「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

Color-corrected output image data are stored from the RAM 15 to the RAM 6 (step 54) and of all the pixels of the image of an inputted frame are corrected, color correcting process is performed upon the next frame and if no correction is performed, processing is returned to the step 52 (step 55).例文帳に追加

色補正された出力画像データを、ＲＡＭ１５からＲＡＭ６へ格納し（ステップ５４）、入力した駒の画像の全ての画素について補正が行われると、次の駒の色補正処理を行い、補正が行われていなければ、ステップ５２へ戻る（ステップ５５）。 - 特許庁

A CPU monitors the behavior of a player character during a game process, and increases the value of a tension parameter TP (step S102 and S104) if the player character acquires a rare item (YES at step S101) or if he knocks down a boss (YES at step S103).例文帳に追加

ＣＰＵはゲーム処理中においてプレイヤキャラクタの行動を監視し、プレイヤキャラクタがめずらしいアイテムを入手した場合や（ステップＳ１０１がＹＥＳ）、ボスを倒した場合（ステップＳ１０３がＹＥＳ）には、テンションパラメータＴＰの値を増加させる（ステップＳ１０２、Ｓ１０４）。 - 特許庁

The semiconductor device method for manufacturing includes: a step of preparing a semiconductor layer containing gallium nitride; a surface processing step of processing the surface of the semiconductor layer by hydrogen gas; and an oxidation step of oxidizing the surface after the surface processing process.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、窒化ガリウムを含む半導体層を準備する工程と、半導体層の表面を水素ガスにより処理する表面処理工程と、表面処理工程後の上記表面を酸化する酸化工程とを備える。 - 特許庁

A process to open contact holes 26, 27 on a passivation film 32 includes: a step to pattern form a photoresist on the interlayer insulating film; and a step to apply dry-etching to the passivation film 32 with the photoresist being used as a mask not through a step for post-baking the photoresist.例文帳に追加

パッシベーション膜３２にコンタクトホール２６，２７を開口する工程は、層間絶縁膜上にフォトレジストをパターン形成する工程と、フォトレジストをポストベークする工程を経ることなく、フォトレジストをマスクとしてパッシベーション膜３２にドライエッチングを施す工程と、を備える。 - 特許庁

A scanning speed and a focus measurement position are determined from process conditions and the like (step 1), a threshold Δ is determined based on the scanning speed (step 2), and focus measurement is executed (step 4) when the stage position is within the range of the threshold Δ at the focus measurement position.例文帳に追加

プロセス条件等から走査速度及びフォーカス計測位置を決定し（ステップ１）、この走査速度に基づいて閾値Δを決定し（ステップ２）、ステージ位置がこのフォーカス計測位置の閾値Δの範囲内にあるときに、フォーカス計測を実行する（ステップ４）。 - 特許庁

A manufacturing process for an energy storage active material for electric double layer capacitor comprises a step for pre-treating by heat-treating the carbon material, and a step for oxidizing the pre-treated carbon material with an oxidant, and may further comprise a step for reducing by heat-treating.例文帳に追加

電気二重層キャパシタ用エネルギ貯蔵活物質の製造工程としては炭素物を熱処理して前処理する段階、前処理された炭素物を酸化剤で酸化させる段階を含み、熱処理して還元させる段階をさらに含むこともできる。 - 特許庁

Production process of an electrode for electrochemical capacitor comprises a first step for forming a polarizable electrode layer on a current collector (steps S1-S3), a second step for embossing the surface of the polarizable electrode layer formed on the current collector (step S4), and a third step for flattening the surface of the embossed polarizable electrode layer (step S5).例文帳に追加

本発明による電気化学キャパシタ用電極の製造方法は、集電体上に分極性電極層を形成する第１の工程（ステップＳ１〜Ｓ３）と、集電体上に形成された分極性電極層の表面をエンボス加工する第２の工程（ステップＳ４）と、エンボス加工された分極性電極層の表面を平坦化する第３の工程（ステップＳ５）とを備えている。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor includes a step of providing a substrate, a step of forming a dielectric layer on the substrate, a step of growing an amorphous semiconductor layer on the dielectric layer, a step of doping impurity in the amorphous semiconductor layer, and a step of forming a crystallized layer from the amorphous semiconductor by performing a high-temperature process on the amorphous layer.例文帳に追加

本発明による半導体の製造方法は、基板を設ける工程と、誘電体層を基板の上に形成する工程と、アモルファス半導体層を誘電体層の上に成長させる工程と、アモルファス半導体層に不純物をドープする工程と、そして高温処理工程をアモルファス層に施して前記アモルファス半導体から結晶化層を形成する工程とを備える。 - 特許庁

During any other process than the fixing process, the induction heating part is energized and heated to execute a cleaning mode for removing paraffin wax to be fixed to the induction heating part for a predetermined period (step S5).例文帳に追加

そして、定着工程がおこなわれるとき以外に、誘導加熱部を通電・加熱して誘導加熱部に固着するパラフィンワックスを除去するクリーニングモードを所定時間おこなう（ステップＳ５）。 - 特許庁

The method for measuring the moisture content of the low moisture content tea leaves is featured by measuring the moisture content of the tea leaves discharged from a final tea roller in the tea rolling process and drying process at the final step of the tea production-processing processes.例文帳に追加

製茶加工工程の最終段階に位置する精揉工程及び乾燥工程において、精揉機から排出された茶葉の含水率を測定することを特徴としてなるものである。 - 特許庁

When the utilization of bath water is set in the rinsing process, the water-saving rinsing is executed in a first rinsing process after water is supplied by a pump under-saving water to a rinsing water level (Step 19).例文帳に追加

すすぎ工程時に風呂水利用が設定されている場合には、第１すすぎ工程で、ポンプ給水によりすすぎ水位迄の水が洗濯槽に溜まったあと、ためすすぎが実行される（ステップＳ１９）。 - 特許庁

To provide a statistical quality/process control management device for managing the statistical quality/process of the management step to be managed or all the management steps to the end from manufacture start.例文帳に追加

製造開始から管理対象の管理工程、あるいは、終了までの各管理工程全ての統計的品質プロセスの管理をすることができる統計的品質プロセス制御管理装置を提供する。 - 特許庁

The process (b) includes a process for writing a duplication use image which forms a part of the processed notable block image and is used in the second processing step prepared for other block images into an external RAM region.例文帳に追加

工程（ｂ）は、処理済み注目ブロック画像の一部を構成し、他のブロック画像のための第２処理で利用される重複利用画像を、外部ＲＡＭ領域に書き込む工程を含む。 - 特許庁

This prevention method includes a step of adding ammonia in such an amount as to adjust a pH of the waste water which has been oxidized in the wet process, to 10 or higher, when oxidizing the waste water containing the organic sulfur compound in the wet process.例文帳に追加

有機硫黄化合物含有排水を湿式酸化処理するにあたり、アンモニアを湿式酸化処理後の排水のｐＨが１０以上となる量を添加して行うことを特徴とする。 - 特許庁

In one or more embodiments, the selective epitaxy process includes a step of repeating, until an epitaxial layer grows to a desired thickness, a cycle composed of: the deposition, an etching process after the deposition, and a desired purge cycle.例文帳に追加

一つ以上の実施形態によれば、選択的エピタキシャルプロセスは、エピタキシャル層の所望の厚さが成長するまで、堆積と、その後のエッチングプロセスと、所望によるパージのサイクルを繰り返すステップを含む。 - 特許庁

To provide a coating solution for formation of a low-permittivity insulating coating suitable in a semiconductor formation process including a controlled etching step such as a dual damascene process in a semiconductor device having high integration.例文帳に追加

高集積度の半導体装置において、デュアルダマシン法のようなコントロールエッチング工程を含む半導体形成プロセスにおいて好適な低誘電率絶縁膜形成用塗布液を提供すること。 - 特許庁

The graphic data creation method for process marks includes a step in which at least one element graphic 620 is extracted from a tentative process mark 605 including predetermined element graphics 610 and 620.例文帳に追加

プロセスマークの図形データを作成する方法は、所与の要素図形６１０、６２０から構成された暫定的なプロセスマーク６０５において、少なくとも１つの要素図形６２０を抽出するステップを含む。 - 特許庁

To provide a process for producing a high quality gasoline having a low aromatic compound content, especially a two step isomerization process for catalytically isomerizing a 4 to 12C paraffinic hydrocarbon fraction into multi-branched hydrocarbons.例文帳に追加

低芳香族化合物含有量の高品質ガソリンの製造方法、特にＣ_4 〜Ｃ_12−パラフィン系炭化水素留分を多分岐炭化水素に接触的に異性化する二段階異性化法の提供。 - 特許庁

Oxygen storage capacity OSC showing deterioration condition of the catalyst, a catalyst temperature average value at the detection process, THCAV, and an intake air amount average value at the detection process, GAAV, are detected (step 132).例文帳に追加

触媒の劣化状態を表す酸素吸蔵容量OSCと、その検出過程における触媒温度の平均値THCAVと、その検出過程における吸入空気量の平均値GAAVとを検出する（ステップ１３２）。 - 特許庁

To obtain a polyvinyl alcohol fiber having high wet-heat resistance and high tenacity by applying a dialdehyde (derivative) to a polyvinyl alcohol fiber in spinning process, crosslinking the dialdehyde after dry-heat drawing of the fiber and applying a transition metal to the fiber in either step of fiber- making process.例文帳に追加

オートクレーブ養生セメントの補強材のように、高温湿潤状態での使用に最適な耐高温湿潤性の優れたポリビニルアルコール繊維を、安価に、低コストで製造する。 - 特許庁

In the first step of the chamber cleaning process, the stacked dielectric layer is let to contain a small quantity of fluorine, and the layer is isotropically etched, thus this process has an additional benefit of reforming the ability of filling the gap of the layer.例文帳に追加

チャンバクリーニングプロセスの第１のステップでは、堆積されている誘電層に少量の弗素を含ませ、等方的に層をエッチングして、層のギャップ充填能を改良する付加的な利益を有する。 - 特許庁

The image processing method for processing a target image includes a process (step 12) for creating function data which expresses the target image as functions using the CSRBF method, and a process (step 13) for processing the target image into a desired image using the function data created.例文帳に追加

対象画像を処理する画像処理方法は、ＣＳＲＢＦ法を用いて、前記対象画像を関数表現した関数データを生成する過程（ステップ１２）と、生成された関数データを用いて、前記対象画像が所望の画像となるように画像処理を行う過程（ステップ１３）とを具備する。 - 特許庁

A CPU 1 carries out an information acquisition process for reading printing setting information 6a set on a printing medium 6 by a reading device 5 (step S110), and carries out an information setting process for setting the information into the RAM 3 within the print processing device (step S111).例文帳に追加

ＣＰＵ１は、読取装置５により印刷メディア６上に設定された印刷設定情報６ａを読み取るための情報取得処理を実行し（ステップＳ１１０）、印刷処理装置内のＲＡＭ３に設定するための情報設定処理を実行する（ステップＳ１１１）。 - 特許庁

In the process of step S1, a camera part actuates a portion of an imaging device and in a process of step S2, the camera part detects the signal output of the actuated imaging element and outputs the detected signal output to a DSP (digital signal processor).例文帳に追加

ステップＳ１の処理において、カメラ部が、撮像素子の一部を起動し、ステップＳ２の処理において、カメラ部が、起動した撮像素子の信号出力を検出し、検出した信号出力をＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｇｎａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）に出力する。 - 特許庁

In a washing process step after a polishing process step of the aluminum substrates subjected to Ni-P plating, the aluminum substrates are treated for a required time by function water of plus or minus oxidation reduction potential, by which the surfaces of the substrates are reformed and the corrosion resistance is improved.例文帳に追加

Ｎｉ−Ｐメッキを施したアルミニウム基板の研摩工程を経た後の洗浄工程において、酸化還元電位がプラス又はマイナスの機能水により所要時間処理することにより、前記基板の表面を改質し、耐食性能を向上させるようにした。 - 特許庁

To provide a method for regenerating substrates by rapidly and surely peeling away the photosensitive layers on the substrates by a process step of swelling the photosensitive layers by immersing photoreceptors in a swelling liquid for a prescribed time and a process step of peeling away the swollen photosensitive layers by a brush secured with particulates.例文帳に追加

感光体を膨潤液に所定時間浸漬して感光層を膨潤させる工程及び該膨潤した感光層を微粒子を固着したブラシで剥離除去する工程により、基体上の感光層を短時間で確実に剥離除去して基体を再生する方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming the thin-film transistor comprises the steps of executing a plurality of times of a step of using a plasma chemical vapor deposition process in the same depositing chamber, and executing gas cleaning of the depositing chamber and film performing, at each execution step of using the process.例文帳に追加

薄膜トランジスタの形成において、プラズマ化学気相堆積法を用いたステップが、同一の堆積室内において複数回実施され、かつ、１回実施される毎に堆積室のガスクリーニングおよび予備成膜が行われる薄膜トランジスタ形成方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor forming method of this invention comprises a step to form a primary conductive metal compound film on a substrate by an organometallic chemical vapor deposition process, and a step to form a secondary conductive metal compound film on the primary conductive metal compound film by a physical vapor deposition process.例文帳に追加

前記方法は、基板上に有機金属化学蒸着工程によって第１導電性金属化合物膜を形成し、前記第１導電性金属化合物膜上に物理気相蒸着工程によって第２導電性金属化合物膜を形成することを含む。 - 特許庁

The method further includes a step of subjecting an inner surface of the first and/or second passage 10, 12 to a heat treatment process to be carburized, and a step of applying a hard stage electrochemical machining process to the carburized internal surface of the first and/or second passage 10, 12 to improve surface finish.例文帳に追加

さらに第１および／または第２の通路１０、１２の内部通路を浸炭熱処理工程にかけるステップ、表面仕上げを改善するために第１および／または第２の通路１０、１２の浸炭された内部表面へのハードステージの電解加工工程ステップを含む。 - 特許庁

The method includes a process step of suspension melting the alloy material 40 of the amorphous alloy member to obtain its melt and a tapping and casting process step of continuously casting the amorphous alloy member by tapping the melt to respective casting molds 31 successively existing below the melt.例文帳に追加

非晶質合金部材の合金材料４０を浮遊溶解してその溶湯を得る溶解工程と、この溶湯の下方に順次位置する鋳造型３１のそれぞれに前記溶湯を出湯することにより前記非晶質合金部材の連続鋳造を行う出湯・鋳造工程とを含む。 - 特許庁

To provide a nitrification and denitrification method by which a nitrification process step and denitrification process step may be efficiently carried out, microorganism carriers withstand long-term use at this time, high treatment performance may be stably achieved, the compactification of treating facilities is made possible and a treating time and treating cost may be reduced.例文帳に追加

硝化工程及び脱窒工程を効率よく行うことができ、その際微生物担体が長期の使用に耐え、安定して高い処理性能を達成でき、処理施設のコンパクト化を図り、処理時間や処理コストを低減しうる硝化脱窒方法を提供すること。 - 特許庁

The method for forming the film comprises (1) a process for coating the curing coating material on a matter to be coated, and (2) a process comprising an ultraviolet ray irradiating step and a heating step, wherein the curing coating material is cured.例文帳に追加

被塗装物に対して、硬化性塗料を塗布する工程（１）、紫外線を照射する段階および加熱する段階からなる硬化工程（２）を含む塗膜形成方法において、上記硬化性塗料が、上記の硬化性塗料組成物であることを特徴とする塗膜形成方法。 - 特許庁

To inexpensively arrange a chamfer portion in a two-step chamfer part with a die molding process while inhibiting the life of the die from being shortened, because though the chamfer portion in the two-step chamfer part is arranged on the edge or the like of a bore of sintered parts with a machining process, the method costs too much.例文帳に追加

焼結部品の軸穴の縁などに設ける２段面取りの面取り部は機械加工して設けているが、その方法ではコストが高くつくので、２段面取りの面取り部を金型成形によって金型の寿命低下を抑えながら安価に設置できるようにすることを課題としている。 - 特許庁

In a powder adhering process step, powder is applied to a slot rod 1 to adhere the powder to the inside surface of grooves 3 and the slot rod 1 is sent to a coated fiber housing process step where the respectively plural coated optical fiber ribbons 4 are laminated and housed in the grooves 3 and the slot type optical fiber cable is manufactured.例文帳に追加

粉体付着工程では、スロットロッド１に粉体を塗布して粉体を溝３の内面に付着させ、このスロットロッド１を心線収納工程に送って、その溝３内にそれぞれ複数のテープ状光ファイバ心線４を積層して収納し、スロット型光ファイバケーブルを製造する。 - 特許庁

In forming a lower core 13a by etching a lower core layer 13, a broad lower straight-line margin section 13d is formed (process step 2) and in forming an upper core 15 by etching an upper core layer 15, a broad upper straight-line margin section 15d is formed (process step 5).例文帳に追加

下部コア層１３をエッチングして下部コア１３ａを形成する際に、幅広の下部直線マージン部１３ｄを形成し（工程２）、また上部コア層１５をエッチングして上部コア１５ａを形成する際に、幅広の上部直線マージン部１５ｄを形成する（工程５）。 - 特許庁

The process (a) includes a process for writing the duplication use image into the built-in RAM as a part of the processed peripheral image by reading the duplication use image already used in the second processing step for the other block images and also used in the second processing step for the notable block image from the external RAM region.例文帳に追加

工程（ａ）は、外部ＲＡＭ領域から、他のブロック画像のための第２処理で既に利用され、注目ブロック画像のための第２処理で利用される重複利用画像を読み出して、処理済み周辺画像の一部として内蔵ＲＡＭ内に書き込む工程を含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the flanged developer carrying member has a process step of manufacturing the developer carrying member 1 by forming the film on the surface of the cylindrical substrate and a process step of adhering the flange 2 to the end of the developer carrying member 1 by using the anaerobic adhesive 5.例文帳に追加

また、円筒基体の表面に被膜を形成し、現像剤担持体１を作製する工程と、該現像剤担持体１の端部に、嫌気性接着剤５を使用してフランジ２を接着する工程とを有することを特徴とするフランジ付き現像剤担持体の製造方法である。 - 特許庁

Then the abnormality diagnostic (step S300 to S370) for determining existence of abnormality in the cold emission reducing process is executed accompanying these cold emission reducing process, and termination of the warm up drive control of the engine 22 is inhibited while the abnormality diagnostic is being performed (step S320).例文帳に追加

そして、このような冷間エミッション低減処理と共に、冷間エミッション低減処理の異常の有無を判定するための異常診断（ステップＳ３００〜Ｓ３７０）が実行され、当該異常診断が実行されている間、エンジン２２の暖機運転制御の終了が禁止される（ステップＳ３２０）。 - 特許庁

The method for manufacturing the substrates 1 having the plating layers consisting of the base metals has a plating immersion process step of forming the plating layers consisting of the base metals by immersing the substrate 1 into a plaiting tank 3 and a plating cleaning process step of cleaning the substrates by taking out the substrates out of the plating tank 33 and moving the same.例文帳に追加

卑金属からなるメッキ層を備える基板１の製造方法は、基板１をメッキ槽３３に浸漬して、卑金属からなるメッキ層を形成するメッキ浸漬工程と、基板１をメッキ槽３３から取り出して移動させ、基板１を洗浄するメッキ洗浄工程とを備える。 - 特許庁

The method for enhancing a transfer rate using a DLP and multiple channels is composed of a step 1 of carrying out an improved 4-handshake process, and a step 2 of executing the relevant mode using the DLP channel mode and the channel number which are determined in the process.例文帳に追加

本発明によるＤＬＰとマルチ-チャンネルを使用して転送効率を高める方法は、改善された４ハンドシェイク過程を実行するステップ１と、前記過程で決定されたＤＬＰチャンネルモードとチャンネル番号によって該当モードを実行するステップ２とで構成される。 - 特許庁

In addition to the process for producing a substrate, the process for manufacturing a circuit device 10 comprises a step for bonding a circuit element 12 to the packaging substrate 11 and connecting the electrode and the circuit element 12 electrically, and a step for forming sealing resin 17 to cover the circuit element 12.例文帳に追加

本発明の回路装置１０の製造方法は、上記基板の製造方法に加えて、実装基板１１に回路素子１２を固着して電極と回路素子１２とを電気的に接続する工程と、回路素子１２が被覆されるように封止樹脂１７を形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic sliding member which is capable of additionally improving the water-tightness between a sliding surface of the ceramic sliding member manufactured through a carbon film depositing process step in succession to a firing process step and a sliding surface slidingly contacting another member to be slid.例文帳に追加

焼成工程に続いて炭素皮膜付着工程を経て製造されるセラミックス製摺動部材の摺動面と他の被摺動部材と摺接する摺動面との間の水密性をより向上させることができるセラミックス製摺動部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The upper shell and the lower shell are respectively placed on the masking jig for the upper shell and the masking jig for the lower shell used in the coating process step 2 and are transported in this state to a drying furnace where the coatings of the outer peripheral surfaces of the upper shell and the lower shell are dried by heating in a drying process step S3.例文帳に追加

また、乾燥工程Ｓ３において、上シェル及び下シェルを、塗装工程Ｓ２で用いた上シェル用マスキング治具及び下シェル用マスキング治具にそれぞれ載置したままで乾燥炉に搬送して、上シェル及び下シェルの外周面の塗装を加熱乾燥させる。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrolyte membrane has a melting film-forming process of an electrolyte material, a cast film-forming process, a step of working into a film shape such as a wet solidification method, and a step of heating the material in a superheated steam atmosphere in which saturated steam is further heated and made a high temperature of 100°C or more.例文帳に追加

電解質材料を溶融製膜工程、キャスト製膜工程、湿式凝固法などの膜状に加工する工程と飽和水蒸気にさらに熱を加え１００℃以上の高温にした過熱水蒸気雰囲気下で加熱する工程を有する電解質膜の製造方法。 - 特許庁

This method has a first correction-polishing process (step S3) for conducting correction polishing while pressing a polishing tool onto the worked face by the first pressure, and a second correction-polishing process (step S6) for conducting correction polishing while pressing the polishing tool onto the worked face by the second pressure different in its value from that of the first pressure.例文帳に追加

研磨工具を第１の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第１補正研磨工程（ステップＳ３）と、研磨工具を第１の圧力と異なる値の第２の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第２補正研磨工程（ステップＳ６）とを有する。 - 特許庁