「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

A marking picture storing process for extracting and storing an image of a portion added with a mark from the image data acquired by the marking picture imaging process is performed (step S107).例文帳に追加

前記マーキング画像撮影処理により得られた画像データからマークが付加された部分の画像を抽出して保存するマーキング画像保存処理を実行する（ステップＳ１０７）。 - 特許庁

At this time, the voltage amplitude of a high-frequency voltage applied to the substrate S is made smaller in the process of forming the step S1 than that of the process of forming the second recessed part S2.例文帳に追加

このとき、段差Ｓ１を形成する工程では、基板Ｓに印加される高周波電圧の電圧振幅を、第２の凹部Ｓ２を形成する工程の電圧振幅よりも小さくする。 - 特許庁

The step 16c is so formed as to hit the edge of the wafer 3 for a semiconductor process when the wafer 3 for semiconductor process that is gripped with the pressing mechanism is released and pushed back.例文帳に追加

また、段差１６ｃは、押圧機構により把持される半導体プロセス用ウエハ３が解放されて押し戻されたときに半導体プロセス用ウエハ３のエッジに当たるように形成されている。 - 特許庁

In a step S_3, an exposure simulation for using the first and second exposing methods is performed for all pattern of the mask patterns, to check the degree of a process margin (process tolerance).例文帳に追加

ステップＳ_３ では、第１及び第２の露光方法を使ったときの古老シミュレーションをマスクパターンの全パターンに対してそれぞれ行い、プロセスマージン（プロセス裕度）の大小を確認する。 - 特許庁

To provide a thin-film pattern formation apparatus and its formation process, which simplify a formation step of a metal thin-film line, shorten the time required for the process, and also simplify its production equipment.例文帳に追加

金属薄膜ラインの成形工程を簡単にし、その作業時間を短縮し、かつ、製造装備を簡素化する薄膜パターン成形装置及びその成形方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the time of delivery and improve the productivity in a manufacturing process of a semiconductor read-only memory by executing a step of making binary information at a possibly later process.例文帳に追加

半導体リードオンリメモリ装置の製造工程において、２進情報の作り込み段階を、できるだけ後の工程で実施するようにして、短納期化と生産効率の向上を図る。 - 特許庁

To provide a recovery process improved to prevent a double-sided polishing step accompanied by removal of a large amount of material from being used; and to provide a device for executing the improved recovery process.例文帳に追加

大量の材料除去を伴う両面研磨ステップが使用されないものとなるように、改善された再生プロセス及びこの改善された再生プロセスを実行する装置を提供する。 - 特許庁

To provide a single poly non-volatile memory cell that can be operated on a low voltage and that can be manufactured by a conventional logic process combined an SOC manufacturing step for the simplification of a process.例文帳に追加

プロセスを簡単化するため、低電圧で操作できてＳＯＣ製作工程の統合された通常ロジックプロセスで製作できる単一ポリ不揮発性メモリーセルを提供する。 - 特許庁

The job is set corresponding to the fruit showing what is the purpose of the occupation, and a supply process showing in what step of the process for supplying the fruit the occupation is positioned.例文帳に追加

その職業が何を目的としているかを示す成果物と、成果物を供給する過程のどの段階に位置するかを示す供給過程とに対応させて職務を設定する。 - 特許庁

In an extraction pattern registering process in a step S101, extraction pattern data for use in a retrieval process is registered in an extraction pattern information database based on an input from a user.例文帳に追加

ステップＳ１０１における抽出パターン登録処理では、ユーザからの入力に基づいて、検索処理で利用する抽出パターンデータが抽出パターン情報データベースに登録される。 - 特許庁

The method for regenerating a resist process liquid includes steps of bringing a resist containing process liquid discharged in a resist removing step into contact with a heterogeneous photocatalyst to remove and decompose the resist.例文帳に追加

レジスト除去工程から排出されたレジスト含有処理液を不均一光触媒と接触させて、レジストを除去及び分解する工程を含むレジスト処理液の再生方法。 - 特許庁

To solve problems in a conventional art and to provide a uniform and efficient process for hot-drawing with a saved space in an accelerated one-step process.例文帳に追加

本発明の課題は、上記した従来技術の問題点を解決し、高速化したワンステッププロセスにおいて、省スペースで均一に且つ効率が良い加熱延伸プロセスを提供することにある。 - 特許庁

After the foreign matter removal process (S1) and before supply of silicon raw gas into the reaction vessel 2, a heat treatment process (Step S3) for heating the inside of the reaction vessel 2 is carried out.例文帳に追加

異物除去工程（ステップＳ１）の後で、且つ、反応容器２内にシリコン原料ガスを供給する前に、反応容器２内を加熱する熱処理工程（ステップＳ３）を行う。 - 特許庁

The transparent conductive material is obtained by two-step film forming processes including a process of forming a seed crystal layer on one surface of the substrate and a process of further forming a zinc oxide layer on the seed crystal layer.例文帳に追加

基材の片面に種結晶層を形成し、この種結晶層の上に酸化亜鉛層をを形成するという２段階の成膜プロセスを経て得られる透明導電性材料。 - 特許庁

In the step (B), at least one cycle is performed, in which a drying process and a wetting process are repeated such that temperatures and relative humidities are set to be varied within a range of ±5°C of dew-point variations in the drying process and the wetting process.例文帳に追加

工程（Ｂ）：金属材料に対して、乾燥工程及び湿潤工程での露点変動が±５℃以内の範囲内で温度及び相対湿度を変化させて設定した乾燥工程と湿潤工程とを繰り返すことを１サイクルとし、このサイクルを少なくとも１回行う工程。 - 特許庁

Optimization means 38 searches for the earliest final process finish time 30 through a step for selecting products in random order, a step for delivering data about the selected products to the production schedule data generation means 36, and a step for changing product selection order and worker allocation order.例文帳に追加

最適化手段３８が、製品をランダムな順番に選択して生産計画データ生成手段３６に渡し、製品選択順と作業者割り付け順を変更して、最も早い最終工程終了時刻３０を探索する。 - 特許庁

Provided is the process for the production of clavulanic acid comprising a step (a) of isolating clavulanic acid from an organic solvent, and a step (b) of treating the particles obtained in step (a) in a combined drier/mixer until the median of the particles becomes between 8 μm and 35 μm.例文帳に追加

ａ）有機溶媒からクラブラン酸を単離するステップと、ｂ）ステップａ）で得た粒子を、粒子のメジアンが８μｍと３５μｍの間になるまで、乾燥／混合兼用機中で処理するステップ、とを含む、該クラブラン酸粒子の製造方法。 - 特許庁

If the press and hold has not been finished in step S8, whether a time designated in the press and hold information has lapsed is decided in step S9, and, if not lapsed or already lapsed, the process returns to step S8 or S7, respectively.例文帳に追加

ステップＳ８で連続押しが終了されていなかった場合、ステップＳ９で連続押し情報で指定された時間が経過したか否かが判断され、経過していなかった場合、処理はステップＳ８に戻り、経過した場合、処理はステップＳ７に戻る。 - 特許庁

A method for operating the turbine (36) includes a step of connecting the turbine (36) with the rotor (38), a step of forming the rotor cavities (68, 70) in the rotor (38), and a step of injecting the process by-product gas (42) to the at least one of the rotor cavities (68, 70).例文帳に追加

タービン（３６）を運転する方法は、ロータ（３８）にタービン（３６）を連結するステップと、ロータ（３８）内に空洞（６８、７０）を形成するステップと、空洞（６８、７０）の少なくとも１つにプロセス副生ガス（４２）を注入するステップとを含む。 - 特許庁

In step S1, a controller 12 acquires which one of Instantaneous switching, WIPE and MIX switching methods is selected by a user, and the process proceeds to step S3 when the selected switching method is determined as WIPE in step S2.例文帳に追加

ステップＳ１において、制御部１２は、ユーザの選択した切替方法が瞬時切替、ワイプ、またはミックスのいずれであるのかを取得し、ステップＳ２において、選択された切替方法がワイプであると判定した場合、処理をステップＳ３に進める。 - 特許庁

The method 10 includes a step of molding the casting by a liquid metal cooled directional solidification process 12, a step 24 of eliminating metallic substances from the surface of the casting, and a step 26 of inspecting the surface of the casting.例文帳に追加

この方法１０は、液体金属冷却方向性凝固法１２により鋳造品を形成する段階、金属性物質を鋳造品の表面から除去する段階２４、及び鋳造品の表面を検査する段階２６を含んでいる。 - 特許庁

A prescribed recognition process is practiced by using the barcode image stored in the memory to generate barcode information (step ST3), the generated barcode information is stored (step ST4), and the barcode information is transmitted, when a transmission button is pushed (step ST5).例文帳に追加

そして、メモリに記憶されたバーコード画像を用いて所定の認識処理を行ってバーコード情報を生成し（ステップＳＴ３）、生成したバーコード情報を記憶して（ステップＳＴ４）、送信ボタンが押圧されたときに、バーコード情報を送信する（ステップＳＴ５）。 - 特許庁

When it is determined that an engine speed is a designated value or more in step 1 and it is determined that the engine is in a transient operation state in step 2, a process proceeds to step 3 and air fuel ratio feed back control is carried out with the upstream side air fuel ratio sensor.例文帳に追加

ステップＳ１で機関回転速度が所定値以上であると判定された場合およびステップＳ２で機関が過渡運転状態にあると判定はされた場合はステップＳ３に進み上流側空燃比センサで帰還空燃比制御を行う。 - 特許庁

The process includes the following steps: a step of placing the packaging device in a microwave oven, a step of raising the temperature of the product by exposing it to microwave radiation inside the oven, and a step of applying the product using an applicator.例文帳に追加

プロセスは次の段階、すなわち、 −包装器具をマイクロ波オーブンの中に配置する段階と、 −製品の温度を、製品をオーブン内部のマイクロ波照射に晒すことにより高くする段階と、 −製品をアプリケーターを使用して塗布する段階と、を含む。 - 特許庁

The process for the preparation thereof comprises a step containing the heat treatment at a specified condition of a mixture containing an epoxy resin and an organic silicon compound and water, and a step of mixing a photoinitiator with the above mixture heat treated in the above step.例文帳に追加

また，エポキシ樹脂と，有機ケイ素化合物と，水とを含む混合物に，所定の条件の熱処理を含むステップと，前記熱処理された前記混合物に光開始剤を混合するステップとを含むことを特徴とする製造方法にある。 - 特許庁

The process for producing 2-oxo-4-methylthiobutanoic acid or its salt includes a step (1) of reacting methanethiol with an organic base, and a step (2) of reacting the product obtained in the step (1) with 2-oxo-3-butenoic acid.例文帳に追加

メタンチオールと有機塩基とを反応させる工程（１）と、前記工程（１）で得られた生成物と２−オキソ−３−ブテン酸とを反応させる工程（２）とを有することを特徴とする２−オキソ−４−メチルチオブタン酸又はその塩の製造方法。 - 特許庁

The process comprises a glass body-manufacturing step wherein an anhydrous glass body 11' is manufactured, a rod-drawing step wherein the anhydrous glass body 11' is heated and drawn into an anhydrous glass rod 11 and a unification step wherein the anhydrous glass rod 11 is unified with a glass pipe 12.例文帳に追加

無水ガラス体１１’を作製するガラス体作製工程と、無水ガラス体１１’を加熱・延伸して無水ガラスロッド１１とするロッド延伸工程と、無水ガラスロッド１１とガラスパイプ１２とを一体化する一体化工程とを含む。 - 特許庁

Then it is determined whether a counter of frame No. shows an upper limit value (step S15), if the counter does not show the upper limit value, the process is returned to a step S8, and the average value of vehicle speed is calculated, if the counter of frame No. shows the upper limit value (step S16).例文帳に追加

次に、フレーム番号のカウンタが上限値であるか否かを判定し（ステップＳ１５）、カウンタが上限値でない場合には、ステップＳ８に戻り、カウンタが上限値である場合には、車両の速度の平均値を計算する（ステップＳ１６）。 - 特許庁

When there is a change in the fixed plan at a step ST1, or when the new technology has been adopted at the step ST2, a barrier function of a step ST3 is passed; otherwise, the barrier function is skipped and the next process is to take place.例文帳に追加

ステップＳＴ１において、既定方針に変更があった場合、またはステップＳＴ２において新技術の採用があった場合には、ステップＳＴ３の関所機能を通過させ、そうでない場合には関所機能をスルーして次工程に進む。 - 特許庁

The first correction step includes a Δ shift step of generating a Δ shift pattern based on the rectangle approximation pattern; and upon generating the Δ shift pattern in the Δ shift step, a side portion of the rectangle approximation pattern is shifted by an amount corresponding to the process bias Δ.例文帳に追加

第１補正工程は、矩形近似パターンに基いてΔ移動パターンを生成するΔ移動工程を有し、Δ移動工程においてΔ移動パターンを生成するにあたり、矩形近似パターンの側部を、プロセスバイアスΔの量だけ移動させる。 - 特許庁

In the process, a medical institution is specified to select a prescription format (Step S22 to 24) before the image is divided, and the divided images are displayed in contrast with conversion fields (Step S26) and displayed in contrast with correction fields (Step S27).例文帳に追加

その際、医療機関を特定し処方箋形式を選定して（ステップＳ２２〜２４）画像イメージを分割処理し、更に分割イメージと変換欄との対比表示や（ステップＳ２６）、分割イメージと校正欄との対比表示も行う（ステップＳ２７）。 - 特許庁

The method for manufacturing the ceramic industry product comprises (a molding step S3) of obtaining a first green body 5 by a dry press molding process, (a cutting step S4) of obtaining a second green body 6 by cutting the first green body 5, and (a baking step S6) of obtaining a tile 7 by baking the second green body 6.例文帳に追加

乾式プレス成形法により第１生素地５を得（成形工程Ｓ３）、第１生素地５を切断することにより第２生素地６を得（切断工程Ｓ４）、第２生素地６を焼成してタイル７を得る（焼成工程Ｓ６）。 - 特許庁

The method described above includes a process step of working the metallic layer 1 and the conductive layer 3 respectively by a photoetching method and a process step of working the insulating layer 2 by forming resist images in order to work the insulating layers and wet etching according to the resist images.例文帳に追加

金属層１と導電性層３をそれぞフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層２を加工するためのレジスト画像を形成し、当該レジスト画像に従ってウェットエッチングにより絶縁層２を加工する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In a calcination step that calcines the lower electrode 3, the calcination is performed at a low temperature at which only the low-temperature melting layer 3A melts, and in an annealing process step of the piezoelectric layer 4, the annealing process is performed at a high temperature at which the high-temperature melting layer 3B melts.例文帳に追加

下部電極３を焼成する焼成工程においては、低温溶融層３Ａのみが溶融する低い温度で焼成を行い、圧電層４アニール処理工程においては、高温溶融層３Ｂが溶融する高い温度でアニール処理を行う。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process step of forming a laminate of the base material film, the contactless data carrier elements, the photosetting resin composition layer and a transparent release film and a process step of forming the pressure sensitive adhesive layer by irradiating the laminate with rays through the transparent release film.例文帳に追加

製法は、基材フィルムと、非接触データキャリア要素と、光硬化性樹脂組成物層と、透明剥離フィルムとの積層体を形成する工程、及び透明剥離フィルムを介して光線を照射し、感圧性接着剤層を形成する工程を含む。 - 特許庁

In an etching process for etching an etching ground on a Si film by bringing SF_6 gas into the plasma state, this process comprises two steps: a large-quantity supplying step for supplying a large quantity of SF_6 gas; and a small-quantity supplying step for supplying a small quantity of SF_6 gas.例文帳に追加

ＳＦ_６ガスをプラズマ化してＳｉ膜上のエッチンググランドをエッチングするエッチング工程において、これを、多量のＳＦ_６ガスを供給する多量供給工程と、少量のＳＦ_６ガスを供給する少量供給工程との二工程から構成する。 - 特許庁

Then, in a second beam irradiation process step S3-2, electron beam scanning is conducted in the opposite direction from the beam scanning direction in the first beam irradiation process step S3-1 along the outer periphery of the cover from the point R to successively irradiate the electron beam to the point Q.例文帳に追加

続いて、第二のビーム照射工程ステップＳ３−２において、点Ｒから蓋体の外周に沿って第一のビーム照射工程ステップＳ３−１のビーム走査方向と対向する方向に順次ビームを走査して点Ｑまで電子ビームを照射する。 - 特許庁

The lid may be formed using a two-shot injection molding process in which the lid is formed in a first step and the outer layer of a softer material is formed on the skirt of the lid during the second step of the two-shot injection molding process.例文帳に追加

ふたは、二段階射出成形工程を使用して形成することができ、この工程では、第１のステップでふたが形成され、二段階射出成形工程の第２のステップの間に、ふたのスカート上に、より軟かい材料の外層が形成される。 - 特許庁

In the middle of a gradual start-up process with increasing step-by-step a rotation speed of a main shaft bearing to an operational rotation speed, such a rapid start-up process that the main shaft bearing is operated at a rotation speed faster than the operational rotation speed is provided.例文帳に追加

主軸軸受装置の回転速度を使用回転速度まで段階的に上げながら運転を行う漸次立ち上げ工程の途中に、主軸軸受装置を使用回転速度よりも大きな回転速度で運転する急速立ち上げ工程を設ける。 - 特許庁

The microorganism stuck carrier is obtained by a method including a process step of obtaining a product consisting of a nitrogenized carbonaceous material by heating the carbonaceous material in the presence of ammonia or an ammonium salt and a process step of sticking microorganisms to this product.例文帳に追加

本発明は、アンモニア又はアンモニウム塩の存在下で炭素質材料を加熱し、窒素化された炭素質材料からなる生成物を得る工程と、上記生成物に微生物を付着させる工程とを含む方法により得られる微生物付着担体である。 - 特許庁

This refining process is a further refining step in view of improving emulsion-forming ability (especially, WOW emulsion-forming ability) in the final stage of the whole polyglycerol fatty acid ester synthesis process, being characteristic in providing such a refining step.例文帳に追加

この精製工程は、全てのポリグリセリン脂肪酸エステル合成工程の最終段階において、エマルション形成能（特にＷＯＷエマルション形成能）の向上を図る観点から更に精製する工程であり、このような精製工程を設けた点に特徴がある。 - 特許庁

The method for manufacturing the spectacle lens includes a process step of obtaining the lens cut to a spectacle frame shape provided with an antireflection film mainly composed of silicon dioxide on the outermost layer of a lens base material and a process step of forming a water repellent layer on the outer side of the antireflection film of the lens.例文帳に追加

レンズ基材上の最外層に主として二酸化ケイ素からなる反射防止膜を備えた眼鏡枠形状に切削されたレンズを得る工程と、該レンズの反射防止膜の外側に撥水層を施す工程を含む眼鏡レンズの製造方法である。 - 特許庁

This method of manufacturing the blank for the magnetic thin film has a rolling process step (S5) of manufacturing a long-sized material consisting of a Co-base alloy by hot rolling and a pickling process step (S6) of immersing the long-sized material into aqueous solutions containing sulfuric acids.例文帳に追加

本発明に係る磁性薄膜製造用素材の製造方法は、熱間圧延により、Ｃｏ基合金からなる長尺材を製造する圧延工程（Ｓ５）と、硫酸を含む水溶液中に長尺材を浸漬する酸洗工程（Ｓ６）とを備えている。 - 特許庁

A method of protecting an optical element of an apparatus including the optical element comprises: a step of providing a cap layer to the optical element by a deposition process; and a step of removing at least part of the cap layer from the optical element in the removal process described above during or after use of the apparatus.例文帳に追加

光学エレメントを含む装置の光学エレメントを保護する方法は、付着プロセスによってキャップ層を光学エレメントに提供し、装置の使用中または使用後に、上述した除去プロセスで光学エレメントからキャップ層の少なくとも一部を除去する。 - 特許庁

A process, from which an error detection is required for data integrity, is executed in the lock-step processor mode to compare an output, while a process, in which high performance is required and data integrity is not important, is executed by the processor in the free-step processor mode.例文帳に追加

データの完全性のために誤り検出が要求されるプロセスは、ロックステップ・プロセッサモードのプロセッサで実行し出力を比較し、高性能が要求され、且つ、データの完全性がほとんど重要でないプロセスはフリーステップ・プロセッサモードのプロセッサで実行させる。 - 特許庁