained in a substantially wiring step and storing in a memory means, and a step of optimizing a wiring width of each net based on the timing marginal information to conduct a detailed wiring process.例文帳に追加

概略配線工程で得られたタイミング検証結果から各ネット毎のタイミング余裕情報を抽出して記憶手段に記憶するステップと、前記タイミング余裕情報を基に、各ネットの配線幅を最適化して詳細配線処理を行うステップと、含む。 - 特許庁

Meanwhile, the method includes a step of judging that an execution of a slow changing process is not requested (S130) when the accelerator pedal 83 is largely pressed from the braking state, and a step of setting a predetermined allowed amount Tlimset to a change allowed amount Tlim, and hence a step of reflecting a driver's intention rapidly.例文帳に追加

一方、制動状態からアクセルペダル８３が大きく踏み込まれたときには、緩変化処理の実行の要請はないと判断し（Ｓ１３０）、所定許容量Ｔｌｉｍｓｅｔを変化許容量Ｔｌｉｍに設定するから、迅速に運転者の意思を反映することができる。 - 特許庁

The process for manufacturing a semiconductor device comprises a step for mounting a semiconductor chip 11 on a lead frame 18, a step for resin sealing 2 the semiconductor chip 11, a step performing alkaline electrolytic degreasing of the lead frame 18 by immersing it into a sodium hydroxide solution, and a step for immersing the lead frame 18 into a mixture solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide water.例文帳に追加

半導体チップ１１をリードフレーム１８に搭載する工程と、半導体チップ１１を封止樹脂２により封止する工程と、リードフレーム１８を水酸化ナトリウム溶液に浸漬してアルカリ電解脱脂する工程と、硫酸および過酸化水素水が混合した溶液に、リードフレーム１８を浸漬する工程とを含むものである。 - 特許庁

A process for coating an article includes: a step 10 of applying a bond coat layer onto at least one surface of an article; a step 12 of applying a thermal barrier coating composition on the bond coat layer; a step 14 of heat-treating the thermal barrier coating composition; and a step 16 of forming a thermal barrier coating layer.例文帳に追加

本発明による物品のコーティング方法が、概ね、物品の少なくとも一つの外表面上にボンディングコート層を適用し（ステップ１０）、このボンディングコート層の上にサーマルバリアコーティング組成物の層を適用し（ステップ１２）、このサーマルバリアコーティング組成物の層を熱処理し（ステップ１４）、サーマルバリアコーティングを形成させる（ステップ１６）ステップを備えてなる。 - 特許庁

The preparation process contains a step wherein a resin composition containing an epoxy resin, a phenol resin, a curing accelerator and an inorganic filler is melt kneaded under a heated condition, a step wherein the composition is compression molded into a tablet and a step wherein the tablet is matured at a constant temperature and a constant humidity, and optionally contains a step wherein the kneaded product is cooled and ground into a powder.例文帳に追加

エポキシ樹脂とフェノール樹脂、硬化促進剤、無機質充填剤を含有する樹脂組成物を加熱下で溶融混練する工程と、タブレット状に圧縮成形する工程と、恒温恒湿下で熟成する工程とを含む製造方法であり、混練物を冷却後、粉末状の粉砕する工程を含んでいてもよい。 - 特許庁

In the method for producing the optical film: a step to laminate a protective layer on one face of a continuously transferred cycloolefin polymer film; a step to coat another face opposite to the protective layer with the liquid crystalline composition; a step to align the liquid crystalline composition with a heating process; and a step to fix the aligned composition are conducted in this order.例文帳に追加

連続的に搬送されるシクロオレフィンポリマーフィルムの片面に保護層を積層せしめる工程、保護層とは反対側の面に液晶性組成物をコーティングする工程、加熱処理により前記液晶性組成物を配向せしめる工程、前記配向を固定化する工程をこの順序で行うことを特徴とする光学フィルムの製造方法。 - 特許庁

Biological state detecting means detect biological information such as the pulse of a human body or the like (step 51), biological signal transmitting means transmit the detected analog signal (step 51), biological signal receiving means receive the analog signal (step 51), and sensor signal processing means process the received analog signal and convert it to a digital signal (step 54).例文帳に追加

生理状態検知手段が人体の脈拍等の生理情報を検知し（ステップ５１）、検知されたアナログ信号を生理信号発信手段が発信し（ステップ５２）、そのアナログ信号を生理信号受信手段が受信し（ステップ５３）、この受信したアナログ信号をセンサ信号処理手段が信号処理してデジタル信号に変換する（ステップ５４）。 - 特許庁

A detection stage comprises a step where the multilayer wiring board is irradiated with the X-ray to image the reference mark, a step where the picked-up image is scanned with the template for a pattern matching process, a step where the center position of the image of the reference mark is detected based on the center position data registered in the template, and a step to output the data.例文帳に追加

また、多層配線板にＸ線を照射して基準マークを撮像するステップ、撮像された画像にテンプレートをスキャンしてパターンマッチング処理をするステップ、テンプレートに登録されている中心位置データに基づいて基準マークの画像の中心位置を検出するステップ、このデータを出力するステップからなる検出段階での各ステップを具備する。 - 特許庁

When the user selects a new folder, it is judged that the user requests to create the new folder and to switch a data storing folder to the new folder, the new folder is created in a smart medium (step 104), the setting of the data storing folder is switched to the created new folder (step 106), and then a process shifts to photographing processing step (step 110).例文帳に追加

ユーザにより新規フォルダが選択された場合には、新規フォルダの作成及びデータ格納フォルダを新規フォルダに切換えるように要求されたと判断して、スマートメディアに新しいフォルダを作成し（ステップ１０４）、データ格納フォルダの設定を作成した新規フォルダに切替えた後（ステップ１０６）、撮影処理に移行する（ステップ１１０）。 - 特許庁

The process for manufacturing the wire wound electronic component 10 comprises a step for winding a coil conductor 2 around a core 1 composed of a ferrite material, a step for applying a resin composition containing magnetic powder and a solvent around the coil conductor 2, a step for drying the resin composition by electromagnetic induction heating, and a step for curing the resin composition.例文帳に追加

フェライト材料から構成されるコア１にコイル導体２を巻き回す工程と、磁性粉末及び溶剤を含む樹脂組成物をコイル導体２の周囲に塗布する工程と、樹脂組成物を電磁誘導加熱により乾燥する工程と、樹脂組成物を硬化する工程と、を備えたことを特徴とする巻線型電子部品１０の製造方法。 - 特許庁

The method includes a step of surface-treating the surface of an ion conductive polymer film so as to obtain surface uniformity by using the plasma processing process, a step of adsorbing metal electrodes to both sides of the ion conductive polymer film, a step of reducing polymer metal composites to both sides of the ion conductive polymer film, and a step of forming a coating layer.例文帳に追加

プラズマ処理工程を利用してイオン伝導性高分子膜の表面が均一になるように表面処理する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に金属電極を吸着する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に高分子金属複合体を還元する段階と、コーティング層を形成する段階とを含む。 - 特許庁

The method of removing the substrate structure includes a step of forming a plurality of peeler-shape bodies on the substrate by a photolithography etching process; a step of growing a group-III nitride semiconductor layer on a plurality of peeler-bodies; a step of chemical-etching a plurality of peeler-bodies; and a step of separating the group-III nitride semiconductor layer from the substrate.例文帳に追加

本発明の基板構造体を除去する方法は、基板上にフォトリソグラフィーエッチング方式で複数の柱状体を製作し、前記複数の柱状体上にＩＩＩ族窒化物半導体層を成長させ、化学エッチング方式で複数の柱状体をエッチングし、前記ＩＩＩ族窒化物半導体層と前記基板を分離する。 - 特許庁

A fabrication process of a Schottky barrier diode comprises a step for forming an n-type SiC layer 10, a step for forming a trench 30 on the surface of the n-type SiC layer 10, and a step for heat treating the n-type SiC layer 10 while supplying silicon and nitrogen to the surface of the n-type SiC layer 10 after the step for forming a trench 30.例文帳に追加

ショットキーバリアダイオードの製造方法は、ｎ型ＳｉＣ層１０を形成する工程と、ｎ型ＳｉＣ層１０の表面にトレンチ３０を形成する工程と、トレンチ３０を形成する工程の後で、ｎ型ＳｉＣ層１０の表面にケイ素と窒素とを供給した状態でｎ型ＳｉＣ層１０を熱処理する工程とを備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises a step for forming a first thin film composed of GeCOH or GeCH on a substrate to be processed, a step for removing a part of the first thin film, a processing step for performing a certain process on the substrate through the region formed by removing the first thin film, and a step for removing the first thin film.例文帳に追加

被処理基体上にＧｅＣＯＨまたはＧｅＣＨからなる第１の薄膜を形成すると、この第１の薄膜の一部を除去する工程と、第１の薄膜の除去された部位を介して被処理基体に所定の処理を施す処理工程と、第1の薄膜を除去する工程とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

An electric load is applied to a circuit pattern by a step of irradiating an electron beam for a predetermined time period to a wafer including the circuit pattern in a semiconductor manufacturing process to charge the circuit pattern to a predetermined charge voltage (Step 99), and a step of controlling a region surrounding the circuit pattern to a predetermined temperature by laser irradiation or the like (Step 106).例文帳に追加

半導体製造工程途中の回路パターンを含むウエハに対して、電子線を所定の時間照射して、回路パターンを所定の帯電電圧に帯電させる工程（ステップ９９）と、レーザー照射等により回路パターン周りの領域を所定の温度に制御する工程（ステップ１０６）とにより、回路パターンに電気的負荷を印加する。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film comprises a step of manufacturing a precursor film containing a metal element by the CVD method, a step of dipping the precursor film in an alkaline water solution in a container, a step of sealing the container, and a hydrothermal process step of crystallizing the precursor film in the sealed container by a hydrothermal process to form a metal oxide thin film on a substrate.例文帳に追加

本発明の薄膜作製方法は、基板上に、ＣＶＤ法により金属元素を含有する前駆体膜を作製する前駆体膜作製ステップと、前駆体膜を、容器内において、アルカリ性水溶液に浸漬する浸漬ステップと、容器を密閉する密閉ステップと、密閉された容器内において、水熱処理により前駆体膜を結晶化して、基板上に金属酸化物の薄膜を作製する水熱処理ステップとを含む。 - 特許庁

The barrier layer can be formed by a process including a step of preparing yttria covered base material particles as an aqueous suspension, a step of separating particles from at least 50 weight percent dissolved salts in the suspension, a step of mixing the particles in a coating suspension, a step of coating the coating suspension on an envelope inner side, and a step of forming the barrier layer from the coated coating suspension.例文帳に追加

バリヤ層は、水性懸濁液としてイットリウム被覆基材粒子を調製するステップと、懸濁液内の少なくとも５０重量パーセントの溶存塩から粒子を分離するステップと、その後、粒子を被覆懸濁液中に混合するステップと、その後、被覆懸濁液をエンベロープ内側に被覆するステップと、その後、被覆した被覆懸濁液から該バリヤ層を形成するステップとを含むプロセスによって形成することができる。 - 特許庁

The substrate processing method includes: a step of loading a substrate into a processing chamber; a step of supplying silicon compound gas including carbon and hydrogen into the processing chamber; a step of irradiating ultraviolet light on the silicon compound gas supplied into the processing chamber to process the substrate; a step of unloading the processed substrate from the processing chamber; and a step of processing the inside of the processing chamber with excited oxygen-containing gas.例文帳に追加

基板を処理室内へ搬入する工程と、炭素及び水素を含むシリコン化合物ガスを処理室内へ供給する工程と、処理室内へ供給されたシリコン化合物ガスに紫外光を照射して基板を処理する工程と、処理された基板を処理室から搬出する工程と、処理室内を励起された酸素含有ガスで処理する工程とを備える基板処理方法により、基板を処理する。 - 特許庁

The process for fabricating a photovoltaic element comprises a step for forming a transparent conductive layer on a substrate, a step for forming an anti-adsorption layer of substantially intrinsic semiconductor layer, a step for changing the anti-adsorption layer into a semiconductor layer having a conductivity, a step for forming a substantially intrinsic semiconductor layer, and a step for forming a semiconductor layer having an opposite conductivity type.例文帳に追加

基板上に、透明導電層を形成する工程と、実質的に真性な半導体層からなる吸着防止層を形成する工程と、前記吸着防止層を導電型を有する半導体層に変化させる工程と、実質的に真性な半導体層を形成する工程と、該導電型とは反対の導電型を有する半導体層を形成する工程とをこの順で有することを特徴とする。 - 特許庁

The process comprises a step for forming a nickel compound coated with gelatin by adsorbing gelatin on preformed nickel compound particles with different size and shape (Step (A)), and another step for converting the nickel compound coated with gelatin into fine particles containing metallic nickel and nickel oxide by heating the nickel compound coated with gelatin produced in Step (A) in an inert gas atmosphere (Step (B)).例文帳に追加

事前に形成された異なる大きさと形状を有するニッケル化合物粒子にゼラチンを吸着させてゼラチン被覆ニッケル化合物を形成させる工程（Ａ）と、工程（Ａ）で製造されたゼラチン被覆ニッケル化合物を不活性ガス雰囲気下に加熱処理することにより、該ゼラチン被覆ニッケル化合物を金属ニッケルと酸化ニッケルを含む微粒子に変換させる工程（Ｂ）とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The manufacture process for calcium phosphate moldings includes the gel composite generation step S1 to form a gel ceramic composite by blending calcium phosphate particles, a solvent and a gelatinizer; the molding step S2 to mold a gel ceramic composite generated at the gel composite generation step S1; and the sintering step S3 to sinter the ceramic composite molded at the molding step S2.例文帳に追加

リン酸カルシウム粒子と、溶媒と、ゲル化剤とを混合してゲル状のセラミックス複合体を生成するゲル複合体生成ステップＳ１と、該ゲル複合体生成ステップＳ１において生成されたゲル状のセラミックス複合体を成形する成形ステップＳ２と、該成形ステップにおいて成形されたセラミックス複合体を焼成する焼成ステップＳ３とを含むリン酸カルシウム成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The preparation process of the rigid polyurethane foam comprises a step for mixing a nucleating agent with a polyol and a foam stabilizer to emulsification, a step for preparing a polyol mixture by mixing water, a catalyst and a foaming agent in at least one step before, during or after the emulsification step, and a step for reacting the polyol mixture and a polyisocyanate.例文帳に追加

硬質ポリウレタンフォームの製造方法において、核剤をポリオール及び整泡剤と混合して乳化させる段階と；水、触媒、発泡剤を前記乳化段階前、乳化段階中、乳化段階後の中で少なくともいずれか一段階で混合してポリオール混合物を作る段階と；前記ポリオール混合物とポリイソシアネートを反応させる段階とを含むことを特徴とする硬質ポリウレタンフォームの製造方法。 - 特許庁

In the application process of a finger line, supply of paste from a second nozzle 57 is once stopped and, thereafter, is started again (step S54, step S56) on the basis of image data of the bus line pattern 71 obtained by an imaging process (step S52) for imaging the bus line pattern 71 formed on the substrate relatively moved with a CCD camera 11 fixed and arranged with respect to the nozzle.例文帳に追加

フィンガー配線の塗布工程において、ノズルに対して固定配置されたＣＣＤカメラ１１により、相対移動する基板に形成されたバス配線パターン７１を撮像する撮像工程（ステップＳ５２）により得られたバス配線パターン７１の画像データに基づき、第２ノズル５７からのペーストの供給を一旦、停止した後、ペーストの供給を再び開始する（ステップＳ５４，ステップＳ５６）。 - 特許庁

The colored matter manufacturing process repeatedly conducts, per scanning or color, the step of conducting a wettability improving process selected from the group consisting of plasma processing, corona processing, and frame processing on an ink giving surface, the step of giving ultraviolet curing type ink by an inkjet system to the processing surface, and the step of ultraviolet irradiating to the given ultraviolet curing type ink.例文帳に追加

インク付与面にプラズマ処理、コロナ処理、フレーム処理よりなる群から選択される濡れ性向上化処理を行う工程、該処理面にインクジェット方式により紫外線硬化型インクを付与する工程、および、付与された紫外線硬化型インクに紫外線を照射する工程を、主走査毎もしくは色毎に繰り返して行う着色物の製造方法である。 - 特許庁

The method of optimizing a printing process of an ink-jet printer includes: a step of measuring the image contents of a first print image; a step of comparing the measured image contents with a predetermined threshold value; and a step of adjusting the operation of printer constituent elements by changing printing process parameters, if the measured image contents exceeds the threshold value.例文帳に追加

インクジェットプリンタの印刷プロセスを最適化する方法であって、第１印刷画像の画像内容を測定する工程と、前記測定された画像内容を所定のしきい値と比較する工程と、前記測定された画像内容が前記しきい値を越える場合は、印刷プロセスパラメータを変更してプリンタ構成要素の動作を調節する工程を備えることを特徴とする方法。 - 特許庁

The method may also include altering at least one parameter of a process module (36) configured to perform a step of the lithography process to reduce within wafer variation of the critical metric (46).例文帳に追加

本方法はまた、リソグラフィ・プロセスのステップを実行するように構成されたプロセス・モジュール（３６）の少なくとも１つのパラメータを変更し、クリティカルな測定基準（４６）のウェハ内変動を低減することを含むことができる。 - 特許庁

Next, in a step S7, a treatment condition is operated from a relative formula between the amount ΔL of deviation and the treatment condition in a pattern size changing process S9 for changing the size of the initial pattern, which is effected in a successive process.例文帳に追加

次に、ステップＳ７にて、ズレ量ΔＬと、後工程で行われる初期パターンの寸法を変化させるためのパターン寸法変更工程Ｓ９における処理条件との関係式から、処理条件を算出する。 - 特許庁

for example, if the step 880 opens only an u-phase interrupt mask, then 'u-phase edge interrupt process' (reference point synchronizing process for the electrical angle θ) is executed, when an edge interrupt of u-phase occurs.例文帳に追加

例えば、本ステップ８８０の動作により、ｕ相の割り込みマスクだけが開かれると、その後、ｕ相のエッジ割り込みが発生した際に、「ｕ相エッジ割り込み処理」（電気角θの基準点同期処理）が実行される。 - 特許庁

The manufacturing method is provided also with the third process (step S130) for curing the photocuring resin in the antifreezing protein containing paste applied in the second process, by irradiating light, to prepare an electrolyte for the fuel cell.例文帳に追加

また、光照射によって、第２の工程で塗布した前記不凍タンパク質含有ペースト中の光硬化性樹脂を硬化させて、燃料電池の電解質層を作製する第３の工程（ステップＳ１３０）を備える。 - 特許庁

A 1st step of this wire-stripping method is where 1st cut lines CL1 for a middle part stripping process and 2nd cut lines CL2 for an end stripping process are formed simultaneously in insulating coverings 111 and 112 of wires 110 and 120.例文帳に追加

本皮剥ぎ方法では、まず、電線１１０，１２０の絶縁被覆１１１，１２１に対して、中間皮剥ぎ用の第１の切り込み線ＣＬ１と、端部皮剥ぎ用の第２の切り込み線ＣＬ２とを同時に入れる。 - 特許庁

On a third step, a die bonding process for mounting a chip 40 on the film 10 stuck to the substrate 1 is performed continuously after the completion of a sticking process for leaving only the film 10 by removing the peeling film 11 from the substrate 1.例文帳に追加

第三に、基板１から剥離フィルム１１を除去して該フィルム１０のみを残存させる貼付工程が完了後に、基板１上の該フィルム１０にチップ４０を装着するダイボンド工程へ連続して行う。 - 特許庁

There is provided a method for inducing or accelerating the healing process of skin wound comprising a step to administer a therapeutically active amount of insulin to the skin wound for inducing or accelerating the healing process of the skin wound.例文帳に追加

皮膚創傷の治癒プロセスを誘導または加速するための方法であって、皮膚創傷の治癒プロセスを誘導または加速するために、皮膚創傷に治療上有効な量のインシュリンを投与する工程を含む方法。 - 特許庁

To provide a photomask or the like capable of performing process evaluation without the need for a work of accurate dimensional measurement in a halfway step, in a manufacturing process of a tuning fork type piezoelectric vibrating piece.例文帳に追加

音叉型の圧電振動片の製造プロセスにおいて、途中の工程で、正確な寸法測定を行うという作業を必要としないで、工程評価を行うことができるようにするフォトマスク等を提供すること。 - 特許庁

To obtain a method and apparatus for shaping the surface of a contact lens by a laser ablation method in which partial correction to at least permissible extent is performed on a process surface even when a surface process step is suddenly interrupted.例文帳に追加

表面処理工程が突然中断した場合でも、処理表面に少なくとも許容し得る程度の部分的矯正が行われる、レーザ切除法によるコンタクトレンズの表面成形方法及び成形装置を得る。 - 特許庁

When the letter number counting process part determines that the maximum number of letters is exceeded, an alarm output process part reads from the storage part the image data for reporting of an alarm, and displays it in a display part (step S9).例文帳に追加

警告出力処理部は、文字数カウント処理部が最大文字数を超えていると判別した場合に、警告を通報するための画像データを記憶部から読み出すなどして、表示部に表示させる（ステップＳ９）。 - 特許庁

In a negative scanning process of detecting print conditions from respective frames of a negative roll 62 having been developed, the numbers of prints are detected by the frames (step S16) according to detection results of the print conditions of the process.例文帳に追加

現像済みのネガロール６２の各駒からプリント条件を検出するネガスキャン工程時に、その工程でのプリント条件の検出結果に基づいて１件毎のプリント枚数を事前に検出する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

Determination is made whether the retreat command for the rear platen is on or not; and the process returns to a step SA9 to continue the retreating of the rear platen if it is on, while the rear platen retreat process is finalized (SA10) if it is not on.例文帳に追加

リアプラテンの後退指令はオンか否か判断し、オンである場合にはステップＳＡ９へ戻りリアプラテンの後退動作を継続し、オンでない場合にはリアプラテン後退の処理を終了する（ＳＡ１０）。 - 特許庁

In the voltage applying step, a surface of the metallic film is oxidized by an anodizing process, and the oxide is removed or the surface of the metallic film is removed by an electrolytic etching process.例文帳に追加

電圧を印加するステップでは、金属膜の表面を陽極酸化法によって酸化し、その酸化物を除去すること、あるいは金属膜の表面を電解エッチング法によって除去することが行われる。 - 特許庁